磁控溅射制备碳化硼薄膜的结构与成分分析

近年来国际上^(3)He资源的短缺造成了基于^(3)He的中子探测器高昂的成本,而以碳化硼薄膜作为中子转换层的硼基中子探测器逐渐成为了最有前景的替代方案。通过直流磁控溅射制备了Ti/B_(4)C多层膜,并使用透射电子显微镜(TEM)、飞行时间二次离子质谱(ToF-SIMS)、X射线光电子能谱(XPS)等手段对薄膜的结构与成分进行表征。结果表明:Ti层存在结晶情况;H、O、N元素为薄膜内部的主要杂质,且多分布于Ti层与B_(4)C-on-Ti过渡层中;更高的本底真空度能够降低碳化硼薄膜内的杂质含量,提高B含量占比;中子探测效率测试结果证明本底真空度的提高能够有效提高碳化硼中子转换层的效率。

北京同步辐射软X射线装置与软X射线探测器标定

简单介绍了２套北京同步辐射软Ｘ射线装置，主要用于软Ｘ射线光学元件测量和软Ｘ射线探测元、器件的标定。给出了在软Ｘ射线测量装置上计量标准和探测器标定方面的研究结果。

北京同步辐射 3B1 束线软 X 射线光源及探测器灵敏度标定

本文简单介绍了北京同步辐射装置３Ｂ１束线软Ｘ测量装置的结构与概况，从单色器能量分辨、绝对光子通量及出射光强线性三个方面对该装置光源特性进行了系统的研究，初步建立了标定用辐射场，并为用于惯性约束聚变（ＩＣＦ）的软Ｘ射线探测器进行了灵敏度标定，得到比较理想的结果。

北京同步辐射软X射线偏振测量装置及其应用

在北京同步辐射装置(BSRF)设计建造了一套基于多层膜偏振元件的软X射线偏振测量分析装置,可工作在双反、双透、前反后透和前透后反四种工作模式,既可作为偏振测量装置,用于同步辐射光束线和多层膜偏振元件偏振特性测量,也可作为通用反射率计,用于多层膜和薄膜的反射或透射率测量,又可用于磁性材料的磁光效应研究等。利用自行研制的装置和光学元件对BSRF的3W1B光束线的偏振特性进行了系统的测量。测量结果指出,在206 eV时,输出光的线偏振度从起偏前的0.585上升到起偏后的0.995,同步光的线偏振度得到极大改善。利用非周期宽带Mo/Si多层膜开展了铁磁性材料的磁光法拉第效应测量,获得了Ni薄膜3p边附近(60–70 eV)的法拉第旋转角度,最大偏转角度在65.5 eV和68 eV分别为1.85±0.19°和–0.75±0.09?。

北京同步辐射装置X光光刻束线监测系统

本文介绍了安装在北京同步辐射装置(BSRF)3B1束线上的自制同步辐射光束在线监测系统,对光束垂直位置、光斑均匀性及光刻曝光量(同步光积分光强)实现了在线监控,给出了实时在线测试结果。

北京同步辐射软X射线装置与软X射线探测器标定

软X射线计量标准的建立和软X射线探测器标定是目前国内急需解决的课题，本文简单介绍了两套北京同步辐射软X射线装置，它们主要用于软X射线光学元件测量和软X射线探测元、器件的标定。另外给出了近年来在软X射线测量装置上开展的计量标准和探测器标定方面的研究结果。

北京同步辐射软X射线装置与软X射线探测器标定

简单介绍了2套北京同步辐射软X射线装置，主要用于软X射线光学元件测量和软X射线探测元、器件的标定。给出了在软X射线测量装置上计量标准和探测器标定方面的研究结果。

透射光栅衍射效率研究

透射光栅广泛应用于 X光能谱测量 ,为获得定量的 X光能谱 ,首先在北京同步辐射源上对透射光栅的衍射效率在多个入射 X光能量点进行了实验标定 ,获得了透射光栅衍射效率的实验结果。为模拟透射光栅衍射效率实验标定结果 ,发展了一个新的透射光栅衍射效率计算模型 ,该模型不同于国外已发展的矩形栅线模型和梯形栅线截面模型 ,而是假设透射光栅栅线具有准梯形截面。模型计算结果与实验标定结果符合很好。

X光CCD响应特性

在北京同步辐射源上建立了 X光 CCD量子效率实验标定方法 ,获得了 1 50 e V～ 1 50 0 e V能区范围多个 X光能点的量子效率实验结果 ,发展了 X光 CCD量子效率简化计算模型 ,并对 X光

邻苯二钾酸氢铊晶体积分衍射效率的标定

以北京同步辐射实验室487中能柬线为光源，在2．1～6．0keV的范围内对邻苯二钾酸氢铊（T1AP）平面晶体一、二、三级衍射的积分衍射效率进行了精确的实验标定。标定结果表明：TIAP晶体有较高的峰值衍射率；其一级衍射的积分衍射效率向低能端有增加的趋势，而在2．6～5．4keV的范围内大约为1．53×10^-4rad随着衍射级次的提高，衍射效率逐渐减小，二级衍射的积分衍射效率约为一级衍射效率的1／4，三级衍射结果比一级衍射下降一个量级。实验所标定的T1AP晶体可用于平晶谱仪对激光等离子体X射线光谱的定量分析。

RAP晶体积分衍射效率的实验研究

以北京同步辐射装置的4B7中能束线为光源,对RAP(邻苯二甲酸氢銣)晶体的积分衍射效率进行了实验标定.结果显示:晶体在不同能量段都得到了完整的衍射峰,扭摆曲线的光滑性和对称性较好,在偏离布喇格角以后衍射效率都迅速下降到本底量级.在2.1～5.8keV范围内,晶体的积分衍射效率在1×10-4rad左右.

