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HPMA和ATMP的缓蚀阻垢性能 被引量:8
1
作者 邵忠宝 张丽君 +1 位作者 牛盾 郑艳侠 《腐蚀科学与防护技术》 CAS CSCD 1999年第5期311-312,共2页
水解聚马来酸酐( H P M A)和氨基三甲叉膦酸( A T M P)的缓蚀和阻垢性能都有最佳浓度值.在相同条件下 H P M A 的缓蚀、阻垢性能优于 A T M P.两种药剂的阻垢率均随 Ca2+ 浓度的增加而提高,在p H 为6~9
关键词 HPMA atmp 阻垢率 缓蚀率 缓蚀剂
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ATMP对钙、镁离子阻垢作用机理的配位化学研究 被引量:5
2
作者 张荣华 朱志良 +1 位作者 邓守权 倪亚明 《工业水处理》 CAS CSCD 2003年第7期25-27,共3页
采用电位滴定方法,运用先进的配位常数计算程序,通过恰当配位化学模型的建立,研究了水溶液中氨基三亚甲基膦酸(ATMP)自身的解离以及与Ca2+、Mg2+离子间的配位化学作用,测定了相应的解离常数和配合物稳定常数,并得到了各配合物物种在不... 采用电位滴定方法,运用先进的配位常数计算程序,通过恰当配位化学模型的建立,研究了水溶液中氨基三亚甲基膦酸(ATMP)自身的解离以及与Ca2+、Mg2+离子间的配位化学作用,测定了相应的解离常数和配合物稳定常数,并得到了各配合物物种在不同pH条件下的形态分布,从溶液配位化学的角度对ATMP的阻垢作用机理进行了讨论。 展开更多
关键词 atmp 氨基三亚甲基膦酸 解离 钙离子 镁离子 阻垢 配位化学 循环冷却水处理
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水处理剂ATMP和HEDP的协同效应研究 被引量:4
3
作者 王霞 白媛丽 +1 位作者 罗全民 刘志辉 《应用化工》 CAS CSCD 2013年第1期4-7,共4页
将氨基三甲叉膦酸(ATMP)和羟基乙叉二膦酸(HEDP)进行复配,研究其缓蚀阻垢性能。结果表明,当AT-MP∶HEDP为3∶2时,缓蚀率最大,为95.61%;当Ca2+浓度为250 mg/L时,缓蚀率最大,为92.03%;当ATMP∶HEDP为2∶3时,阻垢率最大为93.46%;当Ca2+浓度... 将氨基三甲叉膦酸(ATMP)和羟基乙叉二膦酸(HEDP)进行复配,研究其缓蚀阻垢性能。结果表明,当AT-MP∶HEDP为3∶2时,缓蚀率最大,为95.61%;当Ca2+浓度为250 mg/L时,缓蚀率最大,为92.03%;当ATMP∶HEDP为2∶3时,阻垢率最大为93.46%;当Ca2+浓度在50~150 mg/L时,阻垢率达到90%以上。电极化曲线表明,ATMP和HEDP复配后属于混合型缓蚀剂。缓蚀效果更好,腐蚀产物膜更平整,结构更致密,从而更好地隔离了K55钢与腐蚀介质的接触,进而起到保护钢的作用。 展开更多
关键词 atmp HEDP 缓蚀率 阻垢率
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表面活性剂对HPMA和ATMP缓蚀阻垢性能的影响 被引量:3
4
作者 邵忠宝 张丽君 顾玉涛 《腐蚀科学与防护技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第2期112-113,100,共3页
表面活性剂的加入明显地提高水解聚马来酸酐 (HPMA)和氨基三甲叉膦酸 (ATMP)的阻垢性能 ,阻垢性能随Ca2 + 浓度的增加而提高 ,在 pH值 6~
关键词 HPMA atmp 表面活性剂 阻垢率 阻垢性能
