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外加磁场对磁控溅射靶利用率的影响 被引量:11
1
作者 赵新民 狄国庆 朱炎 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2003年第2期104-106,共3页
通过在基片上直接放置一块永久磁铁来研究外加磁场对磁控溅射靶利用率的影响。实验发现 ,外加磁场的引入改变了靶表面附近的磁场分布 ,因而靶的刻蚀环的位置、宽度和深度均发生了明显的变化 ,靶的利用率在S S构型和S N构型中均比无外加... 通过在基片上直接放置一块永久磁铁来研究外加磁场对磁控溅射靶利用率的影响。实验发现 ,外加磁场的引入改变了靶表面附近的磁场分布 ,因而靶的刻蚀环的位置、宽度和深度均发生了明显的变化 ,靶的利用率在S S构型和S N构型中均比无外加磁场时要高。利用空间模拟磁场成功的解释这一实验现象。在S S构型和S N构型中 ,后者靶的刻蚀深度轮廓线比较平坦 ,相对刻蚀深度值更大 。 展开更多
关键词 磁控溅射靶 利用率 外加磁场 磁控溅射 等离子体 刻蚀环 模拟磁场 薄膜 沉积 制备
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锰锌铁氧体纳米颗粒的制备条件 被引量:6
2
作者 洪若瑜 张世忠 +1 位作者 李洪钟 狄国庆 《磁性材料及器件》 CAS CSCD 2006年第3期16-19,共4页
用NaOH共沉淀法制备了Mn-Zn铁氧体纳米颗粒,采用正交实验法研究了反应温度、OH-和Fe3+浓度对锰锌铁氧体磁性能的影响。发现各种影响因素中,反应温度对颗粒的磁性能有显著影响,而OH-和Fe3+浓度的影响不大。制得的纳米颗粒粒径细小(10nm)... 用NaOH共沉淀法制备了Mn-Zn铁氧体纳米颗粒,采用正交实验法研究了反应温度、OH-和Fe3+浓度对锰锌铁氧体磁性能的影响。发现各种影响因素中,反应温度对颗粒的磁性能有显著影响,而OH-和Fe3+浓度的影响不大。制得的纳米颗粒粒径细小(10nm),磁性能好,最高比饱和磁化强度可达53A·m2/kg。XRD分析表明产物纯净,其组成为Mn0.8Zn0.2Fe2O4。采用油酸钠进行颗粒的表面改性,其分散性有明显改善。此外,还用SEM、HRTEM等分析手段表征了粒子的微观形貌,并讨论了制备手段和粒子特性对其分散性的影响。 展开更多
关键词 锰锌铁氧体 化学共沉淀 正交实验 饱和磁化强度 纳米磁性微粒
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Pt_3Co核-Pt壳型纳米粒子的制备及磁性 被引量:2
3
作者 戴兢陶 杜玉扣 +2 位作者 狄国庆 华南平 杨平 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2006年第10期1908-1910,共3页
Pt3Co alloy nanoparticles were prepared by the reduction of H2PtCl6 and Co(OOCCH3)2 using NaBH4 as a reducing agent. The Pt3Co core-Pt shell nanoparticles (Pt3Co@Pt) were synthesized using hydrogen absorption reductio... Pt3Co alloy nanoparticles were prepared by the reduction of H2PtCl6 and Co(OOCCH3)2 using NaBH4 as a reducing agent. The Pt3Co core-Pt shell nanoparticles (Pt3Co@Pt) were synthesized using hydrogen absorption reduction and characterized by plasma-atomic emission spectrometry (ICP), transmission electron microscopy (TEM), X-ray diffraction (XRD) and SQUID magnetometer. The results show that average size of Pt3Co@Pt nanoparticles is 3.6 nm with a standard deviation