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40CrNiMo钢棱角位交流电场辅助粉末渗硼层的组织与性能
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作者 丁红珍 李航 邱万奇 《材料热处理学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期152-158,共7页
以Al_(2)O_(3)为填充剂和活性炭为添加剂的改性粉末为渗硼剂,采用40CrNiMo钢为基体,在75 V/100 Hz交流电场作用下于630、650、700、750和850℃进行电场增强辅助固体渗硼。采用X射线衍射仪、扫描电镜和硬度计对渗硼后的样品进行显微分析... 以Al_(2)O_(3)为填充剂和活性炭为添加剂的改性粉末为渗硼剂,采用40CrNiMo钢为基体,在75 V/100 Hz交流电场作用下于630、650、700、750和850℃进行电场增强辅助固体渗硼。采用X射线衍射仪、扫描电镜和硬度计对渗硼后的样品进行显微分析及性能测试。结果表明:交流电场对渗硼过程有明显的促进作用,即便在较低的渗硼温度(750、700和650℃)下也可以在40CrNiMo钢试样的平面及棱角区域形成单一的Fe_(2)B相渗硼层;850℃时,渗硼层的棱角部位出现了少量的FeB相。温度过高(如850℃)及过高的电场辅助渗硼电流(如700℃渗硼时的2.38 A电流),会使渗硼层表面形成疏松表层,不利于致密渗硼层的形成;750℃渗硼4 h后的渗硼层具有最高的致密性和渗层硬度,其渗层厚度和表层区域硬度分别为120μm和1700 HV0.05。 展开更多
关键词 40CRNIMO钢 粉末法渗硼 Fe_(2)B 棱角位渗硼 交流电场
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熔体温度和雾化压力对氩气雾化镍基高温合金粉末的影响
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作者 钟伟杰 焦东玲 +1 位作者 邱万奇 刘仲武 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第10期143-148,共6页
本工作采用氩气雾化法制备镍基高温合金粉末,通过调控雾化参数,研究了熔体温度(1585℃、1618℃、1653℃)和雾化压力(3.0 MPa、3.2 MPa、3.5 MPa)对粉末粒度、氧含量及空心度的影响。结果表明,熔体温度对粉末空心度有重要影响,而对其他... 本工作采用氩气雾化法制备镍基高温合金粉末,通过调控雾化参数,研究了熔体温度(1585℃、1618℃、1653℃)和雾化压力(3.0 MPa、3.2 MPa、3.5 MPa)对粉末粒度、氧含量及空心度的影响。结果表明,熔体温度对粉末空心度有重要影响,而对其他粉末特性没有明显影响。熔体温度升高时,粉末空心度先减小后增加。雾化压力不仅影响空心度,而且影响粉末粒度和氧含量。雾化压力增大时,粉末粒度显著降低,氧含量与空心度先减少后增加。在熔体温度为1618℃、氩气雾化压力为3.2 MPa时可以获得质量较好的合金粉末。 展开更多
关键词 高温合金粉末 熔体温度 雾化压力 氧含量 空心度
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镶嵌结构界面金刚石涂层研究进展 被引量:5
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作者 邱万奇 陈星婷 +3 位作者 刘仲武 钟喜春 余红雅 曾德长 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期691-695,共5页
对平面结构和镶嵌结构界面金刚石涂层的界面结构特点、受弯曲应力应变时的失效方式进行了分析,指出镶嵌结构界面金刚石涂层是提高膜/基体结合力的有效方法;综述了镶嵌结构界面金刚石涂层的国内外研究现状,并指出了今后镶嵌结构界面金刚... 对平面结构和镶嵌结构界面金刚石涂层的界面结构特点、受弯曲应力应变时的失效方式进行了分析,指出镶嵌结构界面金刚石涂层是提高膜/基体结合力的有效方法;综述了镶嵌结构界面金刚石涂层的国内外研究现状,并指出了今后镶嵌结构界面金刚石涂层的发展方向。 展开更多
关键词 金刚石 镶嵌 化学气相沉积 结合力 研究进展
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电镀铬金刚石复合过渡层提高金刚石膜/基结合力 被引量:4
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作者 邱万奇 潘建伟 +3 位作者 刘仲武 余红雅 钟喜春 曾德长 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第2期205-208,共4页
