滚轮毛刷钝化机对硬质合金刀片切削刃一致性的影响

常用的滚轮毛刷钝化设备在抛光钝化硬质合金刀片切削刃时存在切削刃圆弧半径及大小不均匀问题。文章基于滚轮毛刷钝化设备的工作原理,从毛刷运动及毛刷磨损两个方面分析造成硬质合金刀片切削刃钝化圆弧半径及大小不一致的原因,通过对设备运动方式进行数学建模,计算得知:产品进入毛刷和离开毛刷期间,产品自转的圈数不是整数,则会造成产品某一个角或者某一条切削刃加工时间更长;同时毛刷磨损的不确定性也会造成实际加工时间的差异,造成切削刃圆弧半径及大小不一致乃设备设计的缺陷,不可避免。

矿用WC-Co梯度硬质合金的制备及应用研究现状

概述了国内外矿用WC-Co梯度硬质合金的制备方法,包括渗碳法、熔体浸渗法、分层压形法(构造法)、局部涂覆晶粒抑制剂烧结法,介绍了这四种工艺的研究现状以及梯度合金的应用情况。分析了梯度硬质合金在矿用合金中推广应用的制约因素,并展望了WC-Co梯度硬质合金在地矿领域的应用前景及工业化生产面临的技术问题。

球磨法制备超粗及特粗晶硬质合金研究进展

本文概述了国内外关于球磨法制备超粗及特粗晶硬质合金的研究进展,阐述了轻度球磨法、高能搅拌球磨法、纳米活化法等几种粉末处理方法制备超粗及特粗晶硬质合金的工艺特点和合金性能。分析了这几种方法在制备超粗及特粗晶硬质合金面临的技术质量风险,说明了球磨法制备超粗及特粗晶硬质合金的低成本、易普及优势,提出了提升轻度球磨在球磨强度和球磨时间等参数综合控制以及配套开发晶粒更粗、结晶完整的WC粉原料等发展建议。

不同形貌碳化钨对合金磨损性能的影响

对市售的三个厂家生产的粒度相似、不同形貌的碳化钨(费氏粒度20-25μm)采用扫描电子显微镜观察微观形貌,并经同样球磨、压制、烧结工艺制成含Co量6%、硬质相晶粒度4-5μm的合金试样。对合金试样的密度、硬度、磁力、钴磁进行检测,并做冲击回转式磨损试验。试验结果表明:在一定条件下,不同形貌碳化钨制成的合金,其冲击回转式磨损试验可表征耐冲击性及抗磨损综合性能的差异。

离子束溅射与射频溅射制备的ZnO薄膜的特性分析

分别采用两种不同的方法制备了ZnO薄膜。①离子束溅射法(IBD),在Si(001)衬底上制备锌膜后在氧气氛炉中退火;②射频溅射法(RF),在Si(001)衬底上制备ZnO薄膜后在氧气氛炉中退火。利用X射线衍射仪和原子力显微镜(AFM)以及电感、电容、电阻综合测试仪(LCR)对两种方法制备的ZnO薄膜的结构、形貌和导电性进行了比较研究。结果表明,离子束溅射的锌膜经热氧化后得到的ZnO薄膜生长的单向性较差,表面粗糙度较大,薄膜的电阻率也比较高。

两步球磨制备非均匀结构硬质合金的组织与性能研究

本文以WC-6%Co硬质合金为例,用费氏粒度(Fsss)0.8μm及2.4μm两种碳化钨(WC)作初始粉末,采用两步球磨法获得关键混合粉,操作时先预磨Fsss 0.8μm的WC粉末24 h后,再与Fsss 2.4μm的WC粉末混合后继续球磨12~24 h,所获得的混合粉经制粒、压制及真空烧结获得非均匀结构的硬质合金,研究了不同球料比的预磨、不同球磨时间对非均匀结构硬质合金金相显微组织、平均晶粒度、物理性能的影响,结果表明:采用高球料比预磨处理Fsss 0.8μm WC,再与Fsss 2.4μm WC短时间续磨混合处理后制备所得合金试样,其显微组织呈现较多片状WC,合金试样硬度在HRA90以上的情况下,断裂韧性最高可达12 MPa·√m。

