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钽催化磁控溅射法制备GaN纳米线(英文) 被引量:3
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作者 薛成山 李红 +5 位作者 庄惠照 陈金华 杨兆柱 秦丽霞 王英 王邹平 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期1129-1131,共3页
利用磁控溅射技术通过氨化Ga2O3/Ta薄膜,合成大量的一维单晶纤锌矿型氮化镓纳米线。用X射线衍射、扫描电子显微镜、高分辨透射电子显微镜,选区电子衍射和光致发光谱对制备的氮化镓进行了表征。结果表明:制备的GaN纳米线是六方纤锌矿结构... 利用磁控溅射技术通过氨化Ga2O3/Ta薄膜,合成大量的一维单晶纤锌矿型氮化镓纳米线。用X射线衍射、扫描电子显微镜、高分辨透射电子显微镜,选区电子衍射和光致发光谱对制备的氮化镓进行了表征。结果表明:制备的GaN纳米线是六方纤锌矿结构,其直径大约20~60nm,其最大长度可达10μm左右。室温下光致发光谱测试发现363nm处的较强紫外发光峰。另外,简单讨论了氮化镓纳米线的生长机制。 展开更多
关键词 纳米结构 氮化物 溅射
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Mg掺杂GaN纳米线的结构及其特性 被引量:1
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作者 薛成山 张冬冬 +3 位作者 庄惠照 黄英龙 王邹平 王英 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2009年第1期113-115,共3页
利用类似Delta掺杂技术在硅衬底上沉积Mg:Ga2O3薄膜,然后在850℃下对薄膜进行氨化,反应后制备出大量Mg掺杂GaN纳米线.采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、傅里叶变换红外(FTIR)光谱和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)对样品进行分析... 利用类似Delta掺杂技术在硅衬底上沉积Mg:Ga2O3薄膜,然后在850℃下对薄膜进行氨化,反应后制备出大量Mg掺杂GaN纳米线.采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、傅里叶变换红外(FTIR)光谱和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)对样品进行分析.结果表明,Mg掺杂GaN纳米线具有六方纤锌矿单晶结构,纳米线的直径在30-50nm范围内,长度为几十微米. 展开更多
关键词 氮化镓 纳米线 单晶 Mg掺杂
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氨化Si基Ga_2O_3/In_2O_3制备GaN薄膜 被引量:1
3
作者 薛成山 王福学 +5 位作者 庄惠照 张晓凯 艾玉杰 孙丽丽 陈金华 秦丽霞 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期1632-1634,共3页
研究了Ga2O3/In2O3膜反应自组装制备GaN薄膜,再将Ga2O3/In2O3膜在高纯氨气气氛中氨化反应得到GaN薄膜,用X射线衍射(XRD),傅里叶红外吸收(FTIR),扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)对样品进行结构、形貌的分析。测试结果表明,用此方法得到了... 研究了Ga2O3/In2O3膜反应自组装制备GaN薄膜,再将Ga2O3/In2O3膜在高纯氨气气氛中氨化反应得到GaN薄膜,用X射线衍射(XRD),傅里叶红外吸收(FTIR),扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)对样品进行结构、形貌的分析。测试结果表明,用此方法得到了六方纤锌矿结构的GaN多晶膜,且900℃时成膜的质量最好。 展开更多
关键词 GAN Ga2O3/In2O3 氨化 磁控溅射
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氨化Ga_2O_3/Pd/Sapphire薄膜制备GaN纳米线
4
作者 薛成山 郭永福 +4 位作者 石锋 庄惠照 刘文军 曹玉萍 孙海波 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期976-979,共4页
利用金属元素钯作催化剂,采用磁控溅射后氨化法,成功的在Sapphire衬底上制备出GaN纳米线。X射线衍射和X射线光电子能谱研究显示合成的纳米线具有六方纤锌矿GaN结构。通过扫描电子显微镜,透射电子显微镜和高分辨透射电子显微镜观察分析得... 利用金属元素钯作催化剂,采用磁控溅射后氨化法,成功的在Sapphire衬底上制备出GaN纳米线。X射线衍射和X射线光电子能谱研究显示合成的纳米线具有六方纤锌矿GaN结构。通过扫描电子显微镜,透射电子显微镜和高分辨透射电子显微镜观察分析得出GaN纳米线为单晶结构,其纳米线的直径约为10~60nm,长度达几十个微米。室温下以325nm波长的光激发样品表面,发现GaN带边发光峰有较弱的蓝移。最后简单讨论了GaN纳米线的生长机制。 展开更多
