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基于国产MOCVD的8 inch硅基氮化镓外延生长技术
1
作者 敖辉 《轻工科技》 2025年第1期111-115,共5页
由于GaN同质单晶衬底的工艺技术不成熟,加上尺寸小、价格昂贵等限制,基于Si基的异质外延是实现其大尺寸生长、降本增效的可行策略。本文利用国产MOCVD(单片机)在8英寸(inch)的硅基衬底上,生长了无裂纹、表面平整(均方根粗糙度低于0.5 n... 由于GaN同质单晶衬底的工艺技术不成熟,加上尺寸小、价格昂贵等限制,基于Si基的异质外延是实现其大尺寸生长、降本增效的可行策略。本文利用国产MOCVD(单片机)在8英寸(inch)的硅基衬底上,生长了无裂纹、表面平整(均方根粗糙度低于0.5 nm@5μm×5μm)、低缺陷密度(位错密度<2×10^(9) cm^(-2))的GaN外延层。通过原位曲率测量和生长厚度测量分析了沉积生长的外延片结构中的GaN/梯度AlGaN/AlN异质界面,阐述了AlN/AlGaN、AlGaN/AlGaN和AlGaN/GaN异质界面对机械应力的调控机理。 展开更多
关键词 国产mocvd 大尺寸 GaN异质外延
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具有低噪声及高线性度的高性能MOCVD-SiN_(x)/AlN/GaN毫米波MIS-HEMTs
2
作者 袁静 景冠军 +7 位作者 王建超 汪柳 高润华 张一川 姚毅旭 魏珂 李艳奎 陈晓娟 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期200-206,共7页
文章在超薄势垒AlN/GaN异质结构上采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)原位生长SiN_(x)栅介质,成功制备了高性能的SiN_(x)/AlN/GaN金属-绝缘体-半导体高电子迁移率晶体管(MIS-HEMTs)。深能级瞬态谱(DLTS)技术测试SiN_(x)/AlN的界面信息,显... 文章在超薄势垒AlN/GaN异质结构上采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)原位生长SiN_(x)栅介质,成功制备了高性能的SiN_(x)/AlN/GaN金属-绝缘体-半导体高电子迁移率晶体管(MIS-HEMTs)。深能级瞬态谱(DLTS)技术测试SiN_(x)/AlN的界面信息,显示其缺陷能级深度为0.236 eV,俘获截面为3.06×10^(-19)cm^(-2),提取的界面态密度为10^(10)~10^(12)cm^(-2)eV^(-1),表明MOCVD原位生长的SiN_(x)可以有效降低界面态。同时器件表现出优越的直流、小信号和噪声性能。栅长为0.15μm的器件在2 V的栅极电压(Vgs)下具有2.2 A/mm的最大饱和输出电流,峰值跨导为506 mS/mm,最大电流截止频率(fT)和最大功率截止频率(fMAX)分别达到了65 GHz和123 GHz,40 GHz下的最小噪声系数(NFmin)为1.07 dB,增益为9.93 dB。Vds=6 V时对器件进行双音测试,器件的三阶交调输出功率(OIP3)为32.6 dBm,OIP3/Pdc达到11.2 dB。得益于高质量的SiN_(x)/AlN界面,SiN_(x)/AlN/GaN MISHEMT显示出了卓越的低噪声及高线性度,在毫米波领域具有一定的应用潜力。 展开更多
关键词 SiN_(x)栅介质 mocvd MIS-HEMTs 界面态 低噪声 线性度 毫米波
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Two-step growth of β-Ga_(2)O_(3) on c-plane sapphire using MOCVD for solar-blind photodetector
3
作者 Peipei Ma Jun Zheng +3 位作者 Xiangquan Liu Zhi Liu Yuhua Zuo Buwen Cheng 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2024年第2期51-56,共6页
In this work,a two-step metal organic chemical vapor deposition(MOCVD)method was applied for growingβ-Ga_(2)O_(3) film on c-plane sapphire.Optimized buffer layer growth temperature(T_(B))was found at 700℃ and theβ-... In this work,a two-step metal organic chemical vapor deposition(MOCVD)method was applied for growingβ-Ga_(2)O_(3) film on c-plane sapphire.Optimized buffer layer growth temperature(T_(B))was found at 700℃ and theβ-Ga_(2)O_(3) film with