of 0.9 nm. Heating Pt3Co nanoparticles in air at 700 ℃ for 1 h, Co in Pt3Co nanoparticles was oxidized to Co3O4 and CoO; while no oxidation tendency was detected for Pt3Co@Pt nanoparticles. The crystallize structure of Pt3Co@Pt changed from the face centered cube (fcc) to the face centered tetragonal (fct) after the heating treatment. The coercivity of the heated Pt3Co@Pt reached to 276 Oe at room temperature. 展开更多
关键词 Pt3Co纳米粒子 Pt3Co核-Pt壳结构纳米粒子 吸氢再还原法 磁性
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反应RF磁控溅射法制备氧化铝薄膜及其介电损耗 被引量:8
4
作者 赵登涛 朱炎 狄国庆 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2000年第4期300-303,共4页
在氧气和氩气的混合气氛中 ,利用反应射频磁控溅射铝靶制备了非晶氧化铝薄膜 ,其直流介电强度为 3~ 4MV/cm。当固定氩气流量 (压力 ) ,改变氧分压时 ,薄膜沉积速率先减小 ,再增大 ,然后又减小。适当的低工作气压和溅射功率下 ,薄膜的... 在氧气和氩气的混合气氛中 ,利用反应射频磁控溅射铝靶制备了非晶氧化铝薄膜 ,其直流介电强度为 3~ 4MV/cm。当固定氩气流量 (压力 ) ,改变氧分压时 ,薄膜沉积速率先减小 ,再增大 ,然后又减小。适当的低工作气压和溅射功率下 ,薄膜的介电损耗可以达到 0 4% ,小于已报道的关于非晶氧化铝薄膜的损耗。从 1 0 0Hz到 5MHz。 展开更多
关键词 反应射频磁控溅射 介电损耗 氧化铝薄膜
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尖晶石型铁氧体薄膜的研究现状 被引量:7
5
作者 陈亚杰 狄国庆 杨莉玲 《磁性材料及器件》 CAS CSCD 1999年第2期1-9,8,共10页
综述了近十年来国内外有关尖晶石型铁氧体的研究和应用状况,着重介绍了1996~1998年期间国外有关软磁铁氧体多晶薄膜的成膜技术、物性分析、应用领域、发展前景等方面的最新研究成果。
关键词 尖晶石铁氧体 薄膜 成膜技术 铁氧体
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梯度磁场中薄膜厚度梯度 被引量:2
6
作者 朱炎 狄国庆 +1 位作者 陈亚杰 赵登涛 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期367-370,共4页
通过在基片的下方放置磁铁 ,在放电空间中引入了纵向的磁场梯度。在这种情况下 ,辉光外貌发生显著收缩。同时 ,沉积的薄膜在平面内存在明显的厚度梯度。利用磁场中带电粒子的运动理论解释了此种薄膜的形成机制。
关键词 薄膜 厚度梯度 磁场梯度 磁控溅射 辉光
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反应溅射制备非晶Al_2O_3薄膜的介电特性 被引量:7
7
作者 赵登涛 狄国庆 朱炎 《材料科学与工程》 CSCD 2000年第3期80-83,共4页
在氧气、氩气的混合气氛中 ,利用反应射频磁控溅射制备了厚度在 1 0 0到 1 0纳米的非晶氧化铝薄膜。通过 Al-Al2 O3 -Al电容器研究了此非晶薄膜的介电性质。
关键词 反应射频磁控溅射 介电性质 非晶 氧化铝薄膜
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梯度磁场中薄膜厚度梯度的形成机理 被引量:1
8
作者 朱炎 狄国庆 +1 位作者 陈亚杰 赵登涛 《浙江大学学报(理学版)》 CAS CSCD 2002年第4期395-399,共5页
借助于基片下方放置的磁铁 ,在溅射的放电空间中引入了纵向的梯度磁场 .辉光放电时 ,其外貌发生了显著的收缩 ,由此沉积的薄膜在平面内存在明显的厚度梯度 .