在铜基体上沉积铬金刚石复合过渡层,用热丝CVD系统在复合过渡层上沉积连续的金刚石涂层.用扫描电镜(SEM)、X射线(XRD)、拉曼光谱及压痕试验对所沉积的镶嵌结构界面金刚石膜的相结构及膜/基结合性能进行了研究.结果表明,非晶态的电镀Cr在... 在铜基体上沉积铬金刚石复合过渡层,用热丝CVD系统在复合过渡层上沉积连续的金刚石涂层.用扫描电镜(SEM)、X射线(XRD)、拉曼光谱及压痕试验对所沉积的镶嵌结构界面金刚石膜的相结构及膜/基结合性能进行了研究.结果表明,非晶态的电镀Cr在CVD过程中转变成Cr3C2,由于金刚石颗粒与Cr3C2的相互咬合作用,金刚石膜/基结合力高;在294 N载荷压痕试验时,压痕外围不产生大块涂层崩落和径向裂纹,只形成环状裂纹. 展开更多
关键词 金刚石膜 镶嵌 复合镀 压痕 结合力
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球形金刚石的形成机制 被引量:6
5
作者 邱万奇 刘正义 陈剑惠 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期566-569,共4页
在 p Si(10 0 )基体上用热丝CVD法沉积了球形金刚石薄膜。用XL30FEG扫描电镜、X射线衍射仪及Raman光谱仪对不同沉积时间的球形金刚石的微观形貌及组成成分进行了研究 ,并对其形成机制进行了分析。结果表明 :球形金刚石的颗粒密度和形核... 在 p Si(10 0 )基体上用热丝CVD法沉积了球形金刚石薄膜。用XL30FEG扫描电镜、X射线衍射仪及Raman光谱仪对不同沉积时间的球形金刚石的微观形貌及组成成分进行了研究 ,并对其形成机制进行了分析。结果表明 :球形金刚石的颗粒密度和形核密度一致 ,球形金刚石由微晶金刚石组成 ,晶粒尺寸为 70~ 2 0 0nm ;微晶金刚石是沉积过程中快速二次形核而形成 ,呈无序分布 ; 展开更多
关键词 微晶 二次形核 化学气相沉积法 金刚石薄膜 球形金刚石 形成机制
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挡板对电弧离子镀TiN薄膜性能的影响 被引量:4
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作者 邱万奇 傅涛 +1 位作者 向兴华 陈灵 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期41-43,共3页
在传统离子镀电弧靶前安装挡板,用镜面抛光Si(100)片作基体,对有/无挡板时沉积的TiN薄膜的大颗粒分布和性能进行了研究。结果表明,在挡板影响区域,大颗粒最大直径由无挡板时16μm降低至2μm,大颗粒密度从2.3×105mm-2降低至1.4×... 在传统离子镀电弧靶前安装挡板,用镜面抛光Si(100)片作基体,对有/无挡板时沉积的TiN薄膜的大颗粒分布和性能进行了研究。结果表明,在挡板影响区域,大颗粒最大直径由无挡板时16μm降低至2μm,大颗粒密度从2.3×105mm-2降低至1.4×103mm-2;挡板影响区外,大颗粒密度变化不显著。加挡板后TiN薄膜的硬度降低,挡板影响区外降低10%,影响区内降低25%。 展开更多
关键词 离子镀 挡板 TIN薄膜 大颗粒
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电镀镍及扩散预处理提高渗硼层韧性 被引量:2
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作者 邱万奇 熊成 +2 位作者 贾磊 莫东强 孙歌 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第2期79-84,共6页
渗硼层高温硬度高,抗氧化性能好,但脆性大,提高渗硼层韧性是扩展实际工程应用的关键。文中在45CrNiMoV钢基体上采用电镀镍+高温扩散预处理,在表层形成γ-(Fe,Ni)层后,再用固体渗硼法制备出含镍渗硼层,并与直接渗硼层进行对比。用扫描电... 渗硼层高温硬度高,抗氧化性能好,但脆性大,提高渗硼层韧性是扩展实际工程应用的关键。文中在45CrNiMoV钢基体上采用电镀镍+高温扩散预处理,在表层形成γ-(Fe,Ni)层后,再用固体渗硼法制备出含镍渗硼层,并与直接渗硼层进行对比。用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和显微压痕法对镀镍渗硼层的截面形貌,组织结构及硬度分布和断裂韧性进行了研究。结果表明:电镀镍+扩散预处理能显著提高渗硼层的断裂韧性,淬火+低温回火热处理几乎不影响镀镍渗硼层断裂韧性,而对直接渗硼层则有显著降低。镀镍渗硼层中的γ-(Fe,Ni)相能有效缓解冲击载荷,提高渗层断裂韧性。 展开更多
关键词 电镀镍 扩散 渗硼 断裂韧性 热处理
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Preparation and characterization of diamond film on Cu substrate using Cu-diamond composite interlayer 被引量:1
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作者 邱万奇 胡志刚 +2 位作者 刘仲武 曾德长 周克崧 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第3期758-763,共6页
