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日本试制成功耐极端紫外线的掩模与掩模坯料
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职称材料
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出处
《现代化工》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期66-66,共1页
Modern Chemical Industry
关键词
日本保谷公司
试制
半导体
耐极端紫外线
掩模
掩模坯料
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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1
等离子体极端紫外线光刻光源技术[J]
.现代化工,2004,24(8):70-71.
现代化工
2004年 第4期
职称评审材料打包下载
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