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Reactive-HALS III:ATMP光聚合动力学研究 被引量:3
5
作者 刘晓暄 张兴宏 +1 位作者 尹强 吴光国 《功能高分子学报》 CAS CSCD 2003年第1期13-20,共8页
 以受阻胺哌啶醇衍生物4 (丙烯酰氧基) 2,2,6,6 四甲基哌啶醇酯(ATMP)作为聚合单体,利用光差动热分析法(DPC)系统地研究了ATMP的光聚合反应活性和反应动力学规律。结果表明:反应体系的组成和聚合条件对ATMP光聚合动力学有显著的影响;...  以受阻胺哌啶醇衍生物4 (丙烯酰氧基) 2,2,6,6 四甲基哌啶醇酯(ATMP)作为聚合单体,利用光差动热分析法(DPC)系统地研究了ATMP的光聚合反应活性和反应动力学规律。结果表明:反应体系的组成和聚合条件对ATMP光聚合动力学有显著的影响;在聚合初期,ATMP光聚合速率同引发剂浓度和辐照光强的平方根呈线性关系;利用DPC测定了ATMP光聚合过程的动力学参数(kp和kt),链终止速率常数kt远大于链增长速率常数kp,kt/kp=100.01~394.78;kt和kp均随着转化率的增大而减小,但kt的减小幅度大于kp;电子顺磁共振谱(EPR)定量结果表明:原位生成的微量[(2~6)×10-7mol/L]稳定氮氧自由基对ATMP的溶液光聚合过程的阻聚效应不明显。 展开更多
关键词 atmp 光聚合 聚合反应动力学
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钢铁表面的ATMP钝化处理 被引量:2
6
作者 方景礼 叶向荣 +1 位作者 李莹 王占文 《表面技术》 EI CAS CSCD 1991年第4期12-16,共5页
利用加速腐蚀试验、电化学极化测量以及扫描电镜对氨基三甲撑膦酸(ATMP)在钢铁表面的防护效果进行了研究。测定了ATMP溶液的浓度、温度、pH及处理时间对膜层抗蚀性的影响。通过与多种有机瞵酸进行比较,确认ATMP具有较好的表面防护效果。
关键词 金属 表面处理 自钝化 atmp 腐蚀
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MA/ATMP共聚物的微观结构及其热稳定性研究 被引量:1
7
作者 贝逸翎 刘晓暄 +1 位作者 张兴宏 吴光国 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第7期14-17,共4页
采用不同配比的反应型受阻胺 4 -丙烯酰氧基 - 2 ,2 ,6 ,6 -四甲基哌啶醇酯 (ATMP)与丙烯酸甲酯 (MA)进行溶液光引发共聚合。用核磁共振对共聚物的组成及其序列分布进行了表征。在此基础上 ,对不同微观结构的共聚物进行了热稳定性及玻... 采用不同配比的反应型受阻胺 4 -丙烯酰氧基 - 2 ,2 ,6 ,6 -四甲基哌啶醇酯 (ATMP)与丙烯酸甲酯 (MA)进行溶液光引发共聚合。用核磁共振对共聚物的组成及其序列分布进行了表征。在此基础上 ,对不同微观结构的共聚物进行了热稳定性及玻璃化温度的测定 ,确定了共聚物中各基团的断裂分解温度、材料的玻璃化转变 。 展开更多
关键词 MA/atmp共聚物 共聚合 微观结构 热稳定性
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Fe^(2+)-ATMP阻燃改性硬质聚氨酯泡沫热稳定性研究 被引量:1
8
作者 王志超 刘冰 +1 位作者 王志 张旭 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2022年第11期136-140,共5页