Large area diamond films were fabricated on copper substrates by a multi-step process comprised of electroplating Cu-diamond composite layer on Cu substrate, plating a Cu layer to fix the protruding diamond particles,... Large area diamond films were fabricated on copper substrates by a multi-step process comprised of electroplating Cu-diamond composite layer on Cu substrate, plating a Cu layer to fix the protruding diamond particles, and depositing continuous diamond film on composite interlayer by hot-filament chemical vapor deposition (HFCVD). The interface characteristics, internal stress and adhesion strength were investigated by scanning electron microscopy, Raman analysis and indentation test. The results show that the continuous film without cracks is successfully obtained. The microstructure of the film is a mixture of large cubo-octahedron grains grown from homo-epitaxial growth and small grains with (111) apparent facets grown from lateral second nuclei. The improved adhesion between diamond film and substrate results from the deep anchoring of the diamond particles in the Cu matrix and the low residual stress in the film. 展开更多
关键词 diamond film composites layer ELECTROPLATING ADHESION chemical vapor deposition
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金刚石薄膜制备和评价 被引量:2
9
作者 邱万奇 刘正义 +5 位作者 陈剑惠 刘志唐 周克崧 代明江 王德政 丁谦 《理化检验(物理分册)》 CAS 1998年第6期14-16,36,共4页
采用平直钨丝作热解源,并借助钨丝支架的弹性恢复力,较好地解决了热丝热解化学气相沉积法(HFCVD)合成金刚石过程中热解丝的变形问题.样品独立加热,基片温度、钨丝温度、钨丝与样品基片距离均可独立调节.装置改进后,在Si(100)上合成了面... 采用平直钨丝作热解源,并借助钨丝支架的弹性恢复力,较好地解决了热丝热解化学气相沉积法(HFCVD)合成金刚石过程中热解丝的变形问题.样品独立加热,基片温度、钨丝温度、钨丝与样品基片距离均可独立调节.装置改进后,在Si(100)上合成了面积大约45mm×25mm的比较均匀的金刚石膜.用扫描电子显微镜(SEM)、Raman光谱和X射线衍射仪对制备的金刚石膜进行了分析. 展开更多
关键词 金刚石薄膜 合成 热丝 HFCVD 薄膜制备
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提高HFCVD法合成金刚石中钨热解丝寿命的措施 被引量:1
10
作者 邱万奇 刘正义 +4 位作者 陈剑惠 周克崧 代明江 王德政 丁谦 《理化检验(物理分册)》 CAS 1999年第6期248-250,共3页
HFCVD法合成的金刚石中钨热解丝在沉积过程中因碳化而产生裂纹,在停机操作时钨热解丝因骤冷产生了热应力而断裂。停机操作前采用碳化钨还原技术及减缓钨丝冷却速度,可将钨丝的寿命提高3~5倍。
关键词 钨丝 碳化 断裂 金刚石膜 HFCVD法
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固体渗硼在热锻模具中的应用进展 被引量:1
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作者 邱万奇 熊成 +1 位作者 孙歌 莫东强 《机电工程技术》 2016年第9期1-6,9,共6页
对热锻模具的服役工况及适合的表面强化方式进行了分析,指出渗硼是提高热锻模具表面性能的有效方法,综述了提高固体渗硼层韧性研究的国内外研究现状,指出了固体渗硼今后的研究发展方向。
关键词 固体渗硼 热锻模具 表面强化 韧性 进展
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(100)面金刚石的扩散形成
