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AIN、GaN立方晶体的静态性质和AIN/GaN异质结的价带偏移 被引量:1
1
作者 何国敏 郑永梅 王仁智 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1997年第1期30-35,共6页
采用LMTO能带从头计算方法,计算了闪锌矿(立方)结构AIN和GaN的静态性质;用平均键能方法,预言了AlN与GaN自由应变生长、以AlN为衬底和以GaN为衬底等三种不同应变状态下AlN/GaN应变层异质结的△Ev值;最后,采用超原胞(AIN)n(GaN... 采用LMTO能带从头计算方法,计算了闪锌矿(立方)结构AIN和GaN的静态性质;用平均键能方法,预言了AlN与GaN自由应变生长、以AlN为衬底和以GaN为衬底等三种不同应变状态下AlN/GaN应变层异质结的△Ev值;最后,采用超原胞(AIN)n(GaN)n(001),(n=1,3,5)界面自洽计算方法,考察了超晶格中平均键能Em的“对齐”程度和验证了价带偏移△Ev计算结果的准确性。 展开更多
关键词 静态性质 应变层 异质结 价带偏移 半导体材料
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Si/Ge应变层异质结的价带偏移理论计算
2
作者 王仁智 郑永梅 +2 位作者 柯三黄 黄美纯 朱梓忠 《计算物理》 CSCD 北大核心 1996年第2期136-140,共5页
在应变异质结价带偏移从头算赝势法的理论计算中,建议一种以平均键能为参考能级的△E_v 值理论计算方法,该方法在以 Si 为衬底、以 Ge 为衬底和自由共度生长等3种不同应变情况的 Si/Ge 异质结价带偏移△E_v 值计算中,分别得到0.731eV、0... 在应变异质结价带偏移从头算赝势法的理论计算中,建议一种以平均键能为参考能级的△E_v 值理论计算方法,该方法在以 Si 为衬底、以 Ge 为衬底和自由共度生长等3种不同应变情况的 Si/Ge 异质结价带偏移△E_v 值计算中,分别得到0.731eV、0.243eV 和0.521eV 的计算结果。 展开更多
关键词 异质结 价带偏移 理论计算 锗/硅 半导体
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Si/Ge应变层异质结价带偏移的剪裁与设计
3
作者 王仁智 黄美纯 +1 位作者 柯三黄 李开航 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1995年第4期313-318,共6页
讨论应变层异质结价带偏移的剪裁、设计方法,研究Si/Ge应变层异质结价带偏移设计参数与应变条件的关系,基于异质结中平均键能“对齐”,得到适用于Si/Ge异质结价带偏移剪裁与设计的计算公式和图表。
关键词 价带偏移 应变层 异质结 外延生长
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多元合金异质结In_xGa_(1-x)As/In_xAl_(1-x)As的价带偏移
4
作者 郑金成 郑永梅 王仁智 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1997年第1期47-51,共5页
采用LMTO-ASA能带计算方法,研究三元合金InlGa4-lAs4和InlAl4-lAs4(l=0,1,2,3,4等五个有序态)的能带结构和平均键能Em;在此基础上,将原子集团展开与平均键能方法结合起来计算了Inx... 采用LMTO-ASA能带计算方法,研究三元合金InlGa4-lAs4和InlAl4-lAs4(l=0,1,2,3,4等五个有序态)的能带结构和平均键能Em;在此基础上,将原子集团展开与平均键能方法结合起来计算了InxGa1-xAs/InxAl1-xAs异质结的价带偏移ΔEv(x)值.研究表明:该异质结的ΔEv(x)值随合金组分x的变化接近于线性;ΔEv(x)的理论计算值与实验结果相当符合. 展开更多
关键词 异质结 价带偏移 半导体 铟镓砷化合物
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Al_xGa_(1-x)As/GaAs价带偏移的理论计算
5
作者 王仁智 郑永梅 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第3期161-165,共5页
AlxGa1-xAs/GaAs合金型异质结价带偏移的研究中,采用以平均键能为参考能级的ΔEv理论计算方法,得到ΔEv(x)=0.531x+0.001x2的理论计算结果.该计算结果与目前的一些实验结果符合较好.