以七水合硫酸亚铁、氨基三亚甲基膦酸(ATMP)为原料,合成了氨基三亚甲基膦酸铁(Fe^(2+)-ATMP)阻燃剂,将其引入硬质聚氨酯泡沫(RPUF),制备了阻燃RPUF。采用热重分析仪对材料进行性能表征,基于质量损失率和热解动力学分析Fe^(2+)-ATMP阻燃... 以七水合硫酸亚铁、氨基三亚甲基膦酸(ATMP)为原料,合成了氨基三亚甲基膦酸铁(Fe^(2+)-ATMP)阻燃剂,将其引入硬质聚氨酯泡沫(RPUF),制备了阻燃RPUF。采用热重分析仪对材料进行性能表征,基于质量损失率和热解动力学分析Fe^(2+)-ATMP阻燃剂添加量对RPUF热稳定性的影响。结果表明:Fe^(2+)-ATMP阻燃剂的适宜添加量为5%~10%(质量分数);随着阻燃剂添加量的增加,RPUF的热稳定性和残炭率提高,表观活化能呈现先增大再减小的趋势。 展开更多
关键词 Fe^(2+)-atmp 聚氨酯 热解动力学 活化能 热稳定性
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CaO_2/Fe^(2+)/H^+体系处理ATMP模拟废水的实验研究
9
作者 姜春华 翟建 《广州化工》 CAS 2012年第5期125-127,共3页
采用CaO2/Fe2+/H+体系对ATMP废水进行处理实验,研究结果表明:在n(CaO2)∶n(FeSO4.7H2O)=10∶1,CaO2投加量为理论值的1.6倍,反应时间为60 min,pH值在2~3之间的条件下,出水总磷未检出,总磷去除率接近100%。
关键词 CaO2/Fe2+/H+体系 atmp废水
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ATMP、硫脲缓蚀性能的研究 被引量:3
10
作者 苏连芳 金振兴 《锦州师范学院学报(自然科学版)》 2001年第2期29-31,共3页
利用 DJS- 2 92型恒电位仪分别测定了不同浓度的 ATMP、硫脲以及二者复配后在1 mol.dm-3硫酸溶液中的阴阳极极化曲线。实验结果表明 :ATMP、硫脲对碳钢的腐蚀有较强的抑制作用 ;浓度对二者的缓蚀性能有一定影响 ;ATMP、硫脲复配后缓蚀... 利用 DJS- 2 92型恒电位仪分别测定了不同浓度的 ATMP、硫脲以及二者复配后在1 mol.dm-3硫酸溶液中的阴阳极极化曲线。实验结果表明 :ATMP、硫脲对碳钢的腐蚀有较强的抑制作用 ;浓度对二者的缓蚀性能有一定影响 ;ATMP、硫脲复配后缓蚀作用比单独使用两者中的任一种强。本文对 ATMP、硫脲的缓蚀机理进行了初步探讨 ,同时初步分析了二者复配后缓蚀性能增强的原因。 展开更多
关键词 atmp 硫脲 缓蚀性能 缓蚀机理 金属腐蚀 缓蚀剂 复配
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PBTCA、HEDP、ATMP缓蚀性能的理论研究 被引量:19
11
作者 崔崇威 李绍峰 +3 位作者 杨红 冯文涛 刘旸 焦雅吉 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期608-611,共4页
