成像光谱仪光谱定标

成像光谱仪是谱像合一的新型光学遥感器。成像光谱仪的光谱定标是辐射定标的基础,准确的光谱定标是获得地物正确光谱信息的必要条件。介绍了成像光谱仪光谱定标的原理和几种光谱定标方法,并对国内成像光谱仪光谱定标技术进行了展望。

微晶玻璃低温抛光表面微观形貌的研究

揭示了微晶玻璃的内部微观结构、其组成成分的结晶相和玻璃相、晶粒尺寸的测定，重点分析了超精密低温抛光后微晶玻璃的表面形貌和表现出来的微观表面缺陷。

固着磨料加工碳化硅反射镜的实验

考虑固着磨料加工工艺其固着磨料与工件相对运动关系固定,有利于精确加工,提出了采用该工艺加工碳化硅反射镜的方法,利用大颗粒金刚石磨料快速加工出了较好的镜面质量。在工艺实验中,分别测得了W7,W5,W3.5,W1.5固着磨料丸片在特定转速和压力下对碳化硅材料的去除特性。对多组去除量曲线的分析表明,此工艺不仅有着较高的去除率,而且稳定性良好。对表面粗糙度测量的结果表明,使用W7丸片即可获得粗糙度为42.758 nm rms的镜面。减小所用丸片的粒度,工件表面粗糙度随之减小,使用W1.5丸片抛光后,最终获得了粗糙度为1.591 nm rms的光滑镜面。实验结果表明,固着磨料加工碳化硅反射镜工艺在粗研、精研、粗抛等加工阶段内可以取代传统的散粒磨料加工工艺。

均匀软X射线多层膜制备方法研究

介绍了基于速度调制技术的均匀软X射线多层膜制备方法,并采用该方法在直径为150mm的平面硅基板上制备出Mo/Si多层膜,其中心波长为13.5nm,膜厚空间非均匀性优于1%,较转盘匀速溅射方法制备的多层膜膜厚空间均匀性提高了近6倍。

蚀刻表面面形的分析

采用一个有效的数学模型 ,分析了在蚀刻工艺中基底自身面形轮廓的曲线形状对基底局部区域的蚀刻速率产生的影响 ,并通过对数学模型的理论分析和计算机模拟得出受此影响而产生的面形形状 ,并将结果与实验进行对比 .利用这个数学模型对使用离子束蚀刻制作单台阶光栅的台阶与沟槽部分的表面面形随时间的演变过程进行了计算机模拟分析 ,并通过把理论结果与在实验中得到的蚀刻表面在原子力显微镜 ( AFM)下拍摄的照片进行比较 ,结果说明这种模拟分析能够保证对该问题分析所要求的精度 。

用磁控溅射法制备软X射线多层膜

本文介绍用直流－射频平面磁控溅射法制备软ｘ射线多层膜的初步实验结果。在一定工艺条件下，采用计算机定时控制膜厚的方法，严格按照设计周期制备了多层膜样品，并给出了Ｘ射线衍射仪小角衍射的检测结果。

Mo/B_4C软X射线多层膜结构特性研究

在 6.7<λ<1 0 .0 nm波段选择 Mo/ B4 C作为多层膜材料 ,并采用磁控溅射法制备出多层膜样品 .这些多层膜样品的周期结构为 3 .3 5 nm～ 5 .5 2 nm.采用 X射线衍射仪和透射电镜 (TEM)对样品的微观结构进行研究 .结构表明 ,这些多层膜样品的结构质量很高 ,并有很好的热稳定性 .

铝合金微弧氧化膜白色斑点成因分析

用硅酸盐体系电解液进行铝合金微弧氧化时,氧化膜表面出现白色斑点状物,影响零件质量和外观,对这种白色斑点状物进行EDS和XRD成分测试,同时还对形成原因进行分析。结果表明,白色斑点状物是由SiO2聚集而成。

磁控溅射法制备Mo/B_4C软X射线多层膜

用DC和RF磁控溅射法制备出了波长小于 10nm波段的Mo/B4 C软X射线多层膜反射镜。掠入射X射线衍射仪的测量结果表明 ,磁控溅射法有很高的控制精度 ,制备出的Mo/B4 C软X射线多层膜周期结构非常好 ,表 (界 )面粗糙度非常小 ,约为 0 4nm。

教师的“情绪地理”及其优化策略

教师需要给学生提供情感抚慰和支持,需要研究和管理教学工作中的情感,教师劳动具有＂情感特征＂。教师的＂情绪地理＂包括社会文化距离、道德距离、专业距离、政治距离和物理距离等五个维度,受到个体因素、学校因素和社会经济文化等的影响。教师重绘＂情绪地图＂,学校完善＂情绪课程＂,社会释放＂环境压力＂,是形成积极的教师情绪,保证教学工作更加流畅的优化策略。