full width at half maximum(FWHM)of 0.66°was achieved.A metal−semiconductor−metal(MSM)solar-blind photodetector(PD)was fabricated based on theβ-Ga_(2)O_(3) film.Ultrahigh responsivity of 1422 A/W@254 nm and photo-to-dark current ratio(PDCR)of 10^(6) at 10 V bias were obtained.The detectivity of 2.5×10^(15) Jones proved that the photodetector has outstanding performance in detecting weak signals.Moreover,the photodetector exhibited superior wavelength selectivity with rejection ratio(R_(250 nm)/R_(400 nm))of 105.These results indicate that the two-step method is a promising approach for preparation of high-qualityβ-Ga_(2)O_(3)films for high-performance solar-blind photodetectors. 展开更多
关键词 mocvd two-step growth β-Ga_(2)O_(3) solar-blind photodetector responsivity
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MOCVD技术制备In_(2)O_(3)紫外光电探测器研究
4
作者 李奕霏 晏长岭 《微纳电子技术》 CAS 2024年第12期47-54,共8页
采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法分别在蓝宝石、氧化钇稳定氧化锆(YSZ)和蓝宝石上p-GaN衬底上生长In_(2)O_(3)薄膜,生长温度为600℃。利用高分辨X射线衍射仪(HRXRD)、原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)、霍尔系统对3种薄膜... 采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法分别在蓝宝石、氧化钇稳定氧化锆(YSZ)和蓝宝石上p-GaN衬底上生长In_(2)O_(3)薄膜,生长温度为600℃。利用高分辨X射线衍射仪(HRXRD)、原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)、霍尔系统对3种薄膜进行了表征,结果表明YSZ基In_(2)O_(3)薄膜的最小半峰宽(FWHM)为0.23°,表面粗糙度为1.99 nm,霍尔迁移率为39.9 cm^(2)/(V·s);蓝宝石基In_(2)O_(3)薄膜中氧空位缺陷最少,占总缺陷比为29.37%,霍尔迁移率达到58.3 cm^(2)/(V·s),实现了FWHM为0.31°、表面粗糙度为3.08 nm的高质量薄膜。最终采用蓝宝石基In_(2)O_(3)薄膜制备出具有1.74×10^(14 )Jones高探测率以及光暗电流比约9165.7的紫外光电探测器。 展开更多
关键词 氧化铟(In_(2)O_(3)) 氧化钇稳定氧化锆(YSZ) p型氮化镓 金属有机化学气相沉积(mocvd) 光电探测器
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GaN-MOCVD设备产业化发展战略研究——Ⅲ族氮化物半导体的热点、难点、机遇和挑战 被引量:6
5
作者 杨基南 刘亚红 《新材料产业》 2003年第6期17-19,共3页
以氮化镓(GaN)为代表的Ⅲ族氮化物半导体材料已经成为世界范围的研究热点。但是,采用异质外延法生长的GaN,由于衬底材料晶格失配和热失配而存在高密度的位错缺陷和产生龟裂;外延生长所用的源材料之间存在严重的气相预反应以及MO源对氧... 以氮化镓(GaN)为代表的Ⅲ族氮化物半导体材料已经成为世界范围的研究热点。但是,采用异质外延法生长的GaN,由于衬底材料晶格失配和热失配而存在高密度的位错缺陷和产生龟裂;外延生长所用的源材料之间存在严重的气相预反应以及MO源对氧和水份等杂质十分敏感,因而外延质量和成品率强烈依赖于设备性能和工艺条件。无论是设备还是工艺,都还存在很大的发展空间和机遇,预料3年~5年内国外将推出每批几十片的商用机型,我国相关设备制造和器件开发面临严峻挑战。 展开更多
关键词 氮化镓 半导体材料产业 产业化发展战略 氮化物半导体 mocvd设备 外延生长 GaN-mocvd设备 中国
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MOCVD生长的中红外高功率量子级联激光器
6
作者 杨鹏昌 李曼 +4 位作者 孙永强 程凤敏 翟慎强 刘峰奇 张锦川 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期794-799,共6页