关键词 ALGAAS 砷化镓 价带偏移
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用XPS测量ZnS_(0.8)Te_(0.2)/G_aP半导体异质结的价带偏移
6
作者 孙汪典 《暨南大学学报(自然科学与医学版)》 CAS CSCD 1999年第3期28-32,共5页
应用X射线光电子能谱(XPS)对分子束外延生长的ZnS(0.8)Te(0.2)/GaP半导体异质结进行直接法测量,得其价带偏移值为1.5eV;采用芯态能级技术法测量,得其价带偏移值为1.45eV在测量误差范围内,两种方法... 应用X射线光电子能谱(XPS)对分子束外延生长的ZnS(0.8)Te(0.2)/GaP半导体异质结进行直接法测量,得其价带偏移值为1.5eV;采用芯态能级技术法测量,得其价带偏移值为1.45eV在测量误差范围内,两种方法测得的结果相一致. 展开更多
关键词 半导体 异质结 价带偏移 XPS 锌硫碲化合物
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AlN/GaN异质结的价带偏移计算
7
作者 何国敏 郑永梅 王仁智 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1996年第3期354-359,共6页
用平均键能方法,研究了AlN与GaN自由应变生长、以AlN为衬底和以GaN为衬底等三种不同应变状态下AlN/GaN应变层异质结的价带偏移.着重尝试了能带中含浅d态的情况下,用平均键能方法计算异质结的△Ev值.由于目前... 用平均键能方法,研究了AlN与GaN自由应变生长、以AlN为衬底和以GaN为衬底等三种不同应变状态下AlN/GaN应变层异质结的价带偏移.着重尝试了能带中含浅d态的情况下,用平均键能方法计算异质结的△Ev值.由于目前还没有可供比较的实验值或理论计算结果,为检验平均键能方法计算的可靠性,又采用能同时计入各种影响△Ev因素的较严格的超原胞(AlN)n(GaN)n(001),(n=1.3,5)界面自洽计算方法,验证超晶格中平均键能Em的“对齐”程度和价带偏移△Ev的计算结果. 展开更多
关键词 应变层异质结 价带偏移 半导体
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应变层超晶格界面AISb-GaSb,AISb-InSb和GaSb-InSb的价带偏移
8
作者 柯三黄 黄美纯 王仁智 《厦门大学学报(自然科学版)》 CSCD 北大核心 1995年第6期918-923,共6页
采用平均键能理论结合形变势方法对由AISb,GaSb和InSb所构成的应变超晶格界面在任意应变状态下的价带偏移值进行了确定,并分析了阳离子浅d轨道对价带偏移值的影响.结果表明,它们的价带偏移值具有显著的应变效应,此一... 采用平均键能理论结合形变势方法对由AISb,GaSb和InSb所构成的应变超晶格界面在任意应变状态下的价带偏移值进行了确定,并分析了阳离子浅d轨道对价带偏移值的影响.结果表明,它们的价带偏移值具有显著的应变效应,此一显著的应变效应来源于应变的单轴分量及其与自旋-轨道分裂能量的耦合.这一效应导致了AISb-lnSb和GaSb-InSb系统中最高价带排列的Ⅰ-Ⅱ型超晶格的转变. 展开更多
关键词 应变层超晶格 价带偏移 半导体
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用平均键能确定异质结价带偏移的准确性研究
9
作者 王仁智 柯三黄 +1 位作者 郑永梅 黄美纯 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第20期1856-1859,共4页
我们建议的以平均键能为参考能级的异质结价带偏移△E_v值的理论计算方法已在一系列晶格匹配的异质结的△E_v值的理论计算中获得比一般线性理论方法更准确的结果,几乎达到计算量极大的界面自洽计算方法(也称为非线性理论方法)的准确性.... 我们建议的以平均键能为参考能级的异质结价带偏移△E_v值的理论计算方法已在一系列晶格匹配的异质结的△E_v值的理论计算中获得比一般线性理论方法更准确的结果,几乎达到计算量极大的界面自洽计算方法(也称为非线性理论方法)的准确性.本文对于由AlAs和GaAs构成的AlAs/GaAs异质结的(110)、(111)以及(100)三种不同晶面的(AlAs)_3(GSAS)_3超原胞(简称SL_3),分别采用E_m为参考能级的方法和界面自洽方法进行了理论计算和比较,全面考察SL_3中的平均键能E_m对齐程度与界面结构、界面电荷转移及计算方案的关系,揭示以平均键能为参考能级的△E_v理论计算方法可达到界面自洽方法的准确性的主要原因. 展开更多
关键词 异质结 价带偏移 平均键能 半导体
原文传递
多晶CdS/CdTe异质结界面的能带偏移 被引量:1
10
作者 黄代绘 吴海霞 +1 位作者 李卫 冯良桓 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期1144-1148,共5页
采用真空蒸发法制备了CdS和CdTe,并对其结构和光学性质进行了研究.原位制备了衬底沿(001)高度择优取向的CdS/CdTe异质结,研究了其结构、电子学性质.获得的CdS/CdTe半导体异质结的价带偏移ΔEV=0.98eV±0.05eV,导带偏移ΔEc=0.07... 采用真空蒸发法制备了CdS和CdTe,并对其结构和光学性质进行了研究.原位制备了衬底沿(001)高度择优取向的CdS/CdTe异质结,研究了其结构、电子学性质.获得的CdS/CdTe半导体异质结的价带偏移ΔEV=0.98eV±0.05eV,导带偏移ΔEc=0.07±0.1eV. 展开更多
关键词 真空沉积 Cds/CdTe异质结 价带偏移 导带偏移
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铜铟硒与铜铟硫太阳能电池中有序缺陷化合物的性质及对能带偏移的影响
11
作者 余斌 徐飞 +5 位作者 马忠权 周平华 石建伟 郑玲玲 李拥华 洪峰 《上海大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2012年第3期271-276,共6页
