多孔钽材料与钽箔无压扩散焊连接的工艺研究

针对多孔钽植入器件的稳固安装问题,提出了采用钽箔制作产品的连接结构,确立了一种多孔钽材料与钽箔无压扩散焊连接的工艺方法,并成功制备出具有钽箔连接结构的颅骨板和颅骨锁多孔钽样品。经CT和SEM检测,该方法制备的多孔钽—钽箔连接件的连接区为冶金结合,无裂缝缺陷。

YPO_4:Gd,Eu荧光粉的制备和发光性能研究

针对高温固相法的不足,采用高温固相法经两次煅烧合成了Eu3+激发Gd3+敏化的YPO4∶Gd,Eu荧光粉,一次煅烧和二次煅烧温度、时间分别为800℃,6 h和600℃,6 h时发光效果较好。采用XRD、SEM、荧光分光光度计对荧光粉的相结构、晶粒形貌、光致发光性能等进行了表征。结果表明,在800℃保温6 h获得的化合物XRD结果与标准卡片物质一致,但颗粒尺寸分布宽、形貌杂乱。经研磨后在600℃二次煅烧6 h,晶粒表面变得平整光滑,形貌呈现较规则的多面体结构。荧光分光光度计结果发现二次煅烧及掺杂敏化剂Gd都能明显提高材料的发光强度。

橙红色荧光粉Ca_3Y_2Si_3O_(12)∶Sm^(3+)的制备及发光特性

采用高温固相法在1 400℃下经二次煅烧合成了橙红色荧光粉Ca3Y2-xSi3O12∶xSm3+,研究了Sm3+离子掺杂浓度及助熔剂对荧光粉发光性能的影响。XRD结果显示,所合成的荧光粉的主晶相为Ca3Y2Si3O12。荧光光谱分析表明,Ca3Y2Si3O12∶Sm3+硅酸盐荧光粉可以在320~500 nm范围内得到有效激发,并发射橙红光。在402 nm激发下,样品发射光谱中的主发射峰分别位于562 nm(4G5/2→6H5/2)、598 nm(4G5/2→6H7/2)和646 nm(4G5/2→6H9/2),其中598 nm处峰值最大。改变Sm3+离子掺杂浓度发现:荧光粉发光强度先增大后减小,最佳Sm3+掺杂量x(Sm3+)为5%,浓度猝灭机理为离子间的相互作用。讨论了几种助熔剂的影响,NH4F、CaF2和NaCl均降低荧光粉的发光强度,只有H3BO3能够显著增强样品的发光,其最佳掺杂质量分数为1%。

近紫外光激发单一基质白光荧光粉Ca_3Y_2Si_3O_(12)∶Dy^(3+)的制备及发光特性

采用高温固相法在1 400℃下合成了近紫外光激发的单一基质白光荧光粉Ca3Y2-xSi3O12∶xDy3+。XRD检测结果显示,合成的荧光粉主晶相为Ca3Y2Si3O12。荧光光谱分析结果表明:Ca3Y2-xSi3O12∶xDy3+硅酸盐荧光粉可以被348 nm的近紫外光激发,产生白光发射,两个主发射峰位于481 nm(4F9/2→6H15/2)和572 nm(4F9/2→6H13/2)。用481 nm最强峰监测,得到主激发峰位于348 nm的激发光谱,该光谱覆盖了300~450 nm的波长范围。研究了Dy3+离子掺杂浓度及助熔剂H3BO3对荧光粉发光特性的影响,Dy3+离子的最佳掺杂量x(Dy3+)为5%,助熔剂的最佳质量分数为2%。色坐标分析显示:荧光粉的色坐标随着掺杂离子浓度及助熔剂加入量改变而发生变化。x(Dy3+)为5%且H3BO3的质量分数为2%的样品的色坐标为(0.29,0.33),位于标准白光点的色坐标范围内。

绿色荧光粉Ca_3Y_2Si_3O_(12):Tb^(3+),Ce^(3+)的制备及发光特性（英文）

采用高温固相法合成了绿色荧光粉Ca3Y2Si3O12∶Tb3+。XRD检测结果显示,荧光粉主晶相为Ca3Y2Si3O12,属单斜晶系。荧光光谱分析表明:Ca3Y2Si3O12∶Tb3+硅酸盐荧光粉可以被370 nm的近紫外光激发,发射绿光,主发射峰位于490 nm(5D4→7F6),544 nm(5D4→7F5),585 nm(5D4→7F4)和621 nm(5D4→7F3)。用544 nm最强峰监测,得到主激发峰位于370 nm的激发光谱,此光谱覆盖了300~450 nm的波长范围。研究了煅烧条件、掺杂浓度及Ce3+共掺杂对荧光粉发光性能的影响:在1 400℃下经二次煅烧6 h得到的样品的发光性能最佳,Tb3+离子的最佳掺杂浓度为20mol%,Ce3+离子共掺杂能够提高荧光粉的发光强度,其最佳掺杂量为4mol%,说明存在Ce3+→Tb3+的能量传递。

