期刊文献+

激光化学气相沉积(LCVD)制取TiN薄膜 被引量:4

Production of TiN Film by Means of Laser Chemical Vapor Deposition
下载PDF
导出
摘要 研究了在W 1 8Cr4V高速钢基体上 ,用CO2 连续激光诱导化学气相沉积TiN薄膜的工艺方法。激光功能 6 0 0W ,在H2 、N2 、TiCl4 反应系统中沉积出TiN薄膜 ,薄膜的颜色呈金黄色 ,显微硬度为 2 5 0 0HV。 The processing for CO 2 continuous laser chemical vapor depositing TiN film on W18Cr4V high speed steel matrix has been studied.The laser power is 600kw and the TiN film is diposited in H 2-N 2-TiCl 4 reacting system.The film shall display golden colour,with its microhardness being 2500HV.
作者 王豫
机构地区 安徽工业大学
出处 《热处理》 CAS 2004年第2期33-36,共4页 Heat Treatment
基金 安徽省教育厅资助课题
关键词 激光化学气相沉积 LCVD TIN薄膜 高速钢 laser chemical vapor deposition film
  • 相关文献

参考文献4

  • 1王家全.激光加工技术[M].北京:中国计量出版社,1992..
  • 2Chen X L, Mazumder J. in Situ laser - induced fluorescence studies of laser chemical Vapor deposition of TiN thin films[ J]. Applied physics letters,1994,65 (3) :298 -300
  • 3A. Kar, J. Mazumder. Laser chemical vapor deposition of thin films [J]. Materials Science & Engineering, 1996, B41:368 -373
  • 4王豫.化学气相沉积TiN薄膜组织性能研究[J].热处理,2003,18(2):14-17. 被引量:2

二级参考文献4

  • 1章守华.合金钢[M].北京:冶金工业出版社,1988,4..
  • 2A. Eroem and R. F. Hochman. Surf Coat Technol, 1988. 36.755--760.
  • 3Sundgren JE, Greene JE. J Vac Sci Technol, 1986, 4(3). 498--502.
  • 4Rocher B, Kappl H, Pfeifer Sehaller I, et al. Surf Coat Technol, 1997. 97. 200--203.

共引文献2

同被引文献81

引证文献4

二级引证文献59

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部