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显像管残余气体分析及离子轰击研究
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作者 张晓兵 蒋峻 +1 位作者 毛福明 雷威 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期115-117,共3页
显像管中的残余气体是影响显像管质量和寿命的重要因素,通过四极质谱残余气体分析系统,可以对显像管中的残余气体进行有效的分析,对带消气剂的真空器件,本底要考虑扣除消气剂作用的影响.在此基础上可以进行残余气体离子轰击的计算机模... 显像管中的残余气体是影响显像管质量和寿命的重要因素,通过四极质谱残余气体分析系统,可以对显像管中的残余气体进行有效的分析,对带消气剂的真空器件,本底要考虑扣除消气剂作用的影响.在此基础上可以进行残余气体离子轰击的计算机模拟研究,并对显像管电子枪进行优化设计. 展开更多
关键词 残余气体 质谱分析 离子轰击
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