渗透检测(PT)在压力过滤机转鼓隔条角焊缝检验中的应用

随着化纤工业的迅速发展,不锈钢制压力过滤机以性能稳定、强度高、工艺性能良好、表面清洁等优点,得到了越来越广泛地应用。按照国家相关法规和设计的要求,对压力过滤机转鼓隔条角焊峰,其表面应进行渗透检测并须达到相应合格等级。以304L奥氏体不锈钢制压力过滤机为例,阐述渗透检测在压力过滤机隔条角焊缝表面检验中的应用。

关于空分设备冷箱内管道设计及应力分析

伴随着科技的发展,空分设备逐渐向大型化发展,冷箱内压力管道的设计登上了另一个发展平台。空分设备冷箱内管道设计是提高空分设备安全和稳定运行的基础保障,在实际设计过程中冷箱管道设计受诸多因素影响仍存在较多问题,如何解决其中存在的问题需要设计人员高度重视冷箱管道设计并对应力进行准确分析。笔者结合多年工作经验,从国内空分设备冷箱内管道设计现状着手,对空分设备冷箱内管道设计及应力分析做了简单介绍。

化工机械设备安装技术的分析

化工产业的快速发展,带动了与化工相关的其他产业的迅速发展,对化工机械设备安装技术的要求也越来越高。本文主要从化工机械设备安装技术的重要性入手,详细讲述安装技术的各个要点,包括前期、中期及后期不同阶段。

包覆法制备超粗及特粗晶硬质合金研究进展

本文就国内外关于包覆法制备超粗及特粗晶硬质合金的研究近况进行概述,分别介绍溶胶凝胶、液相还原、流化床气相沉积FBCVD与化学镀联用技术、水热合成氢还原、共沉淀还原等几种化学包覆法和物理镀膜包覆法的工艺特征,以及包覆法在制备超粗、特粗晶硬质合金方面的技术进展。与球磨法对比,简要分析包覆法在制备超粗、特粗晶硬质合金方面的技术优势,同时初步分析包覆法要实现工业化、批量化制备超粗及特粗晶硬质合金将面临的问题和挑战,展望了包覆法在制备超粗及特粗晶硬质合金的独特优势及良好前景。

抑制剂在硬质合金中的应用及研究现状

阐述了常见晶粒长大抑制剂的种类、添加方式、添加量以及作用机理,并介绍了不同抑制剂对硬质合金物理及机械性能的影响。在综合大量研究成果的基础上,指出了目前在该研究领域存在的一些问题,如研究方法、实验条件、抑制剂添加种类及添加量等不统一所导致的实验结果的差异性。

切削液pH值对YG6牌号硬质合金腐蚀行为的影响

以YG6牌号硬质合金为实验对象,研究了切削液pH值(7.5、8.5、9.5、10.5和11.5)对合金表面Co浸出率的影响,探讨了Co的浸出机理,并优选出合适的切削液pH值。结果表明:在切削液浸泡实验中,YG6合金试样表面Co浸出率与切削液pH值和试样在切削液中的放置状态有关,不同放置状态的试样,其表面的腐蚀形式不一样。当合金试样有重叠接触时,在重叠区发生缝隙腐蚀,在非重叠试样上表面发生选择性腐蚀;腐蚀程度与切削液pH值有关,但合金表面Co浸出率与切削液pH值并非简单的线性关系。当切削液pH值为9.5时,YG6合金试样表面Co浸出率最低,为4.30%。因此,在切削液制备或磨削加工使用时,将切削液pH值控制在9.5可降低切削液对合金表面Co的浸出率,大大降低合金表面Co的损失,保障产品质量。

硬质合金刀片刃口钝化及检测技术综述

阐述了硬质合金刀片刃口缺陷的产生原因和主要的刃口处理形式及其使用工况,总结当前主流刃口钝化技术及刃口检测的技术手段,提出刃口钝化检测技术薄弱是目前国内企业普遍存在的问题。由于对该技术重视程度普遍偏低,制约了我国工具行业品质提升,也制约了刃口钝化技术装备及工艺技术的发展。

射频磁控溅射制备类金刚石薄膜的特性

采用射频磁控溅射技术,用高纯石墨靶在单晶硅片、抛光不锈钢片上制备了类金刚石薄膜(DLC)。采用Raman光谱、原子力显微镜、显微硬度分析仪,表征了类金刚石薄膜的微观结构、表面形貌、硬度。结果表明,制备的类金刚石薄膜中含sp2、sp3杂化碳键,具有典型的类金刚石结构特征。计算表明,对应sp3杂化碳原子含量的ID1IG为3.18;薄膜的表面十分平整光滑,表面粗糙度极低,平均粗糙度Ra为0.17 nm;薄膜硬度可以高达30.8 GPa。

