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激光剥离GaN表面的抛光技术 被引量:1
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作者 应磊莹 刘文杰 +2 位作者 张江勇 胡晓龙 张保平 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第10期758-762,共5页
激光剥离(LLO)技术是研制新型氮化镓(GaN)基谐振腔结构光电子器件的关键技术。然而LLO后的GaN表面往往具有较大的粗糙度,而制作谐振腔结构器件需要很高的表面平整度,因此需要对LLO后的GaN表面进行抛光。分别采用金刚石粉抛光液和胶粒二... 激光剥离(LLO)技术是研制新型氮化镓(GaN)基谐振腔结构光电子器件的关键技术。然而LLO后的GaN表面往往具有较大的粗糙度,而制作谐振腔结构器件需要很高的表面平整度,因此需要对LLO后的GaN表面进行抛光。分别采用金刚石粉抛光液和胶粒二氧化硅抛光液进行机械抛光和化学机械抛光(CMP),并对比了两种方法获得的抛光结果,研究发现前者会在抛光后的GaN表面引入划痕,而采用后者可以得到亚纳米级平整度的表面。进一步的实验结果表明,胶粒二氧化硅抛光液同样适用于图形化衬底外延片激光剥离后的GaN表面抛光。 展开更多
关键词 激光剥离(LLO) GAN 化学机械抛光(CMP) 垂直结构发光二极管(VSLED) 谐振腔发光二极管(RCLED) 垂直腔面发射激光器(VCSEL)
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中红外硅微透镜阵列的离焦效应(英文) 被引量:3
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作者 左海杰 杨文 +5 位作者 张江勇 应磊莹 张保平 侯治锦 陈洪许 司俊杰 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第2期149-153,共5页
采用严格数值算法对中红外硅微透镜阵列进行了模拟,该微透镜阵列特征尺寸小于波长工作波长.研究发现该微透镜阵列存在一个显著的离焦效应,其离焦量达到0.4左右,超出了现有的传统理论模型预测范围.对微透镜阵列进行了制作和焦距测试,发... 采用严格数值算法对中红外硅微透镜阵列进行了模拟,该微透镜阵列特征尺寸小于波长工作波长.研究发现该微透镜阵列存在一个显著的离焦效应,其离焦量达到0.4左右,超出了现有的传统理论模型预测范围.对微透镜阵列进行了制作和焦距测试,发现测试结果跟数值模拟基本吻合.微纳衍射光学集成系统中透镜离焦量是系统集成非常重要的一个参数,该研究结果为硅微透镜阵列和中红外探测器光学集成提供有效参考. 展开更多
关键词 亚波长结构 FDTD 红外探测器 离焦 微透镜阵列
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GaN基半导体光伏电池的制备和特性研究 被引量:2
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作者 蔡晓梅 张江勇 +2 位作者 吕雪芹 应磊莹 张保平 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2015年第5期665-673,共9页
制备了3种低In组分(即原子分数)的InGaN p-i-n同质结太阳能电池,均显示良好的光伏响应特性,并对电池开路电压随In组分增大而急剧下降的内在机理作了深入分析.而后,改进外延结构采用相同工艺制作InGaN p-i-n异质结太阳能电池,并与同质结... 制备了3种低In组分(即原子分数)的InGaN p-i-n同质结太阳能电池,均显示良好的光伏响应特性,并对电池开路电压随In组分增大而急剧下降的内在机理作了深入分析.而后,改进外延结构采用相同工艺制作InGaN p-i-n异质结太阳能电池,并与同质结太阳能电池进行了对比分析,提出异质结是InGaN电池结构的较好选择.为了扩展太阳光的吸收范围,制作了InGaN多量子阱结构电池,指出合理设计器件结构是今后研究的关键,为进一步的研究发展提供了思路. 展开更多
关键词 INGAN 太阳能电池 结构
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InGaN/GaN多量子阱太阳电池的研制及特性研究 被引量:2
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作者 王宇 张江勇 +2 位作者 余健 应磊莹 张保平 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2014年第2期206-210,共5页
利用金属有机物化学气相沉积技术在蓝宝石衬底上生长了InGaN/GaN多量子阱外延结构,高分辨率X射线衍射测量结果显示,量子阱结构界面清晰,周期重复性很好,InGaN阱层的In组分约为0.2。利用该外延结构制备的InGaN/GaN多量子阱太阳电池的开... 利用金属有机物化学气相沉积技术在蓝宝石衬底上生长了InGaN/GaN多量子阱外延结构,高分辨率X射线衍射测量结果显示,量子阱结构界面清晰,周期重复性很好,InGaN阱层的In组分约为0.2。利用该外延结构制备的InGaN/GaN多量子阱太阳电池的开路电压为2.16V,转换效率达到了0.64%。器件的I-V测量结果显示,在光照条件下,曲线的正向区域存在一明显的"拐点"。随着聚光度的减小,I-V曲线的"拐点"逐渐向高电压区域移动,同时器件的开路电压也随之急剧下降。通过与理论计算对比,发现器件开路电压的下降幅度明显大于理论计算值。进一步分析表明,InGaN量子阱的极化效应不仅是I-V曲线产生拐点以及器件开路电压下降过快的主要原因,也是影响氮化物太阳电池性能的关键因素之一。 展开更多