软X射线多层膜反射式偏振光学元件设计

叙述了软X射线波段反射式多层膜起偏器和检偏器的设计原则和设计方法,计算了不同波段软X射线反射式多层膜起偏器和检偏器的性能,讨论了多层膜制作过程中,表界面误差(表面粗糙度和扩散)对起偏器和检偏器性能的影响,探讨了光谱分辨率对偏振元件测试过程的影响,这些设计、计算和分析为制作实用软X射线多层膜偏振光学元件提供了理论基础。

同步辐射(软X、紫外)辐照麦类作物种子的诱变效应

同步辐射（软Ｘ、超软Ｘ射线）辐照麦类作物种子的生物学效应显著。Ｍ１代出现条状叶绿素缺失，其出现率高达４０％～１００％，其中大麦的缺失有４种类型，这在γ辐照中没有出现。Ｍ２代出现了宽的突变谱，最高达９种类型的突变，其最高总突变率为γ射线的２７倍，有益突变率为γ射线的５７倍。

nm量级薄膜厚度测量

为了获得nm量级薄膜样品的精确厚度,采用软X射线反射率拟合方法、Bragg衍射方程方法和反射率Fourier变换方法分析了常规Cu靶X射线衍射数据及软X射线反射率数据。对厚度测量结果进行比较,3种方法得到的结果一致性很好。其中,软X射线反射率拟合和Bragg衍射方程方法精度很高,优于1nm,Fourier变换方法精度稍低。对于单层W薄膜样品,3种方法获得厚度分别为(15.21±0.60)nm,(14.0±1.0)nm和(13.8±1.5)nm;对于双层W/C薄膜样品,W层厚度分别为(12.64±0.60)nm,(13.0±1.0)nm和(13.9±1.5)nm。这3种方法测量结果精度主要取决于反射率数据测量精度,而Fourier变换方法精度随着能量升高而提高,随着掠入射角范围增大而提高。

平面镜反射率的标定及修正

研究了用同步辐射源标定软X光掠入射平面镜的反射率。实验采用北京同步辐射装置（BSRF）-3W1B柬线及反射率计靶室，在50～1500eV能区，做了C，Si，Ni和Au材料平面镜在1^o～7^o掠射角下的反射率标定曲线。由于3W1B束线的单色器采用变间距光栅作色散元件，光栅分光必然存在高次谐波，高次谐波严重影响光源的单色性，从而给平面镜的反射率标定值带来误差。前置滤片虽然能有效抵制高次谐波，但不能完全消除高次谐波。为此，利用透射光栅对光源做了单色性研究，给出高次谐波在不同能区所占光源强度的比例，从而对平面镜反射率标定值做出修正。

北京同步辐射装置3B3光束线输出特性初步诊断

详细介绍了前端区、前置聚焦单元和单色器系统的诊断方法,并对结果进行了初步分析。指出前端区机械设计和整条束线的安装准直存在缺陷,是导致光通量未能达到设计指标的主要原因之一。检测手段的定量化对顺利调试束线、测试束线性能是有重要意义的。

极紫外宽带Mo/Si非周期多层膜偏振光学元件(英文)

研究了极紫外宽带多层膜偏振光学元件,包括反射式检偏器与透射式相移片。基于Mo/Si非周期多层膜结构,采用解析与数值优化相结合的方法进行了多层膜的设计;采用磁控溅射技术制备了多层膜。利用X射线衍射仪对非周期多层膜的结构进行了表征,利用德国BESSY-II同步辐射实验室的偏振测量仪对多层膜的偏振特性进行了测试。测量结果表明,在13 ～19 nm波段,s偏振分量的反射率高于15 %;在15 ～17 nm波段,获得了37 %的反射率。宽带多层膜同样可作为宽角偏振光学元件,在13 .8 ～15 .5 nm波段,宽带透射相移片的平均相移为41 .7°。采用所研制的宽带多层膜相移片与检偏器,建立了宽带偏振分析系统,并对BESSY-II的UE56/1 PGM1光束线的偏振特性进行了系统研究。这种宽带多层膜偏振光学元件可以极大地简化极紫外偏振测量。

5FW软X光胶片响应在同步辐射源上的实验标定

介绍了５ＦＷ软Ｘ光胶片在同步辐射源上进行响应标定的一种实验方法，得到了５ＦＷ软Ｘ光胶片对波长为１．４７ｎｍ和４．５９ｎｍ软Ｘ光的相对响应实验曲线。

X光胶片响应曲线的实验标定

介绍了天津ⅢX光胶片在北京同步辐射源3W1B装置上进行绝对响应标定的一种实验方法。实验中采用快门控制曝光时间,标准探测器记录积分光强,从而得到胶片接收到的绝对光强,并用黑密度计扫描胶片得到光学黑密度。数据处理中通过对快门响应的标定和对光源分布不均匀性的处理来减小光强的不确定度。实验得到了胶片在1 keV和1.5 keV两个能点绝对光强与黑密度之间的绝对响应实验数据,并用Hen-ke的理论公式拟合得到绝对响应曲线。

同步辐射软X光Al衰减膜透射率的测量

分参数测量Ａｌ衰减膜的质量厚度和氧化层后，通过计算得到了Ａｌ膜的透过率。为检验计算结果的正确性，在北京同步辐射软Ｘ光反射率计装置上进行Ａｌ衰减膜透过率的直接测量。二者的结果在最大偏差１１％范围内符合。