12
作者 邱万奇 刘正义 +3 位作者 陈剑惠 周克崧 代明江 王德政 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 1999年第2期20-24,共5页
在纯氢气气氛中对用HFCVD法制备的无晶面的微晶金刚石薄膜进行了扩散热处理,结果表明,微晶金刚石在扩散热处理过程中将选择性长大,形成(100)面金刚石,对低压合成金刚石过程中形成(100)面金刚石和扩散热处理中形成的... 在纯氢气气氛中对用HFCVD法制备的无晶面的微晶金刚石薄膜进行了扩散热处理,结果表明,微晶金刚石在扩散热处理过程中将选择性长大,形成(100)面金刚石,对低压合成金刚石过程中形成(100)面金刚石和扩散热处理中形成的(100)面金刚石的机理作了讨论。 展开更多
关键词 热丝 金刚石 微晶 扩散 (100)面 合成
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钢铁基体沉积金刚石膜的研究进展
13
作者 邱万奇 余贇 周克崧 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第8期852-858,共7页
金刚石具有极高的硬度、热导率和良好的抗磨损性能,在钢铁基体表面沉积金刚石膜具有广阔的应用前景。本文对不同成分和组织钢铁基体化学气相沉积金刚石膜的影响因素进行了分析,指出了奥氏体→珠光体或奥氏体→马氏体转变引起的相变应力... 金刚石具有极高的硬度、热导率和良好的抗磨损性能,在钢铁基体表面沉积金刚石膜具有广阔的应用前景。本文对不同成分和组织钢铁基体化学气相沉积金刚石膜的影响因素进行了分析,指出了奥氏体→珠光体或奥氏体→马氏体转变引起的相变应力对金刚石膜粘附性能的负面影响;综述了钢铁表面化学气相沉积金刚石膜的国内外研究现状,指出了今后钢铁上沉积金刚石膜的发展方向。 展开更多
关键词 钢铁 金刚石膜 过渡层 化学气相沉积 研究进展
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电弧离子镀制备透明(002)AlN薄膜
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作者 邱万奇 阎明 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第A01期95-98,共4页
在电弧离子镀弧靶上加挡板,分别在挡板屏蔽区内、外用Si(100)和玻璃片作基片沉积出AlN薄膜。用扫描电镜(SEM),X射线衍射仪(XRD),X射线光电子能谱分析仪(XPS)和紫外可见光分光计对AlN薄膜的性能进行了研究。结果表明,在挡板屏蔽区内沉积... 在电弧离子镀弧靶上加挡板,分别在挡板屏蔽区内、外用Si(100)和玻璃片作基片沉积出AlN薄膜。用扫描电镜(SEM),X射线衍射仪(XRD),X射线光电子能谱分析仪(XPS)和紫外可见光分光计对AlN薄膜的性能进行了研究。结果表明,在挡板屏蔽区内沉积出的AlN薄膜呈(002)择优取向,无大颗粒污染,在300~1000nm波长范围内透明;在挡板屏蔽区外的AlN薄膜呈(100)择优取向,含有Al污染颗粒,不透明。用电弧离子镀法沉积AlN,样品不需要额外加热就能获得晶态AlN薄膜,样品的温度升高来源于粒子对基底的轰击。 展开更多
关键词 电弧离子镀 ALN薄膜 挡板
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HFCVD法合成金刚石的初期生长过程
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作者 邱万奇 刘正义 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 2001年第5期50-52,共3页
用XL30FEG扫描电镜对热丝化学气相沉积 (HFCVD)法合成的金刚石颗粒的初期生长过程进行了研究。结果表明 ,金刚石在 p -Si(10 0 )基片上的初始形核密度很高 ,可达 10 10 /cm2 ;在随后的颗粒长大过程中 ,颗粒快速长大 ,颗粒密度急剧减少 ... 用XL30FEG扫描电镜对热丝化学气相沉积 (HFCVD)法合成的金刚石颗粒的初期生长过程进行了研究。结果表明 ,金刚石在 p -Si(10 0 )基片上的初始形核密度很高 ,可达 10 10 /cm2 ;在随后的颗粒长大过程中 ,颗粒快速长大 ,颗粒密度急剧减少 ;颗粒的长大速率随其尺寸的增大而减小 。 展开更多
关键词 HFCVD 金刚石 形核 生长速率 热丝化学气相沉积
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电弧离子镀AlN薄膜的光致发光性能的研究
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作者 邱万奇 蔡明 +3 位作者 钟喜春 余红雅 刘仲武 曾德长 《材料研究与应用》 CAS 2010年第4期572-576,共5页