添加稀土La对钨铼合金丝氧化行为的影响

通过DSC/TG分析了掺La与未掺La的W-3%Re合金丝的起始氧化温度,并对两种丝进行了850℃下0.51.5 h的等温氧化试验。对两种丝的氧化膜进行了SEM形貌观察与EDS元素定量分析,对氧化产物进行了XRD物相分析。结果表明,未掺La的W-3%Re合金丝起始氧化温度约为841℃,掺La的W-3%Re合金丝起始氧化约为892℃。850℃空气环境下,未掺La的W-3%Re合金丝较掺La的W-3%Re合金丝更容易氧化,其氧化膜中均含有WO3和ReO3,其中掺稀土的氧化膜中还含有WO2.90与WO2.72等复杂钨氧化产物。W-3%Re合金丝的氧化可通过锈层-金属分离形成多孔区的机制进行分析,掺稀土的合金丝氧化膜中,靠近基体一侧的氧化膜在850℃氧化1.5 h后依然较致密,未掺稀土的合金丝氧化膜则表现为疏松和充满裂纹,不能对基体产生良好防护。

氧化铝复合磨粒的制备及表征

为了提高Al2O3超微粉在水介质中的分散稳定性,先采用硅烷偶联剂KH-570对Al2O3表面进行改性,然后通过分两次加入引发剂过硫酸铵的方式,引发丙烯酰胺AM在KH-570改性的Al2O3超微粉表面进行接枝聚合改性。利用傅立叶红外光谱仪、激光粒度仪、微电泳仪、分光光度计、扫描电镜及X射线衍射仪对样品的表面元素分布、颗粒粒径、分散稳定性、表面Zeta电位、表面形貌及物相结构进行了表征。结果表明:分两次加入引发剂,可以得到在水介质中稳定、分散性好的复合磨粒。同未改性的Al2O3超微粉相比,经AM接枝聚合改性后的颗粒表面团聚现象得到改善,颗粒D50减少;接枝改性后Al2O3的等电点IEP发生迁移,在pH值11时颗粒表面Zeta电位绝对值达到最大,在水介质中的分散稳定性得到提高,形成以聚丙烯酰胺为壳,Al2O3为核的复合磨粒。

Al_2O_3复合磨粒的制备及表征

为了提高Al2O3超微粉在水介质中的分散稳定性,先采用硅烷偶联剂KH570对Al2O3进行表面改性,再对Al2O3粒子锚固偶氮引发剂偶氮二异丁基脒盐酸盐(AIBA),进而引发丙烯酰胺(AM)单体聚合而制备聚丙烯酰胺(PAM)/Al2O3复合粒子。利用XPS、FT-IR、激光粒度仪、微电泳仪、分光光度计、SEM及XRD等对Al2O3复合粒子结构及分散性能等进行表征。结果表明:在40℃下加入水溶性偶氮引发剂,可以得到在水介质中分散稳定性良好,以聚丙烯酰胺为壳,以Al2O3为核的复合磨粒。与未改性的Al2O3超微粉相比,经AM接枝聚合改性后的颗粒表面团聚现象得到改善,颗粒的D50减小;接枝改性后Al2O3的等电点IEP发生迁移,在pH值为9时颗粒表面Zeta电位绝对值达到最大。

W90Ni7Fe3合金制备工艺研究

本文采用传统粉末冶金方法制备了W0Ni7Fe3合金,重点研究了的合金粉末烧结过程工艺对合金性能的影响。升温至1440℃后钨粉迅速聚合长大,抗拉强度、硬度、密度也随之增加。1440℃烧结时间为30min时烧结坯延伸率最佳。