关键词 纳米线 GAN 磁控溅射 单晶 钯催化
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钯缓冲层制备GaN纳米线及光学特性分析
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作者 薛成山 郭永福 +2 位作者 石锋 庄惠照 刘文军 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2010年第1期14-17,共4页
利用射频磁控技术,在Si衬底上以Pd为缓冲层、Ga2O3粉末作为生长GaN的Ga源,成功制备出大量GaN纳米线。通过扫描电子显微镜、透射电子显微镜和高分辨透射电子显微镜观察分析得出GaN纳米线为单晶结构,纳米线的直径为10~60nm,长度达几十个... 利用射频磁控技术,在Si衬底上以Pd为缓冲层、Ga2O3粉末作为生长GaN的Ga源,成功制备出大量GaN纳米线。通过扫描电子显微镜、透射电子显微镜和高分辨透射电子显微镜观察分析得出GaN纳米线为单晶结构,纳米线的直径为10~60nm,长度达几十个微米。X射线衍射和X射线能量散射谱显示合成的纳米线为GaN单晶结构。傅里叶变换红外吸收光谱和光致发光光谱测试表明,制得的GaN纳米线与GaN体材料相比具有不同的光学特性。 展开更多
关键词 氮化镓 纳米线 磁控溅射 单晶 氨化 催化剂
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以磁控溅射+自组装反应方式制备GaN薄膜
6
作者 薛成山 董志华 +4 位作者 庄惠照 王书运 高海永 田德恒 吴玉新 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期463-466,共4页
为了用简单的方法得到GaN薄膜,以射频磁控溅射方法将Ga2O3薄膜沉积到Si(111)衬底上的SiC中间层上,通过其同NH3的自组装反应形成了GaN薄膜。同样,利用磁控溅射方法把SiC层沉积到Si衬底。其目的是为了缓冲由GaN外延层和Si衬底的晶格失配... 为了用简单的方法得到GaN薄膜,以射频磁控溅射方法将Ga2O3薄膜沉积到Si(111)衬底上的SiC中间层上,通过其同NH3的自组装反应形成了GaN薄膜。同样,利用磁控溅射方法把SiC层沉积到Si衬底。其目的是为了缓冲由GaN外延层和Si衬底的晶格失配造成的应力。为了比较中间层的作用,对按照两种方案(使用中间层和不使用中间层)实验样品进行了测试和比较。实验结果证实了SiC中间层提高了GaN薄膜的质量。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 自组装 中间层 SIC
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磁控溅射和氨化法生长GaN纳米棒及其特性
7
作者 薛成山 陈金华 +4 位作者 庄惠照 秦丽霞 李红 杨兆柱 王邹平 《微纳电子技术》 CAS 2008年第2期83-86,共4页
使用一种新奇的稀土元素铽(Tb)作催化剂,通过氨化磁控溅射在Si(111)衬底上的Ga2O3/Tb薄膜,合成了大量的GaN纳米棒,氨化温度为950℃,氨化时间为15min。该方法可以进行持续合成且制备的GaN纳米棒纯度较高、成本低廉。实验后分别用扫描电... 使用一种新奇的稀土元素铽(Tb)作催化剂,通过氨化磁控溅射在Si(111)衬底上的Ga2O3/Tb薄膜,合成了大量的GaN纳米棒,氨化温度为950℃,氨化时间为15min。该方法可以进行持续合成且制备的GaN纳米棒纯度较高、成本低廉。实验后分别用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和X射线光电子能谱(XPS)对样品进行了结构、表面形态和成分测试。通过XRD和XPS测试分析,合成的纳米棒具有六方纤锌矿GaN结构;通过SEM、TEM和HRTEM观察分析得出合成的纳米棒为单晶GaN纳米棒。简单讨论了GaN纳米棒的生长机制。 展开更多
关键词 氮化镓 溅射 纳米棒 单晶 催化剂
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Mg_3N_2 粉末的合成和光致发光性质研究(英文)
8
作者 薛成山 艾玉杰 +7 位作者 孙莉莉 孙传伟 庄惠照 王福学 杨兆柱 秦丽霞 陈金华 李红 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期2020-2022,共3页
Mg粉在800℃氨气流中氨化60min,可得到高质量的Mg3N2粉末。XRD分析表明,Mg3N2粉末是体心立方结构,晶格常数a=0.99657nm。SEM分析表明,Mg3N2粉末有多种形貌。PL测试表明,在激发波长为490nm的情况下,氮化镁粉末存在1个位于545nm的绿光发... Mg粉在800℃氨气流中氨化60min,可得到高质量的Mg3N2粉末。XRD分析表明,Mg3N2粉末是体心立方结构,晶格常数a=0.99657nm。SEM分析表明,Mg3N2粉末有多种形貌。PL测试表明,在激发波长为490nm的情况下,氮化镁粉末存在1个位于545nm的绿光发光峰。 展开更多
关键词 氮化 MgaN2粉末 光致发光