正交试验极差分析法在湿喷砂硬质合金刀片中的应用

讲述了用正交试验极差分析法对湿喷砂加工硬质合金刀片工艺参数进行优化的方法。在硬质合金加工中,湿喷砂工艺用于切削刀片切削刃处理、表面清洁及涂层后处理。以国产通过式湿喷砂机为例,分析影响加工效果的工艺参数,并通过正交试验极差分析法,减少工艺实验次数,确定了主次因素的大小趋势和最优组合。就工件输送定位距离、喷枪Y轴速度、喷枪Y轴移动频次、喷枪压力及砂水浓度5个工艺参数设计正交试验,用极差分析法对湿喷砂时间和刀片切削刃钝化半径大小进行了数据分析,得出各因素的主次关系及最优组合。该方法已经应用于硬质合金刀片湿喷砂处理大批生产。

射频与直流磁控溅射制备DLC薄膜的工艺研究及特性对比

采用直流与射频磁控溅射技术,用高纯石墨在单晶硅(100)表面制备了类金刚石薄膜(DLC)。采用拉曼光谱、扫描电镜分析了薄膜的结构、表面和截面形貌,以及与溅射工艺的关系,并且对溅射过程中粒子输运机理进行了解释。结果表明,2种溅射方法制备的薄膜均含有相当的sp3杂化碳原子。射频磁控溅射沉积的DLC薄膜所含sp3杂化碳原子的量要高于直流磁控溅射沉积的DLC薄膜,且薄膜质量优于直流磁控溅射沉积的DLC薄膜。

钴粉的粒度对高钴粗颗粒硬质合金性能的影响

本文研究了不同粒度的钴粉对高钴粗颗粒硬质合金性能的影响:选择不同粒度的钴粉,在相同的工艺条件下,制备相同成分的粗颗粒硬质合金,分析检测合金的硬度、磁力、密度、强度,以及金相、定量金相。结果表明:在相同的工艺条件下,随着钴粉粒度的增加,定量金相显示WC粒度逐渐增加,硬度和磁力略有下降,钴粉粒度为2.21μm的合金强度最高。

基于DataSnap的多层网上考试系统分析与设计

随着无纸化考试的广泛普及,网上考试系统的设计日渐成为人们研究的热点。为了提高网上考试系统的效率和安全、健壮性,通过对两层结构和多层结构的比较,文中基于Delphi中的DataSnap技术采用三层结构对考试系统的构成和体系结构进行了分析与设计,并对部分源代码进行了说明,实现了网上考试系统真正的"瘦客户"和增强了系统的安全性。

射频磁控反应溅射制备ZnO/AlN双层膜的结构和性能

采用射频磁控反应溅射在Si(100)衬底上制备了ZnO/AlN双层膜。使用X射线衍射仪、原子力显微镜(AFM)、LCR测试仪及荧光分光光度计等仪器对样品进行了结构、表面形貌、导电性及荧光光谱的测试,并与相同工艺下制备的ZnO单层薄膜进行了对比研究。结果表明,ZnO/AlN双层膜的c轴择优取向性优于单层ZnO薄膜,薄膜应力更小,且为压应力,晶粒尺寸大于单层膜,表面粗糙度较小,并且其电阻率更低。荧光光谱显示,ZnO/AlN双层膜的结晶质量更好。

类金刚石薄膜的制备及其电阻率、光谱特性研究

采用射频磁控溅射法在单晶硅表面制备了类金刚石薄膜;对薄膜的电阻率进行了测量,研究了薄膜的溅射工艺参数,采用拉曼光谱、原子力显微镜、扫描电镜分析了薄膜的结构、表面形貌以及薄膜的截面形貌。结果表明,薄膜中含有sp2、sp3杂化碳原子,拉曼谱高斯拟合峰的ID/IG为3.67;薄膜的电阻率达6×103Ωcm。最佳溅射气压在0.4 Pa左右,最佳溅射功率在140 W左右;薄膜的表面平整光滑,平均粗糙度低达0.17 nm;SEM形貌表明薄膜由大量大小均匀的碳颗粒组成,薄膜内部十分致密,与基底结合很好。