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A novel technique for predicting ionizing radiation effects of commercial MOS devices 被引量:1

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出处 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2004年第6期948-953,共6页 中国物理B(英文版)
  • 相关文献

参考文献9

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  • 9Hughes H L 1975 IEEE Trans. Nucl. Sci. 22 2118.

同被引文献7

引证文献1

二级引证文献1

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