溅射靶材用铌材的电子束熔炼提纯杂质去除机理研究

文章采用真空电子束熔炼的方式,对溅射靶材用铌材进行多次提纯。应用GDMS的方法对熔炼后的铌锭端面、中部以及底部杂质含量进行检验,判断铸锭不同位置杂质脱除情况。结果显示,铸锭杂质脱除率与饱和蒸气压差存在对应关系,间隙元素C、N、O主要是以气体形式直接挥发去除,非间隙元素Fe、Si元素含量在铸锭轴向从上到下逐渐减少,Mo、Ta、W、Zr四种元素在铸锭轴向上分布区别并不明显。熔炼后,Ta、W元素含量与原料相比没有变化,Mo、Zr元素含量显著比原料低,非间隙元素为蒸发和定向凝固协同控制脱除机制。

液碱精馏过程中的杂质去除方法研究

液碱精馏过程中,杂质的存在严重影响产品质量及工艺效率。高效去除杂质成为提高精馏过程纯度和性能的关键。研究分析了液碱中常见杂质的来源及其对产品质量的影响,梳理了现有的杂质去除技术,并深入探讨了创新去除方法的研发及应用。实验结果显示,创新技术在杂质去除效果和操作稳定性方面优于传统方法,能够显著提高生产效率和产品纯度。通过将这些创新方法应用于实际生产,液碱精馏工艺的整体效率得到了提升,展现出广阔的工业应用前景。

多晶硅精馏过程中的杂质去除机制

多晶硅是光伏和集成电路产业的关键基础材料,其纯度直接影响下游产品性能。精馏提纯是获得高纯多晶硅的主要方法,而杂质去除是精馏过程的核心。本文系统分析了多晶硅精馏过程中常见杂质的类型特征,阐述了精馏过程杂质去除的热力学机理和动力学机理,在此基础上提出优化杂质去除的工艺策略,以期为提升多晶硅材料纯度、降低生产成本提供理论指导。

锂云母混料焙烧浸出过程中杂质去除技术探究

随着新能源和高新技术产业的快速发展,锂的需求量也随之提升,为了更好地满足社会发展的实际需要,许多企业都对锂云母予以了高度关注。锂云母是提取锂的主要来源之一,在提取的过程中,杂质去除技术发挥了重要的作用。基于此,本文主要探讨了锂云母混料焙烧浸出过程中杂质去除的技术方法,文章首先对锂云母混料焙烧浸出过程进行了概述,然后介绍了杂质的来源和种类,最后对传统的杂质去除技术以及创新性的杂质去除技术的应用要点进行了详细阐述,希望研究成果具有一定的借鉴和启发价值。

银杏叶提取物杂质去除方法的研究

根据银杏叶中各物质的性质，探讨用沉淀剂去除其中鞣质、蛋白质等杂质，以达到提高银杏叶提取物中黄酮衍生物的含量，使其大于２４％。研究表明，采用先明胶、后硅藻土的处理方法可获得良好的除杂效果。在该工艺中，明胶处理的最佳条件为用量０．２０ｇ／１００ｍｌ，ｐＨ５．５，３０°Ｃ，６０ｍｉｎ；硅藻土最适处理条件为用量０．２５ｇ／１００ｍｌ，ｐＨ５．０，５０°Ｃ，４５ｍｉｎ。

低能量离子束轰击对碳纳米管中杂质的去除

采用低能量离子束对碳纳米管进行轰击。扫描电子显微镜测试表明,离子束轰击可以方便地去除碳纳米管中的杂质,拉曼光谱结果显示离子束轰击没有对碳纳米管造成明显损伤。以尿素作为杂质添加到碳纳米管中,经离子束轰击后发现尿素消失,说明离子束对杂质的去除机制为其溅射效应。

通过使用游离羟基自由基去除杂质、清洗管线并且对冷却塔循环水进行消毒的设备

本文提供了一种设各，用于去除杂质、清洗管线并且通过使用制备的羟基自由基对冷却塔循环水进行消毒，该游离羟基自由基通过将纯臭氧强力冲入水中，在保持特殊压力的容器中与6～12μm的光接触制备而成。通过使用游离羟基自由基去除杂质、清洗管线并且对冷却塔循环水进行消毒的设备包括一个安装在入口附近的过滤器上；一个连接在过滤器上的压缩机；

