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生长温度对In_(0.53)Ga_(0.47)As/InP的LPMOCVD生长影响 被引量:3
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作者 缪国庆 金亿鑫 +4 位作者 蒋红 周天明 李树玮 元光 宋航 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期465-468,共4页
利用LPMOCVD技术在InP衬底生长了InxGa1-xAs材料 ,获得表面平整、光亮的In0 53 Ga0 47As外延层。研究了生长温度对InxGa1-xAs外延层组分、表面形貌、结晶质量、电学性质的影响。随着生长温度的升高 ,为了保证铟在固相中组分不变 ,必... 利用LPMOCVD技术在InP衬底生长了InxGa1-xAs材料 ,获得表面平整、光亮的In0 53 Ga0 47As外延层。研究了生长温度对InxGa1-xAs外延层组分、表面形貌、结晶质量、电学性质的影响。随着生长温度的升高 ,为了保证铟在固相中组分不变 ,必须增加三甲基铟在气相中的比例。在生长温度较高时 ,外延层表面粗糙。生长温度在 6 30℃与 6 5 0℃之间 ,X射线双晶衍射曲线半高宽最窄 ,高于或低于这个温度区间 ,半高宽变宽。迁移率随着生长温度的升高而增加 ,在 6 30℃为最大值 ,然后随着生长温度的升高反而降低。生长温度降低使载流子浓度增大 ,在生长温度大于 6 展开更多
关键词 IN0.53GA0.47AS/INP LPMOCVD 铟镓砷化合物 生长温度 低压金属有机化学气相沉积 半导体材料 磷化铟衬底
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多元合金异质结In_xGa_(1-x)As/In_xAl_(1-x)As的价带偏移
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作者 郑金成 郑永梅 王仁智 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1997年第1期47-51,共5页
采用LMTO-ASA能带计算方法,研究三元合金InlGa4-lAs4和InlAl4-lAs4(l=0,1,2,3,4等五个有序态)的能带结构和平均键能Em;在此基础上,将原子集团展开与平均键能方法结合起来计算了Inx... 采用LMTO-ASA能带计算方法,研究三元合金InlGa4-lAs4和InlAl4-lAs4(l=0,1,2,3,4等五个有序态)的能带结构和平均键能Em;在此基础上,将原子集团展开与平均键能方法结合起来计算了InxGa1-xAs/InxAl1-xAs异质结的价带偏移ΔEv(x)值.研究表明:该异质结的ΔEv(x)值随合金组分x的变化接近于线性;ΔEv(x)的理论计算值与实验结果相当符合. 展开更多
关键词 异质结 价带偏移 半导体 铟镓砷化合物
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应变超晶格(In_xGa_(1-x)As)_n/(GaAs)_n(001)的电子结构和光学性质
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作者 李开航 黄美纯 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1999年第2期209-215,共7页
用半经验的紧束缚方法sp3s*计算了薄层应变超晶格(InxGa1-xAs)n/(GaAs)n(001)的电子结构.给出了组份X为0.53的超晶格(InxGa1-xAs)n/(GaAs)n的带隙值随层厚n的变化关系,以... 用半经验的紧束缚方法sp3s*计算了薄层应变超晶格(InxGa1-xAs)n/(GaAs)n(001)的电子结构.给出了组份X为0.53的超晶格(InxGa1-xAs)n/(GaAs)n的带隙值随层厚n的变化关系,以及超晶格(InxGa1-xAs)12/(GaAs)12的带隙值随组份X的变化关系.在得到超晶格能量本征值和本征函数的基础上,计算了该超晶格系统的光学介电函数虚部,并与体材料GaAs和体合金InxGa1-xAs的光学性质作了比较.计算结果表明,应变超晶格在较宽的能量范围有较好的光谱响应. 展开更多
关键词 光学性质 应变超晶格 化镓 铟镓砷化合物
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InP/InGaAs单行载流子光电二极管 被引量:1
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作者 谭朝文 《世界电子元器件》 2002年第1期26-26,共1页
引言 为适应大容量光纤通信和超高速光电子测试系统,光电二极管一直致力于提高带宽.结构设计和工艺技术的改进已经使光探测器取得了极大进步.但随着光放大器及微波/毫米波光子系统的进步,高饱和输出(大信号工作)已成为光电二极管应具备... 引言 为适应大容量光纤通信和超高速光电子测试系统,光电二极管一直致力于提高带宽.结构设计和工艺技术的改进已经使光探测器取得了极大进步.但随着光放大器及微波/毫米波光子系统的进步,高饱和输出(大信号工作)已成为光电二极管应具备的重要性能.另外,微波光子系统通常需要光生微波/毫米波信号,光电二极管要用作微波/毫米波发生器,基本要求就是宽线性和高饱和输出.大功率的光探测器还适于同众多电子器件及光子器件集成实现新的信号处理功能,从而可拓宽光探测器的应用领域. 展开更多
关键词 光电二极管 磷化铟 单行载流子 铟镓砷化合物
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Single Layer Growth of Strained Epitaxy at Low Temperature
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作者 段瑞飞 王宝强 +1 位作者 朱占平 曾一平 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期362-365,共4页
Contacting mode atomic force microscopy (AFM) is used to measure the In 0.35 Ga 0.65 As/GaAs epilayer grown at low temperature (460℃).Unlike the normal layer by layer growth (FvdM mode) or self organized i... Contacting mode atomic force microscopy (AFM) is used to measure the In 0.35 Ga 0.65 As/GaAs epilayer grown at low temperature (460℃).Unlike the normal layer by layer growth (FvdM mode) or self organized islands growth (SK mode),samples grown under 460℃ are found to be large islands with atomic thick terraces.AFM measurements reveale near one monolayer high steps.This kind of growth is good between FvdM and SK growth modes and can be used to understand the evolution of strained epitaxy from FvdM to SK mode. 展开更多
