我国纺织印染工业面临的挑战及其结构调整(二)

3 国外印染技术发展趋势21世纪末,随着科学技术的不断发展,特别是信息技术的飞速发展,作为传统加工产业的纺织工业已从过去的粗放型、劳动力密集产业,逐步转变成集约化、资本密集型产业。创造新的流行概念,预测、

我国纺织印染工业面临的挑战及其结构调整(一)

90年代末,全球经济一体化和知识化的趋势越来越明朗.文章从经济、技术、贸易和生态环境等方面阐述了国际纺织印染工业的现状和发展趋势,由此分析了我国纺织印染工业与国际先进水平的差距和面临的挑战;对我国纺织印染工业在纺织工业发展阶段模式中应处的时期作了定位,分析了我国纺织印染工业的国家竞争优势,鉴此,结合即将来临的知识经济时代,提出了对我国纺织印染工业进行产业结构调整的建议和措施.

我国纺织印染工业面临的挑战及其结构调整(三)

5.2对我国纺织印染工业发展时用的定位 考察世界工业发展史,可以发现一个不争的事实,当今工业发达国家,如英国。

试论我国印染工业的产业结构调整

我国印染工业概况 我国印染行业至80年代末,基本上还是以纯棉、涤棉混纺织物大批量单一品种为主的生产格局。“七五”期间开始发展长丝染整,但产量很少。90年代以来,由于服装面料的需求变化和发展,促使印染行业进入了一个新的发展时期。尤其是乡镇和“三资”印染企业发展迅猛,其产量、技术水平以及产品品种质量均有相当大的提高。

μs振荡脉冲电源激励的多针-平板电极DBD特性

采用μs振荡脉冲电源激励多针-平板电极,以环氧树脂(ER)为阻挡介质,在大气压空气中产生均匀介质阻挡放电(DBD)。通过测量均匀DBD的电压-电流波形,拍摄放电图像,并计算放电过程平均放电功率和放电电荷量等放电参量,研究外加电压幅值、气隙距离以及阻挡介质厚度等因素对均匀DBD放电特性的影响。结果表明,放电均匀地覆盖到介质表面,DBD的平均放电功率和放电电荷量分别可达几百瓦和几千纳库,且它们都随外加电压幅值的增大呈非线性增大,随气隙距离和介质厚度的增大呈非线性减小。

高效抗静电洁净服面料的研制

以低温等离子体处理采用嵌织导电纤维的涤纶长丝洁净服面料,引发接枝聚乙二醇(200)二甲基丙烯酸酯,烘干交联,使该洁净服面料具有更好的抗静电性。通过试验,讨论了接枝工艺(等离子体处理时间、单体质量浓度、交联剂和光引发剂用量)和交联工艺(单体浓度,交联剂用量,交联温度和时间)参数对摩擦电压的影响。结果表明,接枝交联织物的抗静电性得到显著提高,并具有良好的耐洗性。

国外印染工业技术发展趋势(一)

随着科学技术的不断发展,印染技术围绕着全球竞争、小批量加工、生态平衡、应变市场和成本控制等主题而展开。目前在欧洲倡导应用的三E系统便是世界染整工业发展的主流。大量高新技术在纺织印染业中的应用主要体现在以电子计算机为主的现代控制技求和以生态观念开发新设备和技术。本文对国外在前处理、染色、印花和后整理各工序中采用的新设备、新技术进行了介绍,最后简要介绍了当今染整业的热门话题——纺织生态。

纺织品常压辉光放电等离子体处理技术

介绍电晕放电、介质阻挡放电产生等离子体的理论和应用;重点阐述大气压下辉光放电(APGD)技术的现状,解释了电子雪崩模型和流注放电理论,并以电压-电流波形图和电压-电荷李萨育图鉴别介质阻挡放电与大气压下辉光放电。通过对这三种放电形式的应用分析,确定了大气压下辉光放电等离子体最适合处理纺织材料,并对其面临的问题及前景作了分析。

国外印染工业技术发展趋势(二)

3 印花筛网印花(圆网、平网)继续成为纺织品印花的主要生产方式,约占印花纺织品总产量的80%。新型的全彩色无版印花方式以其适应快速反应、小批量多品种,以及清洁和环保型生产,向传统的筛网印花提出了挑战。计算机微处理控制已广泛地应用于印花设备。计算机辅助设计(CAD)也已在图案数据处理、分色描稿、激光制网、喷射印花中得到广泛的应用。印花机械设计向高效、经济、环保型方向发展。曾在印花工艺占绝对统治地位的辊筒印花在进一步减少,仅占总产量的10%。转移印花和手工台板印花仍分别占4%和2%。网点印花已步入市场。现就上述各方面分述如下:

国外印染工业技术发展趋势(三)

3.5 全彩色无版印花系统 与传统印花方式不同,无版印花(Screen-less Print)是一种无需网版,应用计算机图案处理和数字化控制,工艺简单且灵活的新型印花体系。它包括两种印花技术,即静电印刷术印花和油墨喷射印花。