关键词 INGAN/GAN多量子阱 极化效应 拐点 太阳电池
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SiO_2微盘腔的湿法腐蚀工艺研究
5
作者 杨文 龙浩 +4 位作者 郭长磊 江水森 张保平 蔡志平 应磊莹 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2017年第3期410-415,共6页
SiO_2回音壁模式(whispering gallery mode,WGM)的光学谐振腔具有品质因子Q值高、模式体积小、制作简单等优点,在腔量子电动力学、生物传感器、滤波器、非线性光学等领域具有非常好的应用前景.采用热氧化生长SiO_2、光刻图形化、磁控溅... SiO_2回音壁模式(whispering gallery mode,WGM)的光学谐振腔具有品质因子Q值高、模式体积小、制作简单等优点,在腔量子电动力学、生物传感器、滤波器、非线性光学等领域具有非常好的应用前景.采用热氧化生长SiO_2、光刻图形化、磁控溅射生长Cr掩膜、HF缓冲液湿法腐蚀SiO_2、KOH溶液湿法腐蚀Si并去除Cr掩膜等工艺,得到了周期化、尺寸不同的SiO_2微盘腔,其直径分别为20,40和60μm.利用原子力显微镜表征微盘腔表面的粗糙度,均方根表面粗糙度仅为0.469nm.在未经任何表面处理或者激光处理的情况下,利用连续波长可调激光器,通过光纤锥与微盘腔耦合,透射谱测量得到微盘腔的自由光谱范围(free spectrum range,FSR)为λFSR=9.6nm,Q值约为1×10~4. 展开更多
关键词 回音壁 KOH溶液 微盘腔 自由光谱范围 Q值
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垂直结构GaN基LED用Ni/Ag反射镜电极
6
作者 卜庆典 周伦茂 +3 位作者 龙浩 应磊莹 郑志威 张保平 《半导体技术》 CSCD 北大核心 2017年第8期591-597,共7页
Ni/Ag/Ti/Au金属系反射镜电极广泛用于GaN基垂直结构发光二极管(LED)的传统制造工艺。这种电极需要进行高温长时间整体退火才能获得高质量的欧姆接触,但对电极的反射率和器件性能影响较大。介绍了一种新工艺方法,该方法将电极分解为接... Ni/Ag/Ti/Au金属系反射镜电极广泛用于GaN基垂直结构发光二极管(LED)的传统制造工艺。这种电极需要进行高温长时间整体退火才能获得高质量的欧姆接触,但对电极的反射率和器件性能影响较大。介绍了一种新工艺方法,该方法将电极分解为接触层和反射层,降低反射层经历的退火温度和时间,获得了拥有良好的欧姆接触特性和高反射率的反射镜电极,解决了传统电极光学性能和电学性能相互制约的问题。首先生长极薄的Ni/Ag作为接触层,对接触层进行高温长时间退火后再生长厚层Ag作为反射层,之后再进行一次低温退火。使得对反射起主要作用的反射层免于高温长时间退火,相较于传统Ni/Ag/Ti/Au电极,该方法在获得更优良的欧姆接触的同时,提升了电极的反射率。在氧气氛围下进行500℃接触层退火3 min,400℃整体退火1 min后,电极的比接触电阻率为1.7×10^(-3)Ω·cm^2,同时在450 nm处反射率为93%。 展开更多
关键词 GAN基LED Ni/Ag反射镜电极 欧姆接触 反射率 比接触电阻率
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利用ICP进行In掺杂对GaN基LED材料性能的影响
7
作者 曾勇平 张保平 应磊莹 《山东工业技术》 2015年第6期163-164,共2页
本文主要介绍一种新型的改善Ga N材料p型欧姆接触特性的方法,即采用电子束蒸发技术在In GaN层上沉积一层ITO薄膜,然后通过感应耦合等离子体技术(ICP)对ITO进行轰击。通过XPS测试分析可知,ICP轰击ITO过程中,ITO中的In原子扩散至p-Ga N层... 本文主要介绍一种新型的改善Ga N材料p型欧姆接触特性的方法,即采用电子束蒸发技术在In GaN层上沉积一层ITO薄膜,然后通过感应耦合等离子体技术(ICP)对ITO进行轰击。通过XPS测试分析可知,ICP轰击ITO过程中,ITO中的In原子扩散至p-Ga N层。通过在p-Ga N上方制作欧姆接触并进行I-V测试,结果表明In掺杂后样品p型欧姆接触特性得到改善。 展开更多
关键词 p型欧姆接触
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GaN基垂直腔面发射激光器的研究进展
8
作者 应磊莹 梅洋 张保平 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2021年第3期472-483,共12页
GaN基垂直腔面发射激光器(VCSEL)是一种具有垂直出光结构的新型半导体激光器,其发光波长可覆盖整个可见光波段.与边发射激光器相比,VCSEL具有单纵模工作、低阈值电流、圆形对称光斑、与光纤耦合效率高以及可以制备高密度二维阵列等优点... GaN基垂直腔面发射激光器(VCSEL)是一种具有垂直出光结构的新型半导体激光器,其发光波长可覆盖整个可见光波段.与边发射激光器相比,VCSEL具有单纵模工作、低阈值电流、圆形对称光斑、与光纤耦合效率高以及可以制备高密度二维阵列等优点,因此被认为是下一代半导体照明、微投影、全色显示、可见光通信等应用领域的理想光源.GaN基VCSEL发展至今已经取得长足的进展,距离实现产业化应用也越来越近.本文对照目前已经发展成熟的GaAs基VCSEL的发展状况,综述了GaN基VCSEL的应用领域、发展现状、技术路线,并着重介绍了绿光GaN基VCSEL所取得的一系列进展,最后简述了GaN基VCSEL所面临的技术挑战. 展开更多
