摘要
抗蚀剂是由酚醛树脂成膜剂、重氮萘醌光敏剂、添加剂和溶剂四大类组成,为提高集成电路等器件制作的生产量,就要缩短曝光时间,增加抗蚀剂的感光灵敏度,光敏剂的结构及加入量将影响胶的感光性、曝光量、操作宽容度和耐热性等.本文对正性抗蚀剂合成过程中加入光敏剂的效果作一报道,以设计出一条提高其酯化度的工艺路线。
出处
《牡丹江师范学院学报(自然科学版)》
2004年第2期20-21,共2页
Journal of Mudanjiang Normal University:Natural Sciences Edition