关键词 INGAAS/GAAS molecular beam epitaxy atomic force microscopy EPILAYER monolayer growth
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原子集团展开和平均键能方法在In_xGa_(1-x)As/GaAs系统中的应用
6
作者 柯三黄 王仁智 黄美纯 《厦门大学学报(自然科学版)》 CSCD 北大核心 1996年第2期204-209,共6页
把原子集团展开方法同平均键能方法相结合,建立了一种研究合金型应变层异质界面价带偏移的方法.应用此方法对InxGa1-xAs/GaAs系统分别计算了以GaAs和以InxGa1-xAs为衬底的两种不同的应变状态下的价带偏... 把原子集团展开方法同平均键能方法相结合,建立了一种研究合金型应变层异质界面价带偏移的方法.应用此方法对InxGa1-xAs/GaAs系统分别计算了以GaAs和以InxGa1-xAs为衬底的两种不同的应变状态下的价带偏移(△Ev)随合金组份的变化规律.结果表明,由于应变的引入,该系统的面△Ev~X表现出大的非线性,且这一关系受到应变状态的显著影响.通过改变应变状态可使其为Ⅰ型或Ⅱ型超晶格以及金属.部分结果与有关的实验值和理论结果相符合. 展开更多
关键词 铟镓砷化合物 原子集团展开 化镓 平均键能
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无杂质空位扩散法造成InGaAsP/InP多量子阱结构带隙蓝移规律的研究 被引量:1
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作者 张晓丹 赵杰 +1 位作者 王永晨 金鹏 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期119-123,共5页
采用光荧光谱 (PL)和光调制反射谱 (PR)的方法 ,研究了由Si3 N4 、SiO2 电介质盖层引起的无杂质空位(IFVD)诱导的InGaAsP四元化合物半导体多量子阱 (MQWs)结构的带隙蓝移。实验中Si3 N4 、SiO2 作为电介质盖层 ,用来产生空位 ,再经过快... 采用光荧光谱 (PL)和光调制反射谱 (PR)的方法 ,研究了由Si3 N4 、SiO2 电介质盖层引起的无杂质空位(IFVD)诱导的InGaAsP四元化合物半导体多量子阱 (MQWs)结构的带隙蓝移。实验中Si3 N4 、SiO2 作为电介质盖层 ,用来产生空位 ,再经过快速热退火处理 (RTA)。实验结果表明 :多量子阱结构带隙蓝移和退火温度、复合盖层的组合有关。带隙蓝移随退火温度的升高而加大。InP、Si3 N4 复合盖层产生的带隙蓝移量大于InP、SiO2 复合盖层。而InGaAs、SiO2 复合盖层产生的带隙蓝移量则大于InGaAs、Si3 N4 复合盖层。同时 ,光调制反射谱的测试结果与光荧光测试的结果基本一致 ,因此 。 展开更多
关键词 无杂质空位诱导无序 光荧光谱 光调制反射谱 铟镓化合物 磷化铟 多量子阱结构 单片集成光电器件
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New dark current component of InGaAs/InP HPDs confirmed by DLTS
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作者 WANGKaiyuan XUWeihong 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 1995年第1期20-23,共4页
The dark current of In_(0.47) Ga_(0.53) As/InP heterojunction photodiodes (HPDs) was analysed. We found that there exists a new dark current component──deep level-assisted tunnelling current.DLTS was used to measure... The dark current of In_(0.47) Ga_(0.53) As/InP heterojunction photodiodes (HPDs) was analysed. We found that there exists a new dark current component──deep level-assisted tunnelling current.DLTS was used to measure the In_(0.47)Ga_(0.53)As/InP HPDs. An electronic trap which has a thermal activation energy of O.44 eV, level concentration of 3.10×10 ̄(13)cm ̄(-3) and electronic capture cross section of 1.72×10 ̄(12)cm ̄2 has been found.It's existence results in the new tunnelling current. 展开更多
关键词 Photodiodes Characteristic Measurement Dark Current Tunnelling Current
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快速热处理对应变InGaAs/GaAs单量子阱激光二极管电子发射和DX中心的影响 被引量:1
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作者 卢励吾 张砚华 +4 位作者 徐遵图 徐仲英 王占国 J.Wang WeikunGe 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期367-371,共5页
研究分子束外延 (MBE)生长的应变In0 .2 Ga0 .8As GaAs折射率梯度变化异质结单量子阱激光二极管的快速热处理 (RTA)效应 .结果表明 ,RTA移除了InGaAs GaAs界面非辐射中心 ,提高 77K光致发光效率和有源层电子发射 .同时Al和Ga原子互扩散 ... 研究分子束外延 (MBE)生长的应变In0 .2 Ga0 .8As GaAs折射率梯度变化异质结单量子阱激光二极管的快速热处理 (RTA)效应 .结果表明 ,RTA移除了InGaAs GaAs界面非辐射中心 ,提高 77K光致发光效率和有源层电子发射 .同时Al和Ga原子互扩散 ,也增加了AlGaAs波导层DX中心浓度 .RTA处理后样品电流冲击老化实验证明DX中心浓度呈现出相应的增加 .这表明DX中心可能是激光二极管性能退化的原因之一 . 展开更多
关键词 量子阱 快速热处理 电子发射 DX中心 激光二极管 RTA INGAAS/GAAS 半导体激光器 铟镓砷化合物 化镓
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