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关于半导体检测分析设备ICP-MS的日常维护 被引量:1

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摘要 介绍了半导体检测设备ICP-MS在半导体工业中的发展及几个重要组成部件的功用,着重介绍了该设备各主要部件的维护。
出处 《电子工业专用设备》 2004年第4期59-60,共2页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
  • 相关文献

参考文献4

  • 1KE贾维斯 AL格雷 等.电感耦合等离子体质谱手册[M].北京:原子能出版社,1997.157-234.
  • 2HP 4500 ChemStalion Administration and Maintenance Manual.
  • 3K.E.贾维斯 A.L.格雷 R.S.霍克电感耦合等离子体质谱手册[M].,..
  • 4HP 4500 ChemStation Administration and Maintenance Manual

共引文献8

同被引文献13

引证文献1

二级引证文献4

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