常温下合成磷酸三苯酯的研究

研究了常温下由苯酚钠悬胶体与三氯氧磷反应合成磷酸三苯酯的工艺条件,找到了一条比较好的合成方法.此方法具有操作方便、条件温和、反应时间短、能耗低、腐蚀小、污染少、产物纯、产率高等优点.

水相中一些有机合成反应的研究进展

水作为有机合成反应的介质具有价廉、安全、无污染、产物易于分离等优点.综述了近年来水介质中一些有机合成反应的研究进展,这些反应包括氧化、还原、烯丙基化、环加成、克来森、迈克尔、维悌希、缩合、偶联、自由基、有机光化学、取代等.

硬盘基板化学机械粗抛光的实验研究

针对硬盘NiP/Al基板粗抛光,采用SiO2作为抛光磨料的碱性抛光液,在不同压力、转速、pH值、磨料浓度和活性剂体积浓度下,对硬盘基板粗抛光的去除速率和表面粗糙度的变化规律进行研究,用原子力显微镜观察抛光表面的微观形貌。最后对5个关键参数进行了优化。结果表明:当压力为0.10 MPa,转速为80 rad/min,pH值为11.2,磨料与去离子水体积比为1∶0.5,表面活性剂体积浓度为9 mL/L时,硬盘基板的去除速率为27 mg/min,粗抛后表面粗糙度为0.281 nm,获得了高的去除速率和较好的表面粗糙度,这样会大大降低精抛的时间,有利于抛光效率的提高。

水中2,4,6-三芳基-3-芳酰基-4-羟基环己基-1,1-二甲腈的洁净合成

研究了十六烷基三乙基溴化铵(HTEAB)催化、水介质中,查尔酮和丙二腈加热回流合成系列2,4,6-三芳基-3-芳酰基-4-羟基环己基-1,1-二甲腈化合物.产物经1HNMR,IR和元素分析进行了结构表征.此方法具有反应条件温和、操作简便、产率较高、环境友好的优点.

研磨法合成1,2,3,6-四氢嘧啶-2-酮衍生物

以NH2SO3H为催化剂,室温无溶剂条件下,研磨芳醛、β-酮酸酯和尿素合成了一系列1,2,3,6-四氢嘧啶-2-酮衍生物.该方法具有反应条件温和、操作简便、环境友好、产率高等优点.

一种LTPS-TFT AMOLED像素电路的理论研究

本文对一种LTPS-TFT AMOLED电压型阈值电压(V_(th))补偿像素电路进行了理论研究,分析了影响V_(th)补偿效果的主要因素。电路的补偿效果主要由驱动TFTV_(th)的获取精度和随后的保持精度决定。在V_(th)获取过程中,相关误差主要由驱动TFT转移特性电流对存储电容充电的充电率不足产生;在显示信号与V_(th)叠加过程中,与V_(th)保持节点连接的电容增量等因素会造成V_(th)保持精度的损失。根据分析的结果,本文解释了高分辨率像素电路补偿效果下降的原因。

7-氨基-6-氰基-5-(3-硝基苯基)吡喃并嘧啶-2,4-二酮的合成

报道了常温、超声辐射、水中、无催化剂条件下,以3-硝基苯甲醛、丙二腈和巴比妥酸为原料合成标题化合物的方法。考察了超声技术、反应时间及反应温度对反应的影响。最佳反应条件为:室温、超声辐射2h,收率为86.2%。

水中合成2-苯甲酰基-1,3,5-三苯基-4,4-二腈基环己醇的洁净方法

在水中以苯亚甲基苯乙酮和丙二腈为原料,十六烷基三甲基溴化铵(HTMAB)催化下,合成了标题化合物。考察了不同催化剂、催化剂用量及不同溶剂对反应的影响。产物的结构经IR和1HNMR进行了表征确证。该方法具有反应条件温和、操作简便、环境友好的优点。

LTPS AMOLED显示器像素电路阈值电压补偿效果的改善

为改善LTPS AMOLED显示器像素电路阈值电压变动性补偿效果,本文分析了相关电压型像素电路的工作过程,确认了影响阈值电压补偿效果的关键因素,包括显示信号刷新扫描行周期对阈值电压获取充电时间的制约、驱动信号形成过程中相关TFT电容增量造成的阈值电压精度损失等。针对这些关键因素,本文提出了像素电路改进对策。通过分离阈值电压获取和数据电压信号刷新过程实现阈值电压获取充电时间的延长,通过反向增量电容补偿相关电容增量误差。在像素OLED驱动电流受阈值电压变动影响突出的低灰阶状态下,模拟结果表明阈值电压获取和数据电压信号刷新过程分离像素电路的OLED驱动电流变动性是参考电路的1/7;反向增量电容补偿像素电路OLED驱动电流变动性大约为无补偿参考电路的1/2。补偿效果样品视觉评价结果与模拟结果趋势相符。

一种快速高效分解1,1-二乙酸酯的方法

研究了硅胶硫酸酯催化下1,1-二乙酸酯的分解反应.该方法具有操作简单、反应时间短、收率高、无污染、催化剂可回收重复使用等特点.