关键词 GAN 垂直腔面发射激光器 绿光
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Influence of barrier thickness on the structural and optical properties of InGaN/GaN multiple quantum wells 被引量:2
9
作者 梁明明 翁国恩 +4 位作者 张江勇 蔡晓梅 吕雪芹 应磊莹 张保平 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第5期328-332,共5页
The structural and optical properties of InGaN/GaN multiple quantum wells (MQWs) with different barrier thick-nesses are studied by means of high resolution X-ray diffraction (HRXRD), a cross-sectional transmissio... The structural and optical properties of InGaN/GaN multiple quantum wells (MQWs) with different barrier thick-nesses are studied by means of high resolution X-ray diffraction (HRXRD), a cross-sectional transmission electron mi-croscope (TEM), and temperature-dependent photoluminescence (PL) measurements. HRXRD and cross-sectional TEM measurements show that the interfaces between wells and barriers are abrupt and the entire MQW region has good periodic- ity for all three samples. As the barrier thickness is increased, the temperature of the turning point from blueshift to redshift of the S-shaped temperature-dependent PL peak energy increases monotonously, which indicates that the localization po- tentials due to In-rich clusters is deeper. From the Arrhenius plot of the normalized integrated PL intensity, it is found that there are two kinds of nonradiative recombination processes accounting for the thermal quenching of photoluminescence, and the corresponding activation energy (or the localization potential) increases with the increase of the barrier thickness. The dependence on barrier thickness is attributed to the redistribution of In-rich clusters during the growth of barrier layers, i.e., clusters with lower In contents aggregate into clusters with higher In contents. 展开更多
关键词 InGaN/GaN multiple quantum wells barrier thickness thermal quenching localization potential
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Tuning Properties of External Cavity Violet Semiconductor Laser 被引量:2
10
作者 LV Xue-Qin CHEN Shao-Wei +2 位作者 ZHANG Jiang-Yong YING Lei-Ying ZHANG Bao-Ping 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2013年第7期88-91,共4页
