光刻技术在微电子设备上的应用及展望

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摘要用光学复制的手段在半导体内形成相应的图像,其主要是为电路的制作和微电子设备服务的,这是光刻技术的原理.随着我国科技的发展,我国光刻技术也进入成熟发展阶段,其广泛应用在集成电路的生产中,光刻能力已经比较成熟.在未来,微电子设备上的光刻技术还会得到进一步发展.该文就是对光刻技术在微电子设备上的应用和展望进行了具体的分析.

作者王瑾香

机构地区国家知识产权局专利局专利审查协作天津中心

出处《军民两用技术与产品》 2017年第24期83-83,共1页 Dual Use Technologies & Products

关键词光刻技术微电子设备应用和展望

分类号 F4 [经济管理—产业经济]

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