关键词 形成机理 磁场梯度 磁控溅射 辉光放电 厚度梯度 动量转移 铁磁性薄膜
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非晶氧化铝超薄膜中的电荷输运特性 被引量:1
9
作者 朱炎 赵登涛 +1 位作者 狄国庆 方亮 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期296-297,300,共3页
研究了反应射频磁控溅射制备的非晶氧化铝薄膜中电荷输运过程,发现交流和直流电导导电机制是明显不同的.对直流输运,以 Poole—Frenkel发射模式为主,而新样品的立流电导则常常是带陷阱的空间电荷限制电流模式。交流电... 研究了反应射频磁控溅射制备的非晶氧化铝薄膜中电荷输运过程,发现交流和直流电导导电机制是明显不同的.对直流输运,以 Poole—Frenkel发射模式为主,而新样品的立流电导则常常是带陷阱的空间电荷限制电流模式。交流电导则是由所谓的声子辅助的定域载流子的跳跃引起的。电导的温度特性表明,交流电导有两种不同的导电机制,即低温区的浅陷阱发射和高温区的因氧缺陷导致的深陷阱的发射过程,直流电导与交流电导在高温区趋于一致。 展开更多
关键词 非晶氧化铝薄膜 Schottky发射 Poole-Frenkel发射 激活能 电荷输运
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磁记录介质的表面形貌和磁结构的观测 被引量:3
10
作者 马斌 韩立 +1 位作者 狄国庆 沈德芳 《磁性材料及器件》 CAS CSCD 2002年第3期7-9,共3页
使用磁力显微镜和偏光显微镜观测了硬磁盘、磁光盘、录像带、录音带和磁卡的表面形貌和磁结构,揭示了磁记录介质的信息存储状态。对于不同的记录模式,介质的磁结构截然不同,并且表面平整度也有差别,记录密度越高,介质表面越平整。
关键词 磁记录介质 磁畴 磁结构
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反应溅射制备的a-Al_2O_3薄膜中的时效过程 被引量:1
11
作者 赵登涛 朱炎 狄国庆 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期293-295,共3页
用反应溅射方法制备了非晶氧化铝薄膜;以 Al/a-Al2O3/Al电容器为载体,研究了此种电容器的电容量,随样品放置时间的衰减过程及其影响因素,结论如下:(1)同一样品,高频下测得的电容随样品放置时间而变小的趋势相对... 用反应溅射方法制备了非晶氧化铝薄膜;以 Al/a-Al2O3/Al电容器为载体,研究了此种电容器的电容量,随样品放置时间的衰减过程及其影响因素,结论如下:(1)同一样品,高频下测得的电容随样品放置时间而变小的趋势相对于低频值要缓慢。(2)其它条件相同时,低的工作气压下形成的样品,其电容量不易随时间而改变。(3)真空中的低温热处理有助于改善时效过程。(4)时效的机制可能是样品中亚稳态的缺陷逐渐消失。这些缺陷跟缺氧和吸水没有必然联系,也不太可能是Al2O3/Al的界面缺陷;它们的消失跟电老化也无必然联系。机制之一可能是氧过量引起的铝离子过配位的逐渐消失。 展开更多
关键词 非晶 氧化铝薄膜 电容 时效过程 反应溅射
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制备条件对Fe-Ta-N薄膜的结构和软磁性能的影响 被引量:1
12
作者 马斌 沈德芳 +2 位作者 狄国庆 杨正 魏福林 《磁性材料及器件》 CAS CSCD 2001年第2期1-4,8,共5页
应用射频磁控溅射法制备了 Fe- Ta- N薄膜 ,系统地研究了制备工艺对 Fe- Ta- N薄膜结构和软磁性能的影响。首先 ,制备了不同钽含量的薄膜 ,发现 (Fe89.5Ta10 .5) - N薄膜具有很好的软磁性能 ,氮分压 P(N2 ) =5时 ,矫顽力获得最小值 ,H... 应用射频磁控溅射法制备了 Fe- Ta- N薄膜 ,系统地研究了制备工艺对 Fe- Ta- N薄膜结构和软磁性能的影响。首先 ,制备了不同钽含量的薄膜 ,发现 (Fe89.5Ta10 .5) - N薄膜具有很好的软磁性能 ,氮分压 P(N2 ) =5时 ,矫顽力获得最小值 ,Hc=1 4A/m。此时 ,样品呈现纳米晶结构 ,晶粒尺寸 D≤ 1 0 - 8m。并且 ,钽掺杂能抑制铁氮化合物的生成 ,使薄膜在高氮分压范围内具有高的饱和磁化强度 ,Ms=1 2 4 2 k A/m。其次 ,考察了热处理对 (Fe89.5Ta10 .5) - N薄膜结构和磁性能的影响。 P(N2 ) =5时 ,沉积态薄膜为非晶结构 ,矫顽力很大 ;在热处理过程中 ,薄膜逐渐晶化 ,40 0℃热处理后 ,晶化度达到 40 % ,形成纳米晶结构 ,矫顽力迅速减小。最后 ,比较了不同溅射功率和总气压对 (Fe89.5Ta10 .5) - N薄膜结构和磁性能的影响 ,发现薄膜可在较大的溅射功率和总气压范围内保持优异的软磁性能 。 展开更多