A tunable grating-coupled external cavity(EC)laser is realized by employing a GaN-based laser diode as the gain device.A tuning range of 4.47 nm from 403.82 to 408.29 nm is achieved.Detailed investigations reveal that... A tunable grating-coupled external cavity(EC)laser is realized by employing a GaN-based laser diode as the gain device.A tuning range of 4.47 nm from 403.82 to 408.29 nm is achieved.Detailed investigations reveal that the injection current strongly influences the performance of the EC laser.Below the free-running lasing threshold,EC laser works stably.While above the free-running lasing threshold,a Fabry–Pérot(F-P)resonance peak in the emission spectrum and a smooth kink in the output power-injection current characteristic curve are observed,suggesting the competition between the inner F-P cavity resonance and EC resonance.Furthermore,the tuning range is found to be asymmetric and occurs predominantly on the longer wavelength side.This is interpreted in terms of the asymmetric gain distribution of GaN-based quantum well material. 展开更多
关键词 tuning TUNABLE CAVITY
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光电耦合对InGaN/GaN量子阱光学性能的影响 被引量:1
11
作者 陈澜 吴瑾照 +5 位作者 龙浩 史晓玲 应磊莹 郑志威 丘志仁 张保平 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第1期48-54,共7页
围绕高性能GaN基垂直腔面发射激光器(VCSELs),设计了两种具有不同光电耦合强度的InGaN/GaN量子阱(QWs)样品,研究了它们的光学性质。样品A在腔模的两个波腹处各放置两个InGaN耦合量子阱,而样品B在腔模的一个波腹处放置5个InGaN耦合量子... 围绕高性能GaN基垂直腔面发射激光器(VCSELs),设计了两种具有不同光电耦合强度的InGaN/GaN量子阱(QWs)样品,研究了它们的光学性质。样品A在腔模的两个波腹处各放置两个InGaN耦合量子阱,而样品B在腔模的一个波腹处放置5个InGaN耦合量子阱。计算表明样品A具有较大的相对光限制因子1.79,而样品B为1.47。光学测试发现样品A有着更高的内量子效率(IQE)和更高的辐射复合效率。使用两种样品制作了光泵VCSEL结构,在光激发下实现激射,其中基于样品A的VCSEL有着更低的激射阈值。结果表明有源区结构会显著影响量子阱与光场的耦合作用、外延片的内量子效率、辐射复合寿命和VCSEL激射阈值,同时也说明样品A的有源区结构更有利于制作低阈值的VCSEL器件。 展开更多
关键词 有源区 相对光限制因子 内量子效率 复合寿命 垂直腔面发射激光器
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自分裂GaN基垂直结构LED研究 被引量:1
12
作者 苏旭良 王灿 +6 位作者 应磊莹 徐欢 许荣彬 梅洋 郑志威 龙浩 张保平 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第12期27-33,共7页
为了解决感应耦合等离子体刻蚀和衬底切割对发光二极管芯片造成损伤的问题,提高器件的成品率,提出了一种新的制备氮化镓基垂直结构发光二极管的工艺方法,成功制备出了无需衬底切割的自分裂垂直结构发光二极管.制备过程中使用化学机械抛... 为了解决感应耦合等离子体刻蚀和衬底切割对发光二极管芯片造成损伤的问题,提高器件的成品率,提出了一种新的制备氮化镓基垂直结构发光二极管的工艺方法,成功制备出了无需衬底切割的自分裂垂直结构发光二极管.制备过程中使用化学机械抛光来代替感应耦合等离子体刻蚀对n型氮化镓进行减薄,避免了感应耦合等离子体刻蚀对器件侧壁和有源区造成的损伤;通过临时衬底转移技术解决了衬底切割的问题,无需衬底切割即可得到单个发光二极管芯片.与传统结构正装发光二极管相比,300μm×300μm的自分裂垂直结构发光二极管的电学特性得到大幅度改善,电流为20 mA下的正向电压从3.17 V降到2.88 V,降低了9%;饱和电流从240 mA提高到280 mA,提高了17%.研究了电极形状对器件性能的影响,将电极形状由圆盘形改为环形,500μm×500μm的自分裂垂直结构发光二极管的饱和电流从450 mA提高到490 mA,提高了9%,通过优化电极结构有望进一步改善芯片性能. 展开更多
关键词 氮化镓 自分裂 垂直结构发光二极管 衬底切割 环形电极
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Effect of Laser Pulse Width on the Laser Lift-off Process of GaN Films 被引量:1
13
作者 CHEN Ming ZHANG Jiang-Yong +2 位作者 LV Xue-Qin YING Lei-Ying ZHANG Bao-Ping 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2013年第1期83-86,共4页
