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脉冲高能量密度等离子体沉积新型TiAlN薄膜 被引量:1

New Type of TiAlN Film Deposited by Pulsed High Energy Density Plasma
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摘要 利用脉冲高能量密度等离子体技术在室温条件下 ,在 45钢基材上制备出了 Ti Al N薄膜。利用 XRD、SEM等手段分析了薄膜的相组成及显微组织 ,利用纳米压痕仪测试了薄膜的纳米硬度分布及薄膜与基材的结合力。结果表明 :薄膜主要组成相为 Ti Al N,薄膜组织致密、均匀 。
出处 《新技术新工艺》 北大核心 2004年第5期54-55,共2页 New Technology & New Process
关键词 脉冲高能量密度等离子体 TiA1N薄膜 45钢 沉积 XRD SEM 显微组织 相组成 纳米压痕仪 pulsed high energy density plasma,TiAlN film,microstructure
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参考文献8

二级参考文献17

共引文献39

同被引文献15

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引证文献1

二级引证文献39

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