从常用水处理药剂中选择3种有机膦药剂PBTCA(2-膦酸基丁烷-1,2,4-三羧酸)、HEDP(羟基亚乙基二膦酸)、ATMP(氨基三亚甲基膦酸)与C lO2、ZnSO4复配,通过正交试验确定了最佳配方,并利用从头计算法对该配方进行了量子化学计算,分析了缓蚀性... 从常用水处理药剂中选择3种有机膦药剂PBTCA(2-膦酸基丁烷-1,2,4-三羧酸)、HEDP(羟基亚乙基二膦酸)、ATMP(氨基三亚甲基膦酸)与C lO2、ZnSO4复配,通过正交试验确定了最佳配方,并利用从头计算法对该配方进行了量子化学计算,分析了缓蚀性能和分子结构的关系.结果表明:P原子净电荷QP、电荷密度、分子的最低空轨道能ELUMO与缓蚀率有较好的相关性.同时,计算了Fe和C lO2的最高占有轨道能EHOMO和最低空轨道能ELUMO以及二者的差值ΔE,说明缓蚀剂供出电子与Fe作用的趋势要大于接受电子与Fe作用的趋势,而且PBTCA、HEDP和ATMP耐二氧化氯氧化的能力与缓蚀剂最低空轨道能与二氧化氯最高占有轨道能的差值(LUMOinh ib—HOMOC lO2值)有较好的相关性,试验数据也表明了缓蚀机理的正确性. 展开更多
关键词 二氧化氯 2-膦酸基丁烷-1 2 4-三羧酸 羟基亚乙基二膦酸 氨基三亚甲基膦酸
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PASP和ATMP复合阻垢剂阻垢性能研究 被引量:7
12
作者 卢园 王剑波 +1 位作者 曹怀宝 江章应 《工业用水与废水》 CAS 2008年第1期84-86,共3页
采用静态阻垢法对聚天冬氨酸(PASP)与氨基三亚甲基膦酸(ATMP)复配物阻垢性能进行研究。考察阻垢剂添加量、温度、Ca2+浓度、HCO3-浓度、恒温时间对阻垢率的影响。结果表明,复配物的阻垢性能较单一的聚天冬氨酸有一定的提高。复配物的最... 采用静态阻垢法对聚天冬氨酸(PASP)与氨基三亚甲基膦酸(ATMP)复配物阻垢性能进行研究。考察阻垢剂添加量、温度、Ca2+浓度、HCO3-浓度、恒温时间对阻垢率的影响。结果表明,复配物的阻垢性能较单一的聚天冬氨酸有一定的提高。复配物的最佳质量配比为1∶1,PASP和ATMP总加入量为4 mg/L时效果最佳,阻垢率达86%。复配物阻垢性能受温度、时间、HCO3-浓度的影响较小,受Ca2+浓度的影响较大。对复合阻垢剂进行了经济性评价,复合阻垢剂可降低单独使用时的成本。 展开更多
关键词 聚天冬氨酸 氨基三亚甲基膦酸 复配物 阻垢性能
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水处理剂ATMP测试方法探讨
13
作者 高冬梅 梁巧 +1 位作者 张海婴 金鲜花 《生命科学仪器》 2009年第6期32-33,共2页
现行测试ATMP活性组分方法有HG/T2841-1997(97版)和HG/T2841-2005(05本文结果05版标准操作简单,终点易判定,测试结果的精密度≥0.2%,规定了ATMP含量测试方法,有利于得到准确的检验结果。
关键词 水处理剂atmp 测试 紫脲酸铵 氨-氯化氨缓冲溶液 铬黑T指示剂
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ATMP中冲正缓存设计及实现 被引量:1
14
作者 王勇军 《电脑知识与技术》 2016年第6X期238-241,共4页
针对ATMP系统中日益增长的业务规模和需求而导致的性能瓶颈问题,提出了基于multi-index的缓存机制。该机制提供快速的内存数据关联和存储。相比共享缓存加消息队列的方式,该缓存提高了业务扩充的灵活度和效率。经过仿真和压力测试,该缓... 针对ATMP系统中日益增长的业务规模和需求而导致的性能瓶颈问题,提出了基于multi-index的缓存机制。该机制提供快速的内存数据关联和存储。相比共享缓存加消息队列的方式,该缓存提高了业务扩充的灵活度和效率。经过仿真和压力测试,该缓存运行鲁棒性高,在并发业务下性能良好。 展开更多
关键词 atmp 冲正 缓存 multi-index
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ATMP在钴互连集成电路钴膜CMP中的作用机理研究 被引量:1
15