利用第一性原理模拟计算铜铟硒(CIS)太阳能电池CIS吸收层,及CIS中普遍存在的有序缺陷化合物(ordered defect compound,ODC)CuIn_5Se_8的性质.依据CuIn_5Se_8形成的方式,结合对称性越高、能量越低的原则,建立CuInS_2中的ODC-CuIn_5S_8结... 利用第一性原理模拟计算铜铟硒(CIS)太阳能电池CIS吸收层,及CIS中普遍存在的有序缺陷化合物(ordered defect compound,ODC)CuIn_5Se_8的性质.依据CuIn_5Se_8形成的方式,结合对称性越高、能量越低的原则,建立CuInS_2中的ODC-CuIn_5S_8结构,并从态密度角度讨论CuInS2与CuIn_5S_8的差异.分别选用ZnSe和CuI半导体作为CIS和CuInS_2电池的缓冲层,利用第一性原理计算得到价带偏移(valence band offset,VBO).在ZnSe/CIS界面处,CIS的价带顶(valence band maximum,VBM)比ZnSe高0.52 eV;在CuI/CuInS_2界面处,CuI的价带顶比CuInS_2低0.37 eV,表明CuI非常适合应用于CuInS_2电池缓冲层.ODC中由于Cu的缺失,其d轨道电子和阴离子p轨道电子的p-d排斥力减小,使ODC材料的价带顶相对于自身本征材料有所下降. 展开更多
关键词 第一性原理计算 太阳能电池 有序缺陷化合物 价带偏移 p-d耦合
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碲镉汞红外焦平面阵列探测器技术的最新进展(下) 被引量:2
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作者 高国龙 《红外》 CAS 2018年第3期44-48,共5页
为了抑制暗电流进而提高工作温度,最近有人提出了一种基于单极nBn结构的新型红外探测器体系机构。图4示出了nBn探测器的能带草图,它包括一个n型窄带隙吸收区、一层与之耦联的宽带隙势垒薄膜以及随后的一个窄带隙接触区。这种nBn器件... 为了抑制暗电流进而提高工作温度,最近有人提出了一种基于单极nBn结构的新型红外探测器体系机构。图4示出了nBn探测器的能带草图,它包括一个n型窄带隙吸收区、一层与之耦联的宽带隙势垒薄膜以及随后的一个窄带隙接触区。这种nBn器件的应用的关键点在于它在保持大的导带偏移的同时能保持0价带偏移(对于少数空穴来说就是无势垒)。这种势垒安排允许光生少数载流子空穴即使在非常低的偏压下也能流向未受阻的接触区,同时又能使导带中的大能量势垒阻挡住多数载流子的暗电流、再次注入的光电流和表面电流。 展开更多
关键词 阵列探测器 红外焦平面 碲镉汞 技术 价带偏移 红外探测器 少数载流子 多数载流子
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C/BN_xC_(2(1-x))、BN/BN_xC_(2(1-x))和C/BN异
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作者 郑永梅 王仁智 +1 位作者 郑金成 何国敏 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1996年第5期705-709,共5页
采用原子集团展开和平均键能相结合的方法.研究了宽带隙高温半导体、合金型应变居异质界面C/BNxC2(1-x)、BN/BNxC2(1-x)和生长在BNxC2(1-x)合金衬底上的C/BN应变层异质结的价带偏移△Ev.结... 采用原子集团展开和平均键能相结合的方法.研究了宽带隙高温半导体、合金型应变居异质界面C/BNxC2(1-x)、BN/BNxC2(1-x)和生长在BNxC2(1-x)合金衬底上的C/BN应变层异质结的价带偏移△Ev.结果表明:C/BNxC2(1-x)和BN/BNxC2(1-x)的△Ev随x的变化是非线性的,而应变层C/BN的△Ev随x的变化是接近于线性;三种异质结的△Ev值随x的变化关系决定于异质界面两侧带阶参数Emv随x的变化规律. 展开更多
关键词 宽带隙半导体 应变层超晶格 价带偏移
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Study on Valence Band Offsets atStrained Heterojunctions
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作者 ZHENG Yong-mei (Dept. of Phys.,Xiamen University, Xiamen 3610052, CHN) 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 1999年第4期198-202,220,共6页
A method, which can predict the valence band offsets at strained layer heterojunctions under different strain situations only by calculating band structures and deformation parameters of the bulk materials, is suggest... A method, which can predict the valence band offsets at strained layer heterojunctions under different strain situations only by calculating band structures and deformation parameters of the bulk materials, is suggested. The applicability of this method is verified by calculation of the valence band offsets at strained layer heterojuntions ,such as InP/InAs, InP/GaP, GaAs/InAs, GaP/GaAs and AlAs/InAs with various strain conditions. 展开更多
关键词 Strained Heterojunction Valence Band Offset Average Bond Energy Method Deformation Potential