有机胺碱对硅粗抛光及表面微形貌的影响

硅单晶抛光片是极大规模集成电路应用最广泛的衬底材料,抛光液为影响硅单晶片抛光最关键的因素。通过改变抛光液中有机胺碱配比来调节抛光液的pH值。实验结果表明:随着有机胺碱比例的不断增加,pH值随之上升,硅片的去除速率(material removal rate,MRR)先增大后减小。pH值在10.5左右时去除速率达到最大值(1706nm/min)。此时用Agilent 5600LS型原子力显微镜测得硅片表面的粗糙度为0.369nm。并用马尔文Zetasizer 3000HSA纳米粒度分析仪测定不同有机胺碱浓度下的抛光液中水溶胶磨粒粒径变化。通过对实验后晶片表面进行检测并结合去除速率综合考虑,抛光液pH值宜选择为10.5左右。抛光速率在pH值为10.3～10.6比较稳定。

聚酰亚胺在折叠AMOLED显示中的应用及发展

柔性显示以其轻薄、不易破坏、可弯折的特点受到消费领域的关注,最近几年柔性产品从初期的边缘弯曲手机发展到可折叠手机,目前折叠AMOLED显示屏已成为高端移动手机终端产品的标志。显示器件从刚性发展到折叠离不开材料科技的进步,聚酰亚胺材料的发展有效推动了显示形态的创新。柔性基板和柔性盖板是聚酰亚胺在折叠AMOLED显示中最重要的应用。本文介绍了柔性AMOLED用的基板材料基本性能,如耐高温、低膨胀、高平整、可分离,同时介绍了针对可折叠柔性盖板材料需要的基本性能,如高透明、抗冲击、耐蠕变、可弯折。本文基于京东方在折叠显示开发过程中的经历,综述了聚酰亚胺材料在柔性基板和柔性盖板两个关键资材方面的发展历程及工业化应用情况,并对聚酰亚胺材料的未来发展方向进行了展望。

一种10位50MHz流水线模数转换器的设计

采用每级1.5 bit和每级2.5 bit相结合的方法设计了一种10位50 MHz流水线模数转换器。通过采用自举开关和增益自举技术的折叠式共源共栅运算放大器,保证了采样保持电路和级电路的性能。该电路采用华润上华(CSMC)0.5μm 5 V CMOS工艺进行版图设计和流片验证,芯片面积为5.5 mm2。测试结果表明:该模数转换器在采样频率为50 MHz,输入信号频率为30 kHz时,信号加谐波失真比(SNDR)为56.5 dB,无杂散动态范围(SFDR)为73.9 dB。输入频率为20 MHz时,信号加谐波失真比为52.1 dB,无杂散动态范围为65.7 dB。

GLSI钨插塞CMP碱性抛光液组分优化的研究

钨插塞化学机械平坦化(CMP)是极大规模集成电路(GLSI)铜互连多层布线的关键工艺之一。首先研究了钨在碱性条件下化学机械抛光机理;接着采用单因素实验方法分析了抛光液组分中纳米SiO2水溶胶磨料、氧化剂、有机碱(pH调节剂)和表面活性剂对W-CMP速率的影响。最后通过正交优化实验,确定抛光液最优配比为V(纳米SiO2水溶胶)∶V(去离子水)=1∶1,氧化剂体积分数为20 mL/L,pH调节剂体积分数为4 mL/L,表面活性剂体积分数为20 mL/L时,此时抛光液的pH值为10.36,获得的去除速率为85 nm/min,表面粗糙度为0.20 nm。

己内酰胺-四丁基氟化铵离子液体表面张力研究

离子液体因其溶解能力良好,物理、化学性质稳定,沸点高,难挥发,不会造成二次污染等诸多优点,成为了21世纪最有前景的绿色溶剂之一。将己内酰胺-四丁基氟化铵离子液体配置成不同浓度的水溶液,测定其表面张力。结果表明,该离子液体的表面张力随温度的升高而降低,随离子液体浓度的增加而减小;在一定浓度的时候,离子液体的表面张力小于水的表面张力。

500kV交流CVT高电压介损诊断对比分析

本文基于一次500kV CVT耦合电容器高压介损试验案例,对部分电容元件的绝缘缺陷这一类导致电容实测值增大的故障进行了更加深入的分析,对两个故障耦合电容器介损和电容量测得值在试验电压从10~96kV左右的上升过程中不同的变化趋势进行了分析、对比。并形成典型案例手册,对以后CVT试验过程中干扰因素进行排除,对设备真实状态进行科学准确评估判断。

特高压交流1000kV等电位在线验电器性能改善研究及模拟测试

本文针对交流1000kV等电位户外固定式在线验电器在交流1000kV输电线试运行时外壳出现的电晕放电问题,采用ANSYS有限元仿真软件对验电器外壳电场进行仿真分析,结果表明产生电晕的原因是验电器在强电场环境下外壳电场分布不均、局部场强大于空气击穿场强。为此提出了外壳等电位处理、增加均压环、外壳倒角圆滑处理三种验电器外壳改进模型,仿真结果表明同时采用三种处理方式能全面改善外壳电场分布,最后将该模型样机挂网试运行,试运行情况稳定。

凉水井煤矿通风系统优化应用研究

凉水井煤矿地处陕西省榆林市以北、神木县城以南,设计生产能力4.0Mt/a,核定生产能力8.0Mt/a。矿井采用分区式通风方式,抽出式通风方法通风。由主斜井、副斜井和二号副斜井进风,回风斜井和二号回风立井回风。由于回风斜井服务3-1煤通风仅剩31101综采工作面,富余风量较多;二号回风立井服务4-2煤及二水平开拓通风,采掘作业地点布置较多,富余风量较少。矿井存在有风量分配不均衡、通风阻力大和经济适用性差等不足,需要优化矿井通风系统,保证矿井经济通风,实现矿井通风更加合理可靠,特对凉水井煤矿通风系统进行优化研究。