摘要
概述了重要的铁电薄膜材料及其应用,指示了不同应用中需要解决的关键技术,评价了新近发展起来的制备方法与后处理技术。
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
1993年第5期33-37,共5页
Materials Reports
同被引文献30
-
1邓亮,田莳.航空航天领域中有广泛应用前景的铁电薄膜[J].材料工程,1995,23(3):12-15. 被引量：2
-
2王弘,王民.铁电薄膜与集成铁电学[J].高技术通讯,1995,5(1):53-58. 被引量：16
-
3Hu W S,Lin Z G,Guo X L,et al. Pulsed laser deposition of (001) texture LiNbO3 films on Al2O3/SiO2/Si substrate[J] .Applied Surface Science,1999,141(1-2): 197 ～ 200.
-
4Shibata Y,et al. Strain mechanism of LiNbO3/sappire heterostructure grown by pulsed laser deposition[J] .Jpn J Appl,1997,36(12A) :7344 - 7347.
-
5Kawagnchi T, Yoon D H, Minakata M, et al. Fabrication of thin-film waveguide QPM-SHG device by domain-inverted liquid-phase exipaxy[ J ]. J Crys Grow,1998,191(1-2): 152 ～ 129.
-
6Yamada A, Tanada H, Satioh M. Photorefractive damage in LiNbO3 thin films optical waveguides grown by liquid phase epitaxy[J]. J Appl, 1994,76;1776.
-
7Kawaguchi T, Yoon D-H, Minakaka M,et al. Growth of high crystalline quality LiNbO3 thin films by a new liquid phase eptitaxial technique from a solidliquid coexisting melt [ J ]. J Crystal Growth, 1995,152: 87.
-
8Lu D X, et al. Physical and optical properties of sputtered lithium niobate thin films[ A ]. Proceedings of SPIE-the international society for optical engineering [C], 1996,2897:361 ～368.
-
9Park S K, Baek M S, Bac S C, et al. (012) orientation of LiNbO3 films fabricated by rf magnetron sputtering[J]. Ungyong Mulli, 1999,12(2):117 ～ 122.
-
10Shimizu M, funshima Y, Nishida T, et al. Preparation and optical waveguide properties of LiNbO3 thin films by RF magnetron sputtering[ J ]. Jpn J Appl Phys,1993,32(9B) :4111 ～ 4114.
引证文献2
-
1戴自璋.铁电薄膜材料的性能,应用和发展前景[J].化工新型材料,1997,25(6):26-28.
-
2张一兵,翁文剑,杜丕一,沈鸽,韩高荣,叶志镇.LiNbO_3薄膜的制备方法和应用前景[J].材料热处理学报,2002,23(1):65-69. 被引量：1
-
1刘光聪.压电陶瓷材料的新近走势[J].世界产品与技术,2001(6):41-43. 被引量：6
-
2余声明.磁性材料的新近发展[J].世界产品与技术,2000(12):11-15.
-
3毛哲.几种异步电动机保护装置的比较与分析[J].武汉食品工业学院学报,1997(2):45-48.
-
4余声明.磁性材料的新近发展[J].世界产品与技术,2003(1):62-65.
-
5侯识华,宋世庚,郑应智,马远新,郑毓峰.Sol-Gel法制备PLZT系铁电薄膜[J].材料科学与工艺,2002,10(1):107-112. 被引量：6
-
6张其士,李志兰.铁电薄膜材料的应用与制备[J].火花塞与特种陶瓷,1997(2):48-52.
-
7王悦辉,庄志强.铁电薄膜材料的研究进展[J].现代技术陶瓷,2002,23(4):19-22. 被引量：4
-
8余声明.片式电感与高频应用[J].国际电子变压器,2009(9):97-102.
-
9曹海霞.铁电薄膜材料的物理特性及其应用[J].物理教师,2012,33(8):61-63.
-
10房昌水.材料科学的趋势——薄膜材料需求增加[J].国际学术动态,2000(6):40-40.