基于微信公众号的大学生思想引领新路径研究

新媒体时代的到来,思政教育工作面临前所未有的挑战,微信公众号的出现为引领大学生思想,重构师生信任关系,塑造思政品牌提供了新的可能。基于此,提出优化高校团委微信公众号新路径。

X射线Bragg-Fresnel元件中多层膜的稳定性研究

本文研究X射线Bragg－Fresnel元件中多层膜结构的热学及化学稳定性。介绍了实验方案及工艺条件。实验结果表明该多层膜结构在后续工艺中的热及化学载荷下性能是稳定的．并且在高温（300℃以下）的热稳定性也是好的。

C/Al软X射线多层膜反射镜的制备与测量

在λ＝ ２８．５ｎｍ 波长处，我们选择了一种新的多层膜材料对Ｃ／Ａｌ。正入射Ｃ／Ａｌ多层膜在１５．０ｎｍ 附近有很低的二级衍射峰。磁控溅射法制备的Ｃ／Ａｌ多层膜样品，用Ｘ射线小角衍射法对其结构进行了测试，并测得Ｃ／Ａｌ软Ｘ射线多层膜的正入射反射率２２％ ±４％ 。

用光学全息方法研制软X射线Bragg-Fresnel光学元件

介绍了软X射线Bragg Fresnel光学元件的特点 ,并以磁控溅射法制备多层膜 ,再采用光学全息方法在涂有光刻胶的多层膜表面上形成波带片图形 ,通过显影。

偏心孔阑离轴照明EUVL微缩投影物镜的设计及模拟装调

针对极紫外投影光刻 ( Extreme Ultraviolet Lithography,简称 EUVL)工作波长短的特点及由此带来的一些问题 ,对 EUVL微缩投影物镜的结构参数进行分析选择 ,设计了离轴照明方式的 Schwarzschild微缩投影成像物镜。利用基于奇异值分解的牛顿迭代法对敏感矩阵进行分解 ,求出相应失调量的大小 。

信息碎片化背景下大学生学习的困境与对策

随着新媒体时代的到来,大学生学习方式发生了翻天覆地的变化,“碎片式学习”已经成为当代大学生的阅读与学习的主要方式。“碎片式学习”与传统学习模式相比,容易导致大学生学习质量、思考的能力以及创新思维下降等,因此需要从如何提升碎片化学习的有效性、构建完整知识体系等方面积极应对困境。

曝光系统离焦对平面全息光栅衍射波前的影响

波前像差是衍射光栅的重要技术指标,它直接影响光栅的分辨率。由光致刻蚀剂记录两束相干光干涉条纹是制作全息光栅的关键步骤。为了提高全息光栅曝光系统调整精度、减小离焦、降低光栅的衍射波前像差,从离焦对反射球面准直镜的准直光平行度的影响程度出发,分析了准直光平行度对全息光栅衍射波前像差的影响。理论分析和数值模拟结果表明,准直镜调整误差直接决定全息光栅衍射波前像差大小。以3种不同刻线密度光栅为例,得出了准直镜调整误差的允许变化范围。

软X射线激光多层膜均匀性控制技术

软 X射线激光技术在近年来得以较快的发展 ,而多层膜是其不可缺少的一项基础技术 ,软 X射线激光多层膜本身的要求使得多层膜的结构性需达到很高的水平。现就软X射线激光多层膜的均匀性控制技术进行研究 ,以期得到更加精确的膜层结构。

软X射线光学系统曲面镀膜膜厚测量方法

软 X射线光学系统需要在超光滑曲面上均匀镀膜。我们将超光滑曲面看作由若干个小平面拼接而成 ,通过小角衍射仪测量出各个小平面的周期膜厚 ,并拟和出整个曲面的镀膜速率。为提高控制精度 ,我们对同一片多层膜进行等精度多次测量 ,去除其中的粗大误差、系统误差 。

8.0nm X射线激光反射镜Mo/B-4C多层膜制备及其特性

用磁控溅射法制备工作波长约８０ ｎｍ 的 Ｍｏ／ Ｂ４ Ｃ多层膜作为正入射短波长（λ＜ １０．０ ｎｍ ）软 Ｘ 射线激光反射腔的反射镜。经 Ｘ 射线衍射仪和 Ｔ Ｅ Ｍ 检测，多层膜周期结构准确，热稳定性高。