金属Fe/Pd成分调制膜的结构和磁性研究

用真空双源蒸镀法在玻璃衬底上制得了金属Fe/Pd成分调制膜。用X射线衍射分析了它们的调制特性和晶格结构;用振动样品磁强计进行磁性测量。结果表明:金属Fe/Pd成分调制膜中Pd层为fcc结构;随着Fe层厚度减小,Fe层结构由bcc转变为非晶态。研究了比饱和磁化强度随Fe层厚度的变化规律并探讨了它的机理。

Tb/Fe成分调制膜的磁结构与平均分子场模型

文[1]研究了Tb/Fe成分调制膜的磁特性,讨论了成分调制膜的周期厚度与磁性质的关系。本文在此基础上,进一步探讨Tb/Fe成分调制膜的磁结构及热处理对磁结构的影响,并用平均分子场模型对结果作初步分析。将用真空电子束蒸发法制备的具有调制结构的样品,置于真空无感电加热装置中,在6.67×10^(-5)Pa真空、250℃温度下保温2h后随炉冷却。热处理前后样品的饱和磁化强度用振动样品磁强计测定。为保证样品不被氧化,在制膜的真空条件下蒸镀100nm左右的铝膜。整个膜的周期数为80～20(160～40层),膜的总厚度为400～200nm左右。

FeSi/Si成份调制膜的二维磁性和死层效应

成功地制成了FeSi/Si非晶态成分调制膜,固定Si层厚度,系统改变FeSi层厚度d_m发现,随d_m下降,饱和磁化强度M_s单调减小,这主要是死层效应的贡献,OK下死层厚度约为5.8A,随d_m减小,调制膜逐渐由三维磁性转变为二维磁性,表现为出现低磁滞和无磁滞效应,线性的M_s(T)-T关系和Curie温度T_c的单调下降,T_c满足如下关系:△T_c∝d_m^(-1)其中λ=1.6。