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超辐射发光管端面AR膜的设计与制备

Design and fabrication of AR film for super-luminescent diode facets
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摘要 在中心波长1310nm的InGaAsP半导体激光器端面设计并镀制了剩余反射率小于0.03%的三层减反射膜,得到了放大自发辐射波纹小于0.5dB的超辐射发光管。 Using a triple-layer antireflection coating on facets of InGaAsP semiconductor laser chips,the minimum facet reflectivity <0.03% for the center-wavelength of 1310nm and the super-luminescent diode of ASE ripple<0.5dB are obtained.
出处 《光学仪器》 2004年第2期51-54,共4页 Optical Instruments
基金 国家"863计划"资助项目(2003AA311080)
关键词 宽带增透膜 超辐射发光管 极低剩余反射率 放大自发辐射 半导体激光器 三层减反射膜 wide band AR film super-luminescent diode ultra-low reflectivity amplified spontaneus emission(ASE)
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参考文献2

二级参考文献1

  • 1林永昌,光学薄膜原理,1990年,103页

共引文献7

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