杂质的去除：利用高科技硅涂层去除药物杂质

防刮眼镜，容易清洁的表面，具有较长寿命的药物：高科技涂层技术正在很多领域创造着新的奇迹，包括制药包装行业在内。Schott公司的Type I就是一种可以去除杂质的硅涂层。

电解去除镀镍中杂质对操作有何讲究？

答：（1）电解装置需用瓦楞（凹凸）铁板或金属网为假镀件，其面积要尽可能大，以使杂质在阴极表面上进行，提高去除杂质的效率;（2）电解时要进行搅拌，最好用超声波搅拌，促使杂质在溶液中加速运动与阴极表面接触，提高处理效果；（3）用0．2A／dm^2阴极电流密度进行电解，因为镀镍生产中杂质的影响大多反映在低电流密度区。

金属辅助化学刻蚀强化去除工业硅中金属杂质

针对工业硅中杂质深度去除困难的问题,本文提出在传统湿法除杂的基础上,通过借助金属辅助化学刻蚀技术在工业硅中引入多孔结构,使工业硅内部包裹的杂质充分暴露给浸出剂以实现各主要杂质深度去除目的。系统考查了不同工业硅粉粒度、刻蚀时间对主要金属杂质Fe、Al、Ca、Ti和V的去除影响,探究了工业硅中杂质相及周边硅相形貌的原位衍变过程及多孔硅形成原理。结果表明:随着工业硅粉粒度的减小,多孔硅表面多孔形貌逐渐变得紧致,硅中杂质的去除率升高;随着刻蚀时间的延长,多孔形貌变得更为疏松并有利于杂质的去除;杂质相的存在可促进金属辅助化学刻蚀反应的进行并有利于多孔形貌的引入。在较优试验条件下,工业硅中各主要杂质去除率为Fe 98.91%、Al 98.15%、Ca 95.41%、Ti 99.76%、V 100%。

硫酸盐三价铬镀铬工艺中杂质的影响及去除

研究了硫酸盐三价铬镀铬工艺中铜、锌、铁、镍离子(含量均为50mg/kg)对镀层外观和厚度、镀液极化的影响,比较了不同除杂方法的除杂效果。结果发现,金属离子杂质对镀液的污染使镀层外观发生变化,使镀层厚度减少、镀液极化增大;金属离子的去除可以采用加入除杂剂和电解相结合的方法。指出六价铬、镀镍光亮剂等杂质对三价铬镀铬工艺影响较大,加入双氧水可以去除六价铬;往循环过滤泵中加入活性炭,可以去除镀镍光亮剂。

四氯乙烯中含氮杂质去除反应条件的研究及探索

基于所属企业的生产实际情况,对四氯乙烯生产过程中产品含氮杂质的去除过程中反应计量及去除条件进行相关的试验及分析,提出了反应温度、反应时间、碱浓度、反应水油比对四氯乙烯中杂质的影响,得出四氯乙烯产品中的杂质去除方法,降低了四氯乙烯产品中杂质含量,可以为其他相似工况提供实际的借鉴。

TFT基板玻璃清洗工序水循环系统杂质去除浅析

TFT基板玻璃生产过程中清洗工序通过盘刷、滚刷、二流体、超声波等单元清洗基板玻璃表面,去除掉生产过程中产生的玻璃粉、研磨粉、纸粉等杂质,每个单元都需要大量水冲淋基板玻璃,为节省用水量,水通过水箱滤芯过滤后循环使用,根据水中杂质含量的不同滤芯的过滤精度也不同。普通过滤系统只有一个滤芯过滤,滤芯负载大,过滤能力弱。含有导流槽的过滤系统在滤芯前方增加一个导流槽,将大的杂质和颗粒从水中剥离出来,减轻了滤芯的负载,提高了水循环系统去除杂质能力,延长了滤芯的使用寿命,提升了水的水质。