Laser lift-off(LLO),by which GaN is separated from sapphire,is demonstrated to be a promising technique for advanced GaN-based optoelectronic devices.Its physical insight,however,is still not fully understood.We study... Laser lift-off(LLO),by which GaN is separated from sapphire,is demonstrated to be a promising technique for advanced GaN-based optoelectronic devices.Its physical insight,however,is still not fully understood.We study systematically the effect of laser pulse width on the LLO process and the property of GaN.To estimate accurately the temperature distribution and the decomposed thickness of GaN,fluctuation in the pulse laser energy is taken into account.It is found that the temperature at the interface is increased in a higher speed for a narrower pulse width.In addition,less damage to the GaN film is expected for a narrower pulse width owing to the smaller heated area,lower transient temperature and lower N2 vapor pressure encountered during LLO.Some experimental results reported in literature are explained well.Our results are useful in understanding the effect of laser pulse width and can be taken as references in LLO of GaN/sapphire structures. 展开更多
关键词 SAPPHIRE OPTOELECTRONIC NARROW
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Silica-based microcavity fabricated by wet etching 被引量:1
14
作者 龙浩 杨文 +1 位作者 应磊莹 张保平 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第5期195-198,共4页
Silica whispering gallery mode(WGM) microcavities were fabricated by the buffered oxide etcher and potassium hydroxide wet etching technique without any subsequent chemical or laser treatments. The silicon pedestal ... Silica whispering gallery mode(WGM) microcavities were fabricated by the buffered oxide etcher and potassium hydroxide wet etching technique without any subsequent chemical or laser treatments. The silicon pedestal underneath was an octagonal pyramid, thus providing a pointed connection area with the top silica microdisk while weakly influencing the resonance modes. The sidewalls of our microdisks were wedge shaped, which was believed to be an advantage for the mode confinement. Efficient coupling from and to the 60 μm diameter microdisk structure was achieved using tapered optical fibres, exhibiting a quality factor of 1.5×10^4 near a wavelength of 1550 nm. Many resonance modes were observed, and double transverse electric modes were identified by theoretical calculations. The quality factor of the microdisks was also analysed to deduce the cavity roughness. The wet etching technique provides a more convenient avenue to fabricate WGM microdisks than conventional fabrication methods. 展开更多