关键词 Fe-Ta-N薄膜 磁头材料 软磁性能 制备条件 磁性材料
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基片表面的磁场对磁控溅射法制备Fe-N薄膜特性的影响
13
作者 朱炎 狄国庆 +2 位作者 陈亚杰 赵登涛 杨海峰 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2001年第4期332-335,共4页
利用反应磁控溅射方法制备了Fe N薄膜。发现未退火的薄膜基本处于非晶或微晶状态 ,退火或在沉积时对基片施加一磁场 ,可使晶粒变大 ,并出现对应内部存在应力的γ′ Fe4N的 (110 )晶面的择优取向。特别是外加的磁场使得Fe N薄膜具有明显... 利用反应磁控溅射方法制备了Fe N薄膜。发现未退火的薄膜基本处于非晶或微晶状态 ,退火或在沉积时对基片施加一磁场 ,可使晶粒变大 ,并出现对应内部存在应力的γ′ Fe4N的 (110 )晶面的择优取向。特别是外加的磁场使得Fe N薄膜具有明显改善的磁性能。 展开更多
关键词 磁场 磁性能 晶粒 铁-氮 薄膜 磁控溅射 制备
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前驱气体CH_4、N_2的流量比对CH_x膜Raman谱的影响
14
作者 辛煜 范叔平 +2 位作者 狄国庆 沈明荣 甘肇强 《材料科学与工程》 CSCD 1998年第3期77-79,共3页
沉积在Si(100)基片上的CNx膜是用微波等离子体化学气相沉积法(MWPCVD)制备的。本文着重探讨了CH4、N2的流量比对CNx膜的Raman谱的影响,并采用了X-射线光电子能谱(XPS)方法分析了CNx膜的化学... 沉积在Si(100)基片上的CNx膜是用微波等离子体化学气相沉积法(MWPCVD)制备的。本文着重探讨了CH4、N2的流量比对CNx膜的Raman谱的影响,并采用了X-射线光电子能谱(XPS)方法分析了CNx膜的化学状态。 展开更多
关键词 CNx膜 拉曼光谱 薄膜制备 前驱气体 CVD
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基片下磁场对溅射薄膜宏观形貌的影响 被引量:1
15
作者 储开慧 狄国庆 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第F11期330-331,共2页
通过屏蔽传统磁控溅射设备阴极内的磁场和在基片下放置永磁铁,使来自基片下的磁场发挥作用,研究了此外加磁场在溅射过程中对薄膜沉积所产生的影响。用这种方法沉积出的Cu、Al的薄膜的宏观形貌为:膜的中央有一圆斑,在圆斑的外围有环... 通过屏蔽传统磁控溅射设备阴极内的磁场和在基片下放置永磁铁,使来自基片下的磁场发挥作用,研究了此外加磁场在溅射过程中对薄膜沉积所产生的影响。用这种方法沉积出的Cu、Al的薄膜的宏观形貌为:膜的中央有一圆斑,在圆斑的外围有环。Al薄膜的中央圆斑处没有物质,为空白圆斑;而Cu薄膜的中央圆斑处有物质。对这一实验现象的产生机理,初步认为是成膜粒子在磁场中表现出的波动性。 展开更多
关键词 磁控溅射 膜厚 梯度磁场
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脉冲电源制作镍纳米接触及其BMR效应
16
作者 张学彩 狄国庆 《苏州大学学报(自然科学版)》 CAS 2010年第2期61-65,共5页