SOLO分类理论在初中化学实验教学中的应用——以“粗盐中难溶性杂质的去除”为例

我国各市对化学实验教学与技能操作考试越来越重视,文中以初中化学＂粗盐中难溶性杂质的去除＂为例,尝试基于学习进阶理念,划分化学核心素养的二阶五等学业质量标准,探讨SOLO分类理论在知识分类、操作技能,实验教学与评价及命题上的应用。

氯化氢脱氯和去除有机氯杂质

无论是从扩大原料来源还是从保护环境来看,解决废氯化氢气体的再利用问题,都具有一定的现实意义。由于副产废氯化氢和盐酸产量多达千百万吨,所以研究制定净化废氯化氢和盐酸的有效方法有着十分重要的作用,废氯化氢极少可以再次应用,一般将其浓缩、脱水,并且应当认真脱氯和去除有机氯杂质。从前曾讨论过用水吸收氯化氢并进行汽提,然后用联氨法净化盐酸去除游离氯来浓缩 HCl 的问题。本文所述为用活性炭吸附法进行氯化氢脱氯和去除有机氯杂质,此项任务可以用净化氯化氢解吸前的盐酸或者用净化解吸的氯化氢加以解决。

对乙酰氨基酚杂质去除工艺的研究

针对采用高效液相色谱法检测对乙酰氨基酚原料药,时常检测出对乙酰氨基酚二聚体杂质,造成对乙酰氨基酚质量不合格,导致返工处理的问题,研究了对乙酰氨基酚粗品精制过程中二聚体杂质的去除方法,对对乙酰氨基酚精制过程中反应溶剂、反应温度、反应时间及抗氧化剂进行了系统考察。实验结果表明:反应溶剂选用乙醇,反应温度为80℃,反应时间为0.5 h,采用焦亚硫酸钠或保险粉做抗氧化剂,可明显降低对乙酰氨基酚二聚体杂质的含量,提高了对乙酰氨基酚的纯度,为提高对乙酰氨基酚的质量提供了理论依据。

浅析环己酮生产工艺中的杂质去除改进措施

环己酮作为现代工业生产中一种非常重要的有机化工原料,被广泛应用于己内酰胺、聚酰胺的生产中。在环己酮各个生产环节,应用不同的生产方法会产生不一样的杂质,杂质的来源途径可谓是多种多样,如原材料生产时条件存在异常,催化出了大量的副产物,或者是在分类保存原材料的过程中没有严格按照规定要求标准进行,各类物质的比例在生产过程中添加不当等都可能会导致产物变质,引发多方面的问题。本文基于环己酮的性质及其用途,简要介绍了环己酮生产工艺中杂质的形成,详细分析了环己酮生产工艺中杂质去除改进措施,以期能为有关方面需要提供借鉴和参考。

粗盐中杂质去除的考点例析

考点一、实验步骤与操作考查实验步骤:溶解、过滤、蒸发,重点考查过滤、蒸发等操作。例题1(2023年春市中区月考)有关“粗盐中难溶性杂质的去除”实验的说法正确的是( )。A.用玻璃棒搅拌的目的是让粗盐溶解更多B.在每个步骤中玻璃棒的作用各不相同C.当蒸发皿中水分完全蒸干时才能停止加热D.粗盐经过溶解、过滤、蒸发可以得到纯净的氯化钠解析A.用玻璃棒搅拌的目的是加快溶解速率,不能将粗盐溶解更多,故A错误。

一种去除电子玻璃间隔纸表面静电及颗粒杂质的装置

申请号：2013104205928申请日：2013．09．16公开号：CN103582274B公开日：2016．04．06专利权人：四川旭虹光电科技有限公司；东旭集团有限公司摘要：本发明公布了一种去除电子玻璃间隔纸表面静电及颗粒杂质的装置，包括过滤风机，过滤风机产生的风通过软管输送至喷嘴，在所述滤风机的输出端还安装有高压放电式静电消除器。本发明将间隔纸的静电去除、颗粒杂质去除放在一起进行。