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中美将合作成立纳米科技设计研究所
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职称材料
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出处
《新材料产业》
2004年第3期74-74,共1页
Advanced Materials Industry
关键词
中国
美国
纳米科技设计研究所
IC设计
分类号
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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65nm及55nm miniIO,可节省40%的芯片面积,并兼具稳固的ESD效能[J]
.电子设计技术 EDN CHINA,2009(10):22-22.
2
李蜀霞,刘辉华,赵建明,何春.
超深亚微米IC设计中的天线效应[J]
.中国集成电路,2008,17(4):50-54.
被引量:1
3
ADI公司资助中国三所大学实验室[J]
.电子设计应用,2008(2):118-118.
新材料产业
2004年 第3期
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