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射频溅射两步法制备立方氮化硼(c-BN)薄膜 被引量:1

Two-step deposition of cubic boron nitride thin film by RF sputtering technique
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出处 《科技通讯(上海)》 CSCD 2004年第1期14-18,共5页
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共引文献11

同被引文献27

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