作者 王昊 黄浩真 +2 位作者 曹静伟 夏荣阳 潘国峰 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2022年第9期968-973,共6页
为了提高钴互连集成电路钴膜化学机械平坦化(CMP)中钴的去除速率以及Co/TiN去除速率选择性,研究了氨基三甲叉膦酸(ATMP)作为络合剂,在钴互连集成电路钴膜CMP中的作用机理。通过CMP、电化学、X射线电子光谱等实验探究了ATMP的络合性能,采... 为了提高钴互连集成电路钴膜化学机械平坦化(CMP)中钴的去除速率以及Co/TiN去除速率选择性,研究了氨基三甲叉膦酸(ATMP)作为络合剂,在钴互连集成电路钴膜CMP中的作用机理。通过CMP、电化学、X射线电子光谱等实验探究了ATMP的络合性能,采用X射线电子光谱以及密度泛函理论的建模仿真对ATMP在抛光液中的络合机理进行了深入分析。实验结果表明:ATMP的添加不同程度地加快了钴和氮化钛腐蚀,可以有效地提高钴互连集成电路钴膜CMP的去除速率以及Co/TiN去除速率选择性;X射线电子光谱实验显示ATMP的络合作用可以降低钴表面氧化层的厚度;根据密度泛函理论计算结果可以发现,ATMP中的磷酸基团为活性位点,与晶圆表面金属离子形成络合物,从而实现快速去除。可见ATMP可以作为络合剂应用于钴布线钴膜CMP制程。 展开更多
关键词 平坦化 络合 atmp 密度泛函理论
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水质稳定剂ATMP的合成研究 被引量:2
16
作者 来永言 蔡锡明 《浙江化工》 CAS 1990年第4期9-11,共3页
本文介绍 ATMP 的结构、性能及合成方法。并对影响 ATMP 合成的主要因素进行探讨研究,得出合成的优惠工艺,在此工艺生产的产品具有质量稳定,收率高,各项指标均达到要求。
关键词 水质 稳定剂 合成 atmp
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ATMP对晶圆中TSV结构Ta基阻挡层的Ta和Cu去除速率选择比的影响
17
作者 董延伟 王如 +3 位作者 郑涛 石芸慧 刘彬 王帅 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2023年第10期1677-1683,共7页
为了提高晶圆中硅通孔(TSV)阻挡层材料化学机械抛光(CMP)中Ta和Cu的去除速率选择比,在工作压力为3 psi(1 psi=6895 Pa)、抛光头转速为87 r/min、抛光盘转速为93 r/min、抛光液体积流量为300 m L/min的条件下,研究了氨基三甲叉膦酸(ATMP... 为了提高晶圆中硅通孔(TSV)阻挡层材料化学机械抛光(CMP)中Ta和Cu的去除速率选择比,在工作压力为3 psi(1 psi=6895 Pa)、抛光头转速为87 r/min、抛光盘转速为93 r/min、抛光液体积流量为300 m L/min的条件下,研究了氨基三甲叉膦酸(ATMP)作为络合剂对Ta和Cu的去除速率以及去除速率选择比的影响。通过电化学方法探究了ATMP对Ta和Cu的络合机制,利用原子力显微镜对比了抛光前后的表面质量。研究结果显示:在ATMP质量分数为1.5%时,Ta和Cu的去除速率分别为157.96和58.6 nm/min,验证了ATMP对提高Ta和Cu的去除速率选择比具有明显效果,Ta和Cu抛光前后的表面粗糙度分别由4.2 nm降低至0.284 nm以及由1.31 nm降低至0.51 nm,表面质量得到明显改善,证明了ATMP适合用于TSV晶圆阻挡层材料抛光。 展开更多
关键词 化学机械抛光(CMP) 硅通孔(TSV) 氨基三甲叉膦酸(atmp) 阻挡层 去除速率
