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电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究
被引量:
5
1
作者
陈光华
杨今漫
+1 位作者
谢二庆
北京工业大学应用物理系
《兰州大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
1998年第3期44-47,共4页
利用电弧离子镀技术在不锈钢衬底上沉积了TiN,TiAlN薄膜,并对两种样品分别在大气环境下进行了高温退火.退火前后都做了X射线衍射(XRD)谱及硬度测量,发现退火后TiAlN薄膜表面出现Al2O3层,该层的出现使Ti...
利用电弧离子镀技术在不锈钢衬底上沉积了TiN,TiAlN薄膜,并对两种样品分别在大气环境下进行了高温退火.退火前后都做了X射线衍射(XRD)谱及硬度测量,发现退火后TiAlN薄膜表面出现Al2O3层,该层的出现使TiAlN薄膜的高温特性大大好于TiN涂层,在机械工业中将会有广泛的应用前景.
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关键词
电弧离子镀
TIALN
氮化钛
薄膜
下载PDF
职称材料
题名
电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究
被引量:
5
1
作者
陈光华
杨今漫
谢二庆
北京工业大学应用物理系
机构
兰州大学物理系
出处
《兰州大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
1998年第3期44-47,共4页
文摘
利用电弧离子镀技术在不锈钢衬底上沉积了TiN,TiAlN薄膜,并对两种样品分别在大气环境下进行了高温退火.退火前后都做了X射线衍射(XRD)谱及硬度测量,发现退火后TiAlN薄膜表面出现Al2O3层,该层的出现使TiAlN薄膜的高温特性大大好于TiN涂层,在机械工业中将会有广泛的应用前景.
关键词
电弧离子镀
TIALN
氮化钛
薄膜
Keywords
TiN films TiAlN films Arc like ion X ray diffraction vapour deposition
分类号
TN304.204 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究
陈光华
杨今漫
谢二庆
北京工业大学应用物理系
《兰州大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
1998
5
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职称材料
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