高纯金属钒粉烧结性能研究

利用电子探针观察高纯金属钒粉粒度和形貌,使用油压机将高纯金属钒粉压制成坯条,并采用万能试验机测定钒坯条压溃变形力曲线,分析钒坯条最优压制压力;分别通过热压烧结和冷等静压+真空烧结的方法对高纯钒粉进行烧结,研究烧结工艺对高纯钒粉烧结特性和力学性能的影响。结果表明:采用冷等静压+真空烧结的方法,在压制成形过程中,钒粉压坯密度和相对密度随压力的增加而逐步提高,压力提高到280 MPa时,压坯密度和相对密度分别为3.99 g·cm^-3和66.94%;经真空烧结后,坯料密度和相对密度分别为5.28 g·cm^-3和88.59%。压制压力由80 MPa提高到200 MPa时,压溃强度从0.4 MPa增加到6.0 MPa,增大趋势较为明显;压制压力提高到280 MPa时,压溃强度增加到7.4 MPa,增大趋势变缓。经热压烧结坯料的相对密度比冷等静压+真空烧结坯料的相对密度高,280MPa压力下热压烧结坯料密度和相对密度分别达到5.51g·cm^-3和92.91%。

基于微课的合作课堂教学模式在初中英语教学中的应用研究

新课改不断深入,以往的一些教学模式以及观念已经无法满足教学发展的需求,教师需要探索出更适合新时期学生发展的教学手段,并找到适合新时期教学的方针。在初中英语课上,将微课与合作学习结合起来,是一种全新的教学尝试,可以让初中生在英语课上的主体地位得到突出,并让初中生形成更加科学的学习习惯,强化初中生的自学能力,让教学质量得到保障。

红色荧光粉Ca_3Y_2Si_3O_(12):Eu^(3+)的制备及发光特性

采用高温固相法合成了红色荧光粉Ca_3Y_2Si_3O_(12):Eu^(3+)。研究了Eu^(3+)离子掺杂浓度、助熔剂及Gd^(3+)共掺杂对荧光粉发光特性的影响。XRD检测结果显示,荧光粉的主晶相为Ca_3Y_2Si_3O_(12),属单斜晶系。荧光光谱分析表明:硅酸盐荧光粉Ca_3Y_2Si_3O_(12):Eu^(3+)的发射光谱包含2个主峰,峰值分别位于590和614 nm,归属于Eu^(3+)离子从~5D_0→7~F_1和~7F_2的特征跃迁。用614 nm最强峰监测,得到激发光谱为一多峰宽带(200~500 nm)。改变Eu^(3+)离子掺杂浓度发现:随着掺杂量增加,荧光粉发光强度先增加后降低,最佳掺杂量为20 mol%;讨论了几种助熔剂的影响:NaCl、CaF_2作为助熔剂,对荧光粉的发光强度影响不大,H_3BO_3作为助熔剂降低荧光粉的发光强度,而NH_4F能显著提高荧光粉的发光强度;Gd^(3+)可以作为一种很好的共激活剂,敏化Eu^(3+)离子发光。

氧化铝复合磨粒对硬盘NiP/Al基板CMP的研究

在Al2O3表面改性的基础上,制备了以氧化铝、水、双氧水、氢氧化钠溶液为主要成分的抛光液,研究了计算机NiP/Al硬盘盘基片的化学机械抛光(chemical mechanical polishing,简称CMP)特性.通过螺旋测微仪测量了NiP/Al硬盘盘基片表面在不同抛光压力、抛光盘转速、时间、pH值下的材料去除率,利用原子力显微镜AFM表征了抛光后的硬盘盘基片表面粗糙度及形貌,并分析研究了Al2O3抛光液的CMP机理.最终得到最佳抛光工艺参数:抛光盘速率为30r/min、抛光压力2.1kPa、抛光时间为60min、抛光液pH值为9,此时表面粗糙度Ra为4.67nm.

橙红色荧光粉YPO_4:Gd^(3+),Eu^(3+)的合成及发光特性

采用高温固相法在1100℃下合成了橙红色荧光粉YPO_4:Gd^(3+), Eu^(3+),研究了Eu^(3+)离子掺杂浓度、助熔剂、Gd^(3+)离子掺杂对荧光粉发光性能的影响。XRD检测结果显示:合成荧光粉为单相的YPO_4。Eu^(3+)离子较佳掺杂摩尔浓度为2.5%,添加助熔剂NH_4F可将荧光粉的煅烧合成温度从1100℃降低到800℃,并可促进发光中心进入晶格。Gd^(3+)离子能将吸收的激发能有效传递给发光中心Eu^(3+)离子,提高荧光粉的发光强度。色坐标分析显示,合成YPO_4:Gd^(3+),Eu^(3+)荧光粉色坐标为(0.61,0.39),位于橙红光的色坐标范围内。