湿法涂层制备涤纶洁净服面料

采用聚偏氟乙烯(PVDF)涂层液对涤纶织物进行湿法涂层以制备洁净服面料,讨论各工艺因素对涂层面料性能的影响。试验获得的优化工艺条件为:PVDF用量14%,添加剂LiCl3%,预挥发时间30s,凝固浴的组成为氯化钠∶去离子水=5∶95,涂层量5～7g/m2。采用优化工艺制得的洁净服面料,滤尘性高达90%,透湿和透气性也较好。

少量氩气对等离子体处理涤纶喷墨印花的影响

采用空气混合少量氩气常压等离子体对涤纶织物进行表面改性处理,再用浅蓝色纳米颜料墨水进行喷墨印花.探讨了等离子体处理对涤纶织物喷墨印花的K/S值、防渗效果、纤维表面形貌的影响,并对不同的氩气混合比例和处理层数做了比较.结果表明:经空气氩气混合气体等离子体处理的喷墨印花用涤纶织物,其亲水性和防渗性显著提高,喷墨印花图案清晰,得色量提高,印花色牢度没有降低;最佳氩气混合比例为20%,最佳处理条件为:功率300 W,时间150 s,极板间距3 mm.

常压空气等离子体处理对涤纶润湿性能的影响

研究常压空气等离子体处理对涤纶润湿性能的影响规律。采用脉冲常压空气等离子体对涤纶织物进行表面改性处理,然后用原子力显微镜、扫描电镜对织物和纤维表面形貌进行观察,再用X光电子谱测试织物表面化学成分,并测试涤纶织物经等离子体处理前后的润湿时间。结果表明,脉冲常压空气等离子体处理能较好地提高涤纶织物的润湿性。

次辉光放电等离子体在棉织物前处理中的应用

采用大气压下次辉光放电等离子体,处理纯棉和涤棉混纺织物,测试分析织物半制品退浆率、毛效、白度以及断裂强力等质量指标,得出了较常规碱处理工艺大大节省烧碱用量的等离子体预处理工艺;并结合常规酶处理工艺,探讨了等离子体结合酶处理工艺的优势。

超支化聚酰胺-胺防沾色剂的合成及性能初探

采用丙烯酸甲酯(MA)与二乙烯基三胺(DTA)为主要原料,采用Michael(麦克尔)加成和熔融聚合两步法合成了一种水溶性的超支化聚合物端氨基超支化聚酰胺-胺(HPAMAM—NH2)。选用10种水溶性染料,配成染液,加入该超支化聚合物后可使染料絮凝,阻止染料与纤维结合,从而达到去除浮色和防沾色效果。以活性橙K-GN为代表,在30℃,pH值为5～6的条件下用少量HPAMAM(<10 g/L)处理15～30 min,能达到良好的防沾色效果。

低温等离子体改性真丝织物的喷墨印花性能

真丝织物由于纤维表面光滑、抱水性较差,在喷墨印花时易产生渗化现象,清晰度和得色深度较差。试验采用常压低温等离子体(LTP)技术对真丝织物进行表面改性,随后以活性墨水喷印。探讨了LTP处理时间和极板间距对真丝织物喷墨印花固色率和K/S值的影响。结果表明,在放电功率60W、极板间距2mm的常压低温等离子体中处理3min,真丝织物的润湿性、防渗化性能和印花色牢度可得到有效改善。

PE/PP非织造布的次辉光放电接枝改性

采用常压次辉光等离子体对PE/PP非织造布进行预处理,然后与甲基丙烯酸接枝聚合改性。分析了等离子体处理时间,接枝反应时单体浓度、时间、温度、还原剂浓度等对接枝率的影响。结果表明,接枝后非织造布的润湿性能、染色性能和抗静电性能较未处理和仅用等离子体改性处理的织物有明显改善。

洁净服性能检测技术概述

概述洁净室的发展历史和现状,归纳了洁净服的应用现状和性能要求。在研究洁净服相关检测方法和标准的基础上,分析了各种检测方法和标准的优缺点,包括检测洁净服洁净性能的空气粒子过滤效率法、等效孔径法、可脱落大颗粒法和Body Box法,以及检测洁净服静电性能的感应静电电压及半衰期法、摩擦电压法、静电衰减时间和表面电阻等。

从第13届ITMA看世界印染工业的发展趋势(二)

4.1 前处理设备 从本届ITMA展出的前处理设备来看,更强调营造剧烈的反应条件,更注重设备的效能。为了有利于生态环境,尽量减少水的用量,结合反应和工艺的最佳化,强化水洗条件。

从第13届ITMA看世界印染工业的发展趋势(一)

’99第13届ITMA国际纺织机械展览会充分反映了当前国际纺织工业的最高科技水平。其展出的染整机械体现了围绕染整生产的经济性和生态性来开发新型设备的发展方向。本文按染整工序选择部分展品作简单介绍,并由此分析了世界印染工业的发展趋势,认为纺织印染工业仍然是世界各国关注发展的主要工业之一,而决非夕阳工业。文章还引用英国里兹大学的八阶段纺织经济发展理论,认为世界纺织印染工业进入了一个新时期,我国的纺织印染工业远未到其黄金时期,仍具有很大的发展潜力,必须迎头赶上。