通过不同电源制作结果的比较,我们发现采用高频脉冲电流源并在电沉积过程中施加磁场的方法,制作镍纳米接触.这样制备的样品其弹道磁电阻(BMR)更加明显稳定,成功率也得以大幅提高.在所测样品中BMR值最大可达13 500%,而在保存2个月后个别... 通过不同电源制作结果的比较,我们发现采用高频脉冲电流源并在电沉积过程中施加磁场的方法,制作镍纳米接触.这样制备的样品其弹道磁电阻(BMR)更加明显稳定,成功率也得以大幅提高.在所测样品中BMR值最大可达13 500%,而在保存2个月后个别样品BMR依然明显稳定,这些为镍纳米接触BMR效应的研究和应用提供了必要条件. 展开更多
关键词 脉冲电源 电沉积 纳米接触 弹道磁电阻
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外加磁场中镍线纳米点接触的电镀制备研究
17
作者 徐德华 狄国庆 《苏州大学学报(自然科学版)》 CAS 2008年第3期60-64,共5页
在传统的电镀沉积纳米镍点接触方法的基础上,在电镀时外加一个恒定的磁场,改变了其纳米点结的微观磁结构,改善了样品的成功率和重复性.这种性能的改善被认为是在电镀过程中的纳米镍晶在外磁场下择优取向所致,这种择优取向引起了纳米点... 在传统的电镀沉积纳米镍点接触方法的基础上,在电镀时外加一个恒定的磁场,改变了其纳米点结的微观磁结构,改善了样品的成功率和重复性.这种性能的改善被认为是在电镀过程中的纳米镍晶在外磁场下择优取向所致,这种择优取向引起了纳米点结的磁畴结构的变化,从而揭示了纳米点接触中的弹道磁电阻效应. 展开更多
关键词 纳米点接触 弹道磁电阻 纳米点结
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国家图书馆二期工程暨国家数字图书馆工程施工关键技术
18
作者 吴长路 王玉生 +1 位作者 狄国庆 张文学 《工程质量》 2010年第4期25-40,共16页
1.1建筑基本情况 国家图书馆二期工程暨国家数字图书馆工程是国家重点文化建设项目。工程东靠中关村南大街,北临万寿寺路,南接图书馆老馆,是一座设计新颖、施工精细的功能型、智能型、节能型、环保型的现代化数字图书馆。
关键词 数字图书馆 国家图书馆 工程施工 二期工程 技术 建设项目 中关村 功能型
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超高密度磁存储的展望 被引量:7
19
作者 马斌 沈德芳 +2 位作者 狄国庆 杨正 魏福林 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2001年第2期205-210,共6页
磁性存储是最常用的海量存储技术,其记录密度越来越高,发展也越来越快。本文通过对信息记录、读出和存储三个过程的分析,对比了硬磁盘记录、垂直磁记录和磁光记录的优缺点,指出了采用垂直记录模式、非晶结构合金薄膜或铁氧体薄膜介... 磁性存储是最常用的海量存储技术,其记录密度越来越高,发展也越来越快。本文通过对信息记录、读出和存储三个过程的分析,对比了硬磁盘记录、垂直磁记录和磁光记录的优缺点,指出了采用垂直记录模式、非晶结构合金薄膜或铁氧体薄膜介质是实现超高密记录的方向,光辅助磁记录是很有希望的记录技术。同时,还指出量子磁盘技术是未来极高密记录的方向。 展开更多
关键词 磁性存储 高密硬磁盘记录 垂直磁记录 磁光记录
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外加磁场对磁控溅射过程及薄膜物性的影响 被引量:1
20
作者 朱炎 狄国庆 赵登涛 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2001年第4期384-388,共5页
通过在放电空间中引入垂直基片方向有梯度的磁场,使得利用普通的平面磁控溅射技术可以方便地制备磁性薄膜。与此同时,磁性薄膜的许多物理性能发生了变化。这种变化还出现于非磁性靶的情况中。本工作对有、无磁场时溅射的过程与结果作了... 通过在放电空间中引入垂直基片方向有梯度的磁场,使得利用普通的平面磁控溅射技术可以方便地制备磁性薄膜。与此同时,磁性薄膜的许多物理性能发生了变化。这种变化还出现于非磁性靶的情况中。本工作对有、无磁场时溅射的过程与结果作了比较,包括自偏压值,薄膜结晶状况,薄膜磁性能的变化等等。通过比较认为,带电粒子在放电空间中的特殊磁场位形中的运动是变化的根本原因。 展开更多
关键词 梯度 磁场 磁控溅射 薄膜 物理性能
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