关键词 etching gallery fibres silica pyramid roughness subsequent confinement hydroxide shaped
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Photoluminescence of green InGaN/GaN MQWs grown on pre-wells
15
作者 Shou-Qiang Lai Qing-Xuan Li +5 位作者 Hao Long Jin-Zhao Wu Lei-Ying Ying Zhi-Wei Zheng Zhi-Ren Qiu and Bao-Ping Zhang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第12期492-497,共6页
Photoluminescence(PL)characteristics of the structure consisting of green InGaN/GaN multiple quantum wells(MQWs)and low indium content InGaN/GaN pre-wells are investigated.Several PL peaks from pre-wells and green InG... Photoluminescence(PL)characteristics of the structure consisting of green InGaN/GaN multiple quantum wells(MQWs)and low indium content InGaN/GaN pre-wells are investigated.Several PL peaks from pre-wells and green InGaN/GaN MQWs are observed.The peak energy values for both pre-wells and green InGaN/GaN MQWs display an S-shaped variation with temperature.In addition,the differences in the carrier localization effect,defect density,and phonon-exciton interaction between the pre-wells and green InGaN/GaN MQWs,and the internal quantum efficiency of the sample are studied.The obtained results elucidate the mechanism of the luminescence characteristics of the sample and demonstrate the significant stress blocking effect of pre-wells. 展开更多
关键词 INGAN/GAN PHOTOLUMINESCENCE pre-wells green LED
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Effect of In Diffusion on the Property of Blue Light-Emitting Diodes
16
作者 曾勇平 刘文杰 +6 位作者 翁国恩 赵婉茹 左海杰 余健 张江勇 应磊莹 张保平 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第6期80-83,共4页
In diffusion to blue light-emitting diode (LED) wafers is performed by the inductive coupled plasma (ICP) treatment of a covering layer of indium tin oxide (ITO) on the wafer surface. The electrical property of ... In diffusion to blue light-emitting diode (LED) wafers is performed by the inductive coupled plasma (ICP) treatment of a covering layer of indium tin oxide (ITO) on the wafer surface. The electrical property of the p- type contact is improved and the redshift of photoluminescence (PL) from the InGaN quantum well of the wafer is found. Measurements by x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) demonstrate that In atoms have diffused into