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VLSI背面金属化技术研究 被引量:1
9
作者 薛成山 庄惠照 《微电子技术》 1996年第5期10-16,共7页
关键词 VLSI 背面金属化 芯片 集成电路
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VLSI低温玻璃封帽技术研究 被引量:1
10
作者 薛成山 裴志华 《微电子技术》 1996年第5期30-33,29,共5页
关键词 VLSI 低温玻璃 封装 封帽
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热壁CVD法GaN微晶粒的制备
11
作者 薛成山 魏芹芹 +2 位作者 孙振翠 曹文田 董志华 《科学技术与工程》 2003年第3期269-271,274,共4页
用热壁CVD法在Si(111)衬底上生长GaN薄膜,用扫描电镜(SEM)观察发现在表面上有大量微晶粒,这些晶粒的直径在2-4μm之间。用扫描电镜(SEM)、选区电子衍射(SAED)、X射线衍射谱(XRD)、傅里叶红外透射谱(FTIR)、光致荧光谱(PL)对样品进行了... 用热壁CVD法在Si(111)衬底上生长GaN薄膜,用扫描电镜(SEM)观察发现在表面上有大量微晶粒,这些晶粒的直径在2-4μm之间。用扫描电镜(SEM)、选区电子衍射(SAED)、X射线衍射谱(XRD)、傅里叶红外透射谱(FTIR)、光致荧光谱(PL)对样品进行了结构、组分及发光特性分析。结果表明:这些微晶粒为GaN六方铅锌矿。 展开更多
关键词 GaN微晶粒 制备方法 热壁CVD法 氮化镓薄膜 薄膜结构 发光特性
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氨化法制备大量单晶GaN纳米线及其特性研究
12
作者 薛成山 秦丽霞 +3 位作者 庄惠照 陈金华 杨兆柱 李红 《微细加工技术》 EI 2008年第2期15-18,共4页
利用磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/Co薄膜,然后在管式炉中通入流动的氨气在950℃对薄膜进行氨化,反应后成功制备出大量GaN纳米线。采用X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和高分辨透射电子显微镜(HRT... 利用磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/Co薄膜,然后在管式炉中通入流动的氨气在950℃对薄膜进行氨化,反应后成功制备出大量GaN纳米线。采用X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)对样品进行分析。结果表明,采用此方法得到了六方纤锌矿结构的GaN单晶纳米线,纳米线的直径在50 nm^150 nm范围内,长度为几十微米。 展开更多
关键词 磁控溅射 氮化镓纳米线 X射线衍射
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采用SiO_2/Si系扩镓提高扩散质量和器件性能的研究 被引量:16
13
作者 刘秀喜 赵富贤 +2 位作者 薛成山 孙瑛 华士奎 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第3期235-240,共6页
镓杂质均可在裸Si系和SiO2/Si秒中扩散,但棵Si扩镓易在硅表面产生富镓合金点、凹坑和"白霜",导致器件低、软的击穿等,为了清除表面缺陷对器件性能的影响,采用SiO2/Si系扩镓进行了研究.经过实验和长期应用,这... 镓杂质均可在裸Si系和SiO2/Si秒中扩散,但棵Si扩镓易在硅表面产生富镓合金点、凹坑和"白霜",导致器件低、软的击穿等,为了清除表面缺陷对器件性能的影响,采用SiO2/Si系扩镓进行了研究.经过实验和长期应用,这是克服表面影响的行之有效的方法.本文对二种扩散方式所产生的不同结果,进行了分析和讨论. 展开更多
关键词 扩散 二氧化硅 半导体器件
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衬底温度对PLD方法生长Si(111)基ZnO薄膜结晶质量和发光特性的影响 被引量:8
14
作者 庄惠照 何建廷 +4 位作者 薛成山 张晓凯 田德恒 胡丽君 薛守斌 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期1105-1108,共4页
在不同衬底温度下用脉冲激光沉积法(PLD)在n型硅(111)衬底上生长ZnO薄膜。通过对薄膜进行的X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收(FTIR)、光致发光谱(PL)、透射电子显微镜(TEM)和选区电子衍射(SAED)的测量,研究了衬底温度对PLD方法制备的ZnO... 在不同衬底温度下用脉冲激光沉积法(PLD)在n型硅(111)衬底上生长ZnO薄膜。通过对薄膜进行的X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收(FTIR)、光致发光谱(PL)、透射电子显微镜(TEM)和选区电子衍射(SAED)的测量,研究了衬底温度对PLD方法制备的ZnO薄膜的结晶质量、发光性质以及微观结构的影响。发现在600℃的衬底温度下可以得到结晶质量最佳的ZnO薄膜。随着晶粒直径的减小,出现量子限制效应,在红外吸收和光致发光中的峰位均产生了蓝移。 展开更多
