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XRF基本参数法测量和计算电子材料的组成 被引量:6
1
作者 眭松山 魏军 史青 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1997年第3期99-104,共6页
本文主要探讨用XRF基本参数法测定电子陶瓷材料的成分含量,计算所需的基本参数都通过数学计算处理,用C语言设计编成测试软件。该法也适用于定量分析合金材料成分,稳定性和重现性好,高含量时的测试误差小于3%。
关键词 XRF法 基本参数 电子陶瓷材料 合金 组分
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质量衰减系数的计算与应用 被引量:7
2
作者 眭松山 魏军 史青 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1996年第2期85-89,共5页
质量衰砬系数μm是X射线理论强度计算中一项必需而重要的基本参数。它包括元素本身、元素间和元素对某波长的质量吸收。本文选用四种拟合式,用C语言编制成程序;任选波长计算与实验值进行比较,确定其精确度,提供给FP法计算初级... 质量衰砬系数μm是X射线理论强度计算中一项必需而重要的基本参数。它包括元素本身、元素间和元素对某波长的质量吸收。本文选用四种拟合式,用C语言编制成程序;任选波长计算与实验值进行比较,确定其精确度,提供给FP法计算初级和次级激发理论强度。 展开更多
关键词 质量衰减系数 基本参数法 X-射线荧光
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用XRF基本参数法定量计算多层薄膜的厚度 被引量:6
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作者 眭松山 魏军 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第1期67-72,共6页
针对多层薄膜材料,用XRF基本参数(FP)法定量分析计算多层薄膜试样的厚度。除了考虑直接受人射束激发产生初级荧光外,还考虑试样中其它元素初级荧光辐射而引起的层间和层内二次荧光。以计算三层膜荧光强度为例,提出各种不同情... 针对多层薄膜材料,用XRF基本参数(FP)法定量分析计算多层薄膜试样的厚度。除了考虑直接受人射束激发产生初级荧光外,还考虑试样中其它元素初级荧光辐射而引起的层间和层内二次荧光。以计算三层膜荧光强度为例,提出各种不同情况下计算初级和次级荧光强度的表达式。讨论二次荧光相对于,总强度的贡献。计算方法也能很好地用在大于三层膜及块样的X荧光强度计算。 展开更多
关键词 XRF基本参数法 荧光分析 薄膜 厚度 计算
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XRF法定量分析合金薄膜材料的厚度及组成 被引量:1
4
作者 眭松山 魏军 《分析科学学报》 CAS CSCD 1995年第4期44-46,共3页
本文采用XRF分析技术,用C语言设计运算软件,能无损、快速和精确地同时检测合金薄膜材料的质量厚度及组成含量,并可计算合金膜的体积密度和线性厚度,检测结果的相对误差在3%左右。
关键词 XRF分析 厚度 组成 体积密度 合金薄膜材料
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Al/Si_3N_4/TbFeCo/Si_3N_4磁光盘厚度定量计算方法
5
作者 眭松山 魏军 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第6期442-448,共7页
研究用XRF基本参数法计算磁光盘的厚度和组成,铝层厚度用AIKα线计算,两层氨化硅厚度都采用StKα线计算确定,磁光记录层采用FeKα,CoKα和TbLα线来确定其厚度及组成。列出了膜厚方程,可由计算机很快解出,其结... 研究用XRF基本参数法计算磁光盘的厚度和组成,铝层厚度用AIKα线计算,两层氨化硅厚度都采用StKα线计算确定,磁光记录层采用FeKα,CoKα和TbLα线来确定其厚度及组成。列出了膜厚方程,可由计算机很快解出,其结果与标准符合很好。 展开更多
关键词 磁光盘 厚度 计算方法
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