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高精度4英寸硅片腐蚀装置

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摘要 高精度4英寸硅片腐蚀装置是采用微机械制造技术(MEMT)和微电子机械系统(MEMS)制造硅传感器的关键设备之一。它采用计算机智能控制,一次可自动完成多片4英寸硅片的各向异性腐蚀,无需人工控制,腐蚀一致性好、效率高。结合攻关项目的研究成果重点介绍了高精度4英寸硅片腐蚀装置的主要技术指标、腐蚀机理、工艺、结构特点及设备的主要关键技术,并给出了设备的性能测试指标。
出处 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2004年第5期6-7,共2页 Instrument Technique and Sensor
基金 国家十.五科技攻关项目
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参考文献2

  • 1SEIDEL H. Anisotropic etching of crystalline silicon in alkaline solutions,J. Electrochem. Soc., 1990,137 : 3612.
  • 2SEIDEL H.Anisotropic etching of crystalline silicon in alkaline solutions,J.Electrochem.Soc.,1990,137:3612.

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