在电弧离子镀弧靶前加挡板以去除大颗粒污染,分别在Si(100)基底上制备非掺杂的纯AlN薄膜,在石英玻璃基底上制备Cu掺杂的AlN薄膜.用X射线衍射(XRD)分析表明,纯AlN膜为弱(100)多晶织构,而掺Cu的AlN薄膜为非晶结构;X射线光电子能谱(XPS)研... 在电弧离子镀弧靶前加挡板以去除大颗粒污染,分别在Si(100)基底上制备非掺杂的纯AlN薄膜,在石英玻璃基底上制备Cu掺杂的AlN薄膜.用X射线衍射(XRD)分析表明,纯AlN膜为弱(100)多晶织构,而掺Cu的AlN薄膜为非晶结构;X射线光电子能谱(XPS)研究表明,Cu掺杂AlN薄膜中,Cu为+1价,原子百分含量为11%;光致发光谱显示纯AlN薄膜发紫光(~400nm),Cu掺杂的AlN薄膜发蓝光(~450nm). 展开更多
关键词 电弧离子镀 ALN薄膜 掺杂 光致发光
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划痕法综合评定膜基结合力 被引量:42
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作者 瞿全炎 邱万奇 +1 位作者 曾德长 刘正义 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期184-187,共4页
用划痕实验探索了综合表征膜基结合力的方法。在瑞士CSM仪器的微划痕测试仪(Micro-Scratch Tester,MST划痕仪)对真空多弧离子镀设备制备的WC-Co/TiN膜基结合力进行划痕实验,系统地介绍了如何利用MST划痕仪所测的声发射数据、摩擦力数据... 用划痕实验探索了综合表征膜基结合力的方法。在瑞士CSM仪器的微划痕测试仪(Micro-Scratch Tester,MST划痕仪)对真空多弧离子镀设备制备的WC-Co/TiN膜基结合力进行划痕实验,系统地介绍了如何利用MST划痕仪所测的声发射数据、摩擦力数据及光学、电子扫描划痕形貌来综合评定膜基结合力,并用WS-92划痕仪对评定结果进行验证。评定结果表明,单一的声发射图谱或摩擦力曲线不能准确判定膜基结合力的表征值临界载荷,声发射图谱、摩擦力曲线与划痕形貌综合评定临界载荷结果才可信。WS-92划痕仪测量的结果验证了MST划痕仪评定结果的准确性。 展开更多
关键词 划痕试验 结合力 综合评定 WC—Co/TiN
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偏振片研究进展 被引量:26
18
作者 龚建勋 刘正义 邱万奇 《液晶与显示》 CAS CSCD 2004年第4期259-265,共7页
对偏振片的性能和类型、偏振光产生方式进行了简要说明,详细介绍了偏振片研究的最新进展,并对偏振片的生产工艺和新型E型偏振薄膜等最新研究成果做了综述。
关键词 偏振片 液晶显示器 取向 二向色性
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电弧离子镀TiN薄膜中的缺陷及其形成原因 被引量:22
19
作者 史新伟 邱万奇 刘正义 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2006年第1期43-46,共4页
分析了电弧离子镀(AIP)TiN薄膜中的主要缺陷-熔滴、孔洞和疏松等。结果表明:这些缺陷存在于晶内、晶界或者贯穿于整个薄膜;缺陷的存在极大地影响了薄膜的性能;缺陷密度与镀膜方法及具体的工艺参数有密切关系;使用磁过滤器镀制薄膜可显... 分析了电弧离子镀(AIP)TiN薄膜中的主要缺陷-熔滴、孔洞和疏松等。结果表明:这些缺陷存在于晶内、晶界或者贯穿于整个薄膜;缺陷的存在极大地影响了薄膜的性能;缺陷密度与镀膜方法及具体的工艺参数有密切关系;使用磁过滤器镀制薄膜可显著减少上述缺陷,从而提高薄膜的各种性能。认为使用磁过滤器镀制TiN及其各种复合或多层薄膜是一种切实有效的方法,是今后制备高性能TiN及其复合膜的发展方向,另外,缩短脉冲电弧在高值时的时间,用人工来减少薄膜缺陷也是一种行之有效的方法。 展开更多
关键词 电弧离子镀 TIN薄膜 缺陷 磁过滤器
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金刚石膜与硬质合金刀片间界面Co相的研究 被引量:6
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作者 匡同春 白晓军 +3 位作者 成晓玲 薛新民 刘正义 邱万奇 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1999年第6期643-647,共5页
采用SEM和TEM对CVD金刚石膜/YG8硬质合金刀片的界面结合状态、界面Co相进行了研究.结果表明CVD金刚石膜与硬质合金刀片的界面结合类型主要是机械结合;界面相除了石墨碳外,局部区域还可观察到Co粒子.Co粒子上的生长物是微晶石墨和... 采用SEM和TEM对CVD金刚石膜/YG8硬质合金刀片的界面结合状态、界面Co相进行了研究.结果表明CVD金刚石膜与硬质合金刀片的界面结合类型主要是机械结合;界面相除了石墨碳外,局部区域还可观察到Co粒子.Co粒子上的生长物是微晶石墨和六方金刚石的混合物,且CO粒子与其上的生长物之间存在明显的界面. 展开更多
关键词 金刚石膜 硬质合金 机械结合 界面相 刀具
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