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离子束轰击法金刚石薄膜抛光 被引量:2

Polishing of CVD Diamond Films by Ion Beam Irradiation
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摘要 本文采用氩离子束轰击法,对不同晶体学表面形貌的CVD金刚石膜进行抛光处理。结果表明,对不同表面形貌的金刚石膜,应合理选择离子束轰击入射角,提高离子束加速电压有利于提高抛光效率,(100)择优生长的金刚石膜最容易得到高的表面平整度。 To improve the surface roughness of CVD diamond films, ion beam milling was used to polish the film. The results of this experiment indicate that the ideal incident angle of ion beam varies with the surface morphology and that high accelaration voltage of ion beam is beneficial to achieving high polishing rate. It was also found that the film exposing (100) facets can be most easily polished to achieveRa 28 nm surface roughness.
出处 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第5期503-507,共5页 Journal of University of Science and Technology Beijing
基金 国家高技术计划新材料领域专家委员会资助项目 863-715-03-02-02
关键词 金刚石 薄膜 抛光 离子束轰击法 diamond ,film,polishing,ion beam / cvddiamond
  • 相关文献

参考文献2

  • 1蒋高松,1991年
  • 2郑周,金刚石薄膜研究进展,1991年

同被引文献13

引证文献2

二级引证文献25

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