p-GaN. Reflectance spectra of the sample surface reveal the variation caused by the ICP treatment. A model of compensation of the in-plane strain of the InGaN layer is used to explain the redshift of the PL data. Finally, LEDs are fabricated by using as-grown and ICP-treated wafers and their properties are compared. Under an injection current of 20mA, LEDs with ICP-induced In doping show a decrease of 0.3 V in the forward voltage and an increase of 23% in the light output, respectively. 展开更多
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蓝紫光宽带可调谐光栅外腔半导体激光器 被引量:6
17
作者 陈少伟 吕雪芹 +2 位作者 张江勇 应磊莹 张保平 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2013年第11期145-149,共5页
利用闪耀光栅作为外腔光反馈元件,研究Littrow结构的蓝紫光外腔半导体激光器。通过引入闪耀光栅,在光栅面和半导体激光器后端面之间构成耦合外腔,改善了中心波长位于405.5nm的边发射半导体激光二极管的性能。研究结果表明,在引入外腔反... 利用闪耀光栅作为外腔光反馈元件,研究Littrow结构的蓝紫光外腔半导体激光器。通过引入闪耀光栅,在光栅面和半导体激光器后端面之间构成耦合外腔,改善了中心波长位于405.5nm的边发射半导体激光二极管的性能。研究结果表明,在引入外腔反馈后,半导体激光二极管的阈值电流降低了27%,说明外腔与内腔之间具有较高的耦合效率;改变反馈元件光栅的转角,实现了激射波长的宽带连续调谐,调谐范围可达7nm。 展开更多
关键词 激光器 光栅外腔 宽带调谐 蓝紫光
原文传递
GaN垂直腔面发射激光器研究进展 被引量:4
18
作者 杨天瑞 徐欢 +3 位作者 梅洋 许荣彬 张保平 应磊莹 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第7期143-157,共15页
氮化镓(GaN)垂直腔面发射激光器(VCSEL)在近20年来获得了飞速发展,已成为下一代半导体激光器的研究热点。GaN是制造从紫外波段到绿色波段光电子器件的绝佳材料,而VCSEL具有阈值和发散角小、调制速率高,以及输出光束呈圆对称等特点。首... 氮化镓(GaN)垂直腔面发射激光器(VCSEL)在近20年来获得了飞速发展,已成为下一代半导体激光器的研究热点。GaN是制造从紫外波段到绿色波段光电子器件的绝佳材料,而VCSEL具有阈值和发散角小、调制速率高,以及输出光束呈圆对称等特点。首先回顾了基于GaN的VCSEL的发展历史,简要介绍了它的主要应用方向;然后讨论了反射镜与谐振腔设计与制造中的关键问题;接着分析了三种不同结构的GaN VCSEL的散热机理,并分析讨论了优化散热的策略;最后介绍了基于GaN的蓝色、绿色和紫外VCSEL的研究进展及最新思路。 展开更多
关键词 激光器 垂直腔面发射激光器 氮化镓 半导体激光器 分布式布拉格反射镜
原文传递
高质量的AlGaN外延结构和UVC垂直腔面发射激光器的实现 被引量:1
19
作者 郑重明 王玉坤 +6 位作者 胡建正 郭世平 梅洋 龙浩 应磊莹 郑志威 张保平 《Science China Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第5期1978-1988,共11页
AlGaN基垂直腔面发射激光器(VCSEL)因其优越的材料性质和器件优点吸引了很多关注.然而,由于材料外延生长和器件制备工艺的局限,AlGaN基VCSEL制备很困难.本工作通过侧向外延生长技术制备了高质量的AlGaN多量子阱(MQWs)结构的外延片,并通... AlGaN基垂直腔面发射激光器(VCSEL)因其优越的材料性质和器件优点吸引了很多关注.然而,由于材料外延生长和器件制备工艺的局限,AlGaN基VCSEL制备很困难.本工作通过侧向外延生长技术制备了高质量的AlGaN多量子阱(MQWs)结构的外延片,并通过X射线衍射(XRD)和光致发光(PL)实验对外延片进行了分析.XRD测量显示,外延片中的AlN模板层几乎是弛豫的,刃位错密度为10^(9)cm^(-2).随后,生长的AlGaN/AlN超晶格(SL)层被用来减少刃位错密度,使得量子阱中的位错密度为10^(8)cm^(-2).根据PL测试结果,MQWs的内量子效率(IQE)为62%,且在室温下的发光以辐射复合为主.通过激光剥离(LLO)和化学机械抛光(CMP)技术,将这些外延片制备成UVC VCSEL.经过这些工艺,MQWs的晶体质量没有受到影响,还在抛光之后的表面观察到了UVC波段的受激辐射.这些AlGaN基UVC VCSEL在275.91,276.28和277.64 nm实现了激射,最小激射阈值为0.79 MW cm^(-2). 展开更多
关键词 ALGAN vertical-cavity surface-emitting lasers epitaxial lateral overgrowth laser lift-off UVC
原文传递
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