关键词 PLD ZNO 薄膜 六方纤锌矿结构
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在Si(111)上磁控溅射碳化硅薄膜的H_2退火效应 被引量:7
15
作者 安霞 庄惠照 +2 位作者 杨莺歌 李怀祥 薛成山 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期593-598,共6页
用射频磁控溅射法在常温硅衬底上制备了碳化硅薄膜并研究了氢退火对薄膜的影响 .用傅里叶红外透射谱(FTIR)、X射线衍射 (XRD)、X光电子能谱 (XPS)、扫描电镜 (SEM)及原子力显微镜 (AFM)对薄膜样品进行了结构、组分和形貌分析 .结果表明 ... 用射频磁控溅射法在常温硅衬底上制备了碳化硅薄膜并研究了氢退火对薄膜的影响 .用傅里叶红外透射谱(FTIR)、X射线衍射 (XRD)、X光电子能谱 (XPS)、扫描电镜 (SEM)及原子力显微镜 (AFM)对薄膜样品进行了结构、组分和形貌分析 .结果表明 :高温退火后 Si C膜的晶化程度明显提高 。 展开更多
关键词 磁控溅射 碳化硅 薄膜 氢退火 碳纳米线碳化硅
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Synthesis of One-Dimensional ZnO Na norods by Oxidating Zinc Films Deposited with Magnetron Sputtering 被引量:5
16
作者 石礼伟 李玉国 +2 位作者 王强 薛成山 王书运 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第10期1211-1214,共4页
One-dimensional ZnO nanorods are synthesized by ox idating thin metal zinc films deposited on Si(111) substrates with radio frequen cy magnetron sputtering.The crystal structure,surface morphology,and optical pro per... One-dimensional ZnO nanorods are synthesized by ox idating thin metal zinc films deposited on Si(111) substrates with radio frequen cy magnetron sputtering.The crystal structure,surface morphology,and optical pro perties of nanorods are investigated.X-ray diffraction(XRD) pattern,scanning el ectron microscopy(SEM),and transmission electron microscopy(TEM) analyses show t hat the synthesized single-crystal ZnO nanorods develop like hairpins along dif ferent radials,with a hexagonal wurtzite structure.The diameters of nanorods ran ge between 30 and 60nm and lengths up to micrometers.Photoluminescence(PL) analy sis shows that,under 280nm light excitation,a strong and sharp near band-edge U V light emission band at 372nm and a relatively weak green deep-level light emi ssion band at 516nm are observed from the ZnO nanorods,which indicates excellent crystallization and optical quality of the fabricated ZnO nanorods. 展开更多
关键词 magnetron sputtering thermal oxidation ZNO nan orods properties
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溅射后退火反应法制备GaN薄膜的结构与发光性质 被引量:4
17
作者 杨莺歌 马洪磊 +3 位作者 薛成山 庄惠照 郝晓涛 马瑾 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期387-390,共4页
报道了用溅射后退火反应法在 Ga As (110 )衬底上制备 Ga N薄膜 .XRD、XPS、TEM测量结果表明该方法制备的 Ga N是沿 c轴方向生长的六角纤锌矿结构的多晶薄膜 .PL测量结果发现了位于 36 8nm处的室温光致发光峰 .
