摘要
着眼于设计器件的要求,从CAD技术的开发环境入手,采用全定制的设计方法和分层设计的概念,较方便地达到了光电器件版图设计的基本要求。
The paper describes pattern design for optoelectronic devices by CAD technique. Full-custom design approach is used and concept of hierarchy design is introduced.
出处
《半导体光电》
CAS
CSCD
北大核心
1993年第4期384-387,共4页
Semiconductor Optoelectronics
关键词
CAD
全定制
光电器件
版图设计
CDA Technique
Full-Custom Design Approach
Hierarchy Design