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SiGe上NbAlO栅介质薄膜微结构和电学性能分析
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作者 宋朝瑞 程新红 +1 位作者 何大伟 徐大伟 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期120-124,共5页
本文针对SiGe上Al2O3/NbAlO/Al2O3三明治结构介质栈的热稳定性和电学性能进行了研究。高分辨透射电镜(HRTEM)测试表明退火后薄膜是结晶的,同步辐射X射线反射率(XRR)和X射线衍射(XRD)分析表明在薄膜中存在超晶格结构,有0.5nm的界面层存... 本文针对SiGe上Al2O3/NbAlO/Al2O3三明治结构介质栈的热稳定性和电学性能进行了研究。高分辨透射电镜(HRTEM)测试表明退火后薄膜是结晶的,同步辐射X射线反射率(XRR)和X射线衍射(XRD)分析表明在薄膜中存在超晶格结构,有0.5nm的界面层存在,X射线光电子谱(XPS)表明界面层主要成分是SiOx,介质层与SiGe衬底之间的价带偏移是2.9eV。电学测试分析给出的等效栅氧厚度和介电常数分别是1.8nm和19。 展开更多
关键词 NbAlO栅介质 价带偏移 超晶格
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Enhanced visible-light photocatalytic activity of a g-C_3N_4/m-LaVO_4 heterojunction: band offset determination 被引量:6
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作者 Xiaoping Liu Hao Qin Weiliu Fan 《Science Bulletin》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第8期645-655,共11页
Band offset is a dominant factor affecting the photocatalytic performance of heterostructure photocatalysts. Therefore, controlling the band gap structure of semiconductors is a key challenge in the development of eff... Band offset is a dominant factor affecting the photocatalytic performance of heterostructure photocatalysts. Therefore, controlling the band gap structure of semiconductors is a key challenge in the development of efficient photocatalysts. We used a typical in situ-method to prepare diverse graphite-phase carbon nitride(g-C_3N_4)samples from melamine, thiourea, and a mixture thereof,and found that they exhibited band gaps between2.3–2.8 e V. From UV–Vis spectra and X-ray photoelectron spectroscopy measurements, we determined that the g-C_3N_4 samples exhibited different band gap values and valence band positions. On this basis, we constructed g-C_3N_4/m-La VO_4 heterojunctions with different band offsets. UV–Vis spectra and X-ray photoelectron spectroscopy measurements revealed that the valence band offsets(VBOs) of the different heterojunctions were similar, but their conduction band offsets(CBOs) were significantly different. Photocatalytic experiments revealed that the reaction rate was enhanced with an increase in the CBO value. Furthermore, the three-phase g-C_3N_4/g-C_3N_4/mLa VO_4 heterojunction composed of m-La VO_4 and mixed g-C_3N_4 showed the highest photocatalytic activity, which was mainly due to the construction of a multilevel structure. This work investigates the influence of the band offset on heterojunction photoelectrochemical properties and provides a new strategy to improve the photocatalytic activity by constructing multilevel structures. 展开更多
关键词 Carbon nitride.Visible light photocatalysis ~PrecursorsBand offset. MultilevelHeterojunction
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