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复合阻垢剂PASP-ATMP的协同效应及影响因素研究 被引量:6
18
作者 杨耀辉 解蓓蓓 +1 位作者 韩文礼 张彦军 《应用化工》 CAS CSCD 2012年第5期834-836,共3页
采用静态阻垢法,研究了聚天冬氨酸(PASP)与氨基三甲叉膦酸(ATMP)复配体系的协同效应,考察阻垢剂添加量、温度、pH值、Ca2+浓度、HCO3-浓度对阻垢性能的影响。结果表明,复配体系的阻垢性能较单一阻垢剂好,PASP/ATMP质量比在2∶3时,阻垢... 采用静态阻垢法,研究了聚天冬氨酸(PASP)与氨基三甲叉膦酸(ATMP)复配体系的协同效应,考察阻垢剂添加量、温度、pH值、Ca2+浓度、HCO3-浓度对阻垢性能的影响。结果表明,复配体系的阻垢性能较单一阻垢剂好,PASP/ATMP质量比在2∶3时,阻垢性能最优,当复合阻垢剂PASP-ATMP投加量为5 mg/L时,阻垢率高达93.04%。复配体系阻垢性能随温度、pH值、Ca2+浓度、HCO3-的增加虽然有所下降,但仍表现出一定钙容忍度及适合高pH值、高HCO3-环境使用等特性。 展开更多
关键词 聚天冬氨酸 氨基三甲叉膦酸 阻垢性能 复配体系
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ATMP制浆过程中高浓或低浓磨浆对纤维和细小纤维性能的影响
19
作者 杨扬 《国际造纸》 2015年第5期11-18,共8页
研究了机械制浆过程中不同磨浆浓度对纤维和细小纤维性能的影响。以仅经过初始高浓磨浆的ATMP为原料,对其进行二段高浓(HC)或二段低浓(LC)磨浆,探讨了浆料纤维的外部和内部微纤丝化、纤维形态和尺寸、细小纤维比表面积以及分裂纤维比例... 研究了机械制浆过程中不同磨浆浓度对纤维和细小纤维性能的影响。以仅经过初始高浓磨浆的ATMP为原料,对其进行二段高浓(HC)或二段低浓(LC)磨浆,探讨了浆料纤维的外部和内部微纤丝化、纤维形态和尺寸、细小纤维比表面积以及分裂纤维比例的变化。结果表明,二段LC或二段HC磨浆后纤维形态有所不同;二段LC磨浆后,中等长度纤维比例增加明显,纤维表面微纤丝化程度无明显变化,纤维直挺、弹性增加;二段HC磨浆后,纤维细胞壁厚度降低,纤维塌陷,外部微纤丝化程度提高。二段LC磨浆后浆料纤维间结合力较强,故成纸抗张强度更高。 展开更多
关键词 atmp 磨浆机 细小纤维 二段 微纤丝 纤维结构 制浆过程 纤维形态 磨浆能耗 中等长度
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ATMP的合成及络合性的探讨
20
作者 汪帆 《曲靖师范学院学报》 1987年第S1期73-75,共3页
近十年来有机膦化学的发展十分惊人,而其中有机多膦酸的合成、性质和使用更是得到了国际上的高度重视。 有机多膦酸是一类含有多个配位基团的化合物,按其组成中是否含氮可以分成两大类。不含氮的一类(以HEDP为代表)可直接由脂肪族羧酸... 近十年来有机膦化学的发展十分惊人,而其中有机多膦酸的合成、性质和使用更是得到了国际上的高度重视。 有机多膦酸是一类含有多个配位基团的化合物,按其组成中是否含氮可以分成两大类。不含氮的一类(以HEDP为代表)可直接由脂肪族羧酸水溶液和三氯化磷制取,这方面的合成报导比较多。而含氮的一类多膦酸的合成,较前一类争议较大,並且报导颇少。 展开更多
关键词 膦酸 atmp 配位基团 三氯化磷 总稳定常数 酸水溶液 氨羧络合剂 脂肪族 多核络合物 强碱条件
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