关键词 溅射 退火 GAN薄膜 结构 光致发光 氮化镓(110)晶面
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氨化Si基Ga_2O_3/Al_2O_3制备GaN薄膜 被引量:5
18
作者 魏芹芹 薛成山 +2 位作者 孙振翠 曹文田 庄惠照 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期312-315,共4页
研究了 Ga_2O_3/Al_2O_3 膜反应自组装制备 GaN 薄膜。首先利用磁控溅射法在硅衬底上制备 Ga_2O_3/Al2O3膜,再将Ga_2O_3/Al_2O_3 膜在高纯氨气气氛中氨化反应得到了 GaN 薄膜。用 X 射线衍射(XRD),X 光光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)... 研究了 Ga_2O_3/Al_2O_3 膜反应自组装制备 GaN 薄膜。首先利用磁控溅射法在硅衬底上制备 Ga_2O_3/Al2O3膜,再将Ga_2O_3/Al_2O_3 膜在高纯氨气气氛中氨化反应得到了 GaN 薄膜。用 X 射线衍射(XRD),X 光光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和 荧光光谱(PL)对样品进行结构、组分、形貌和发光特性的分析。测试结果表明:用此方法得到了六方纤锌矿结构的 GaN 晶体膜。 展开更多
关键词 GAN Ga2O3/Al2O3膜 氮化 磁控溅射
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GaN纳米结构的制备 被引量:5
19
作者 马洪磊 杨莺歌 +3 位作者 薛成山 马瑾 肖洪地 刘建强 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期455-457,共3页
提出一种通过对溅射Ga2 O3薄膜后氮化技术制备GaN纳米结构的方法 ,已成功地制备出GaN纳米线、纳米棒和纳米带。该方法既不需要催化剂 ,也不需要模板限制 ,不仅避免了杂质污染 ,而且简化了纳米结构的制造工艺 ,对于纳米结构的应用非常有... 提出一种通过对溅射Ga2 O3薄膜后氮化技术制备GaN纳米结构的方法 ,已成功地制备出GaN纳米线、纳米棒和纳米带。该方法既不需要催化剂 ,也不需要模板限制 ,不仅避免了杂质污染 ,而且简化了纳米结构的制造工艺 ,对于纳米结构的应用非常有利。利用扫描电子显微镜 (SEM)、透射电子显微镜 (TEM)和选区电子衍射 (SAD)研究了GaN纳米结构的形貌和晶格结构。结果表明GaN纳米结构是具有六角纤锌矿结构的GaN晶体 ,不存在Ga2 O3或Ga的其他相。研究结果证明在高温氮化过程中由于晶格缺陷的降低和晶化的改进能够得到高质量的GaN晶体。简要地讨论了GaN纳米结构的生长机制。 展开更多
关键词 GAN 纳米结构 制备 后氮化技术
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磁控溅射碳化硅膜的制备及其光致发光特性 被引量:5
20
作者 李玉国 王强 +3 位作者 石礼伟 孙海波 薛成山 庄惠照 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2004年第6期474-476,共3页
 采用磁控溅射方法制备了SiC薄膜,然后采用电化学方法将其腐蚀后获得具有纳米结构的多孔碳化硅。样品的PL谱表明,未经电化学腐蚀的薄膜能发出弱的紫光,峰值在392nm;当样品用电化学的方法腐蚀后,获得位于376nm的紫外光发射,且发光强度...  采用磁控溅射方法制备了SiC薄膜,然后采用电化学方法将其腐蚀后获得具有纳米结构的多孔碳化硅。样品的PL谱表明,未经电化学腐蚀的薄膜能发出弱的紫光,峰值在392nm;当样品用电化学的方法腐蚀后,获得位于376nm的紫外光发射,且发光强度得到极大提高。 展开更多
关键词 SIC 磁控溅射 电化学腐蚀 紫光发射
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