量子级联激光器(QCL)是中远红外波段的优质光源,具有体积小、重量轻、电光转化效率高等诸多优势,在传感、通信和国防等领域有重要的应用前景。金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术作为更高效的外延方式,应发展适用于QCL的MOCVD外延生长... 量子级联激光器(QCL)是中远红外波段的优质光源,具有体积小、重量轻、电光转化效率高等诸多优势,在传感、通信和国防等领域有重要的应用前景。金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术作为更高效的外延方式,应发展适用于QCL的MOCVD外延生长技术以满足快速增长的市场需求。本文报道了全结构由MOCVD技术外延的QCL,通过将传统的“双声子共振”有源区结构修订为“单声子共振结合连续态抽取”结构,减少了电子的热逃逸,改善了器件的温度特性。针对该结构,进一步改变了有源区的掺杂浓度,并对比了不同掺杂浓度对器件性能的影响。腔长8 mm、平均脊宽约6.7μm的较高掺杂有源区器件在20℃下连续输出功率达3.43 W,中心波长约4.6μm,电光转化效率达13.1%;8 mm腔长的较低掺杂有源区器件在20℃下连续输出功率达2.73 W,中心波长约4.5μm,阈值电流仅0.56 A,峰值电光转化效率达15.6%。器件的输出功率和电光转化效率较之前文献报道的MOCVD制备的QCL有明显提高。该结果表明,MOCVD完全具备生长高功率QCL的能力,这对推动QCL的技术进步具有重要意义。 展开更多
关键词 量子级联激光器 中红外 高功率 金属有机物化学气相沉积
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MOCVD技术及其源材料
7
作者 段树坤 《低温与特气》 CAS 1984年第2期26-35,共10页
外延生长技术是制备半导体材科,特别是半导体器件的重要方法之一,用外延方法可以制作某些结构复杂的半导体器件。半导体材料和器件这种需要促使多种外延技术得到了发展和应用。其中包括汽相外延(VPE)、液相外延(LPE)和分子束外延(MBE... 外延生长技术是制备半导体材科,特别是半导体器件的重要方法之一,用外延方法可以制作某些结构复杂的半导体器件。半导体材料和器件这种需要促使多种外延技术得到了发展和应用。其中包括汽相外延(VPE)、液相外延(LPE)和分子束外延(MBE)。汽相外延生长中又可依据原料的不同分为氯化物工艺、氢化物工艺和MOCVD工艺(金属有机化合物化学汽相淀积)。 展开更多
关键词 mocvd技术 金属有机化合物 mocvd工艺 半导体器件 外延生长技术 汽相外延生长 化学汽相淀积 半导体材料 分子束外延 外延技术 液相外延 氯化物 氢化物
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MOCVD方法生长的氧化锌薄膜及其发光特性 被引量:22
8
作者 傅竹西 林碧霞 +3 位作者 祝杰 贾云波 刘丽萍 彭小滔 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期119-124,共6页
近年来 ,随着近紫外光发射氧化锌薄膜研究的进展 ,许多先进的薄膜生长手段被广泛采用。本文探索了用MOCVD方法在硅衬底上生长氧化锌薄膜的方法 ,试验了用几种不同的有机金属源生长ZnO薄膜 ;研究了源材料及生长压力和温度对薄膜生长的影... 近年来 ,随着近紫外光发射氧化锌薄膜研究的进展 ,许多先进的薄膜生长手段被广泛采用。本文探索了用MOCVD方法在硅衬底上生长氧化锌薄膜的方法 ,试验了用几种不同的有机金属源生长ZnO薄膜 ;研究了源材料及生长压力和温度对薄膜生长的影响 ;观察了样品的室温光致发光光谱。通过与溅射方法生长的ZnO薄膜的比较 ,提出了影响材料结构和发光特性的可能原因。 展开更多
关键词 氧化锌 薄膜制备 结构特性 光致发光 mocvd 发光特性
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现代MOCVD技术的发展与展望 被引量:23
9
作者 文尚胜 廖常俊 +3 位作者 范广涵 刘颂豪 邓云龙 张国东 《华南师范大学学报(自然科学版)》 CAS 1999年第3期99-107,共9页
MOCVD是一门制造化合物半导体器件的关键技术- 本文综合分析了现代MOCVD 技术的基本原理、特点及实现这种技术的设备的现状及其发展- 重点讨论了能实现衬底温度、衬底表面反应源流均匀性的立式高速涡轮转盘MOCVD技术-
关键词 mocvd技术 有机金属化合物 气相外延 衬底
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MOCVD生长的GaN单晶膜的蓝带发光研究 被引量:11
10
作者 李述体 王立 +4 位作者 辛勇 彭学新 熊传兵 姚冬敏 江风益 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第1期29-32,共4页
对实验室用 MOCVD方法生长的未掺杂 Ga N单晶膜的发光性能进行了研究。结果表明 :在室温时未掺杂 Ga N单晶出现的能量为 2 .9e V左右蓝带发光与补偿度有较强的依赖关系。高补偿 Ga N的蓝带发射强 ,低补偿 Ga N的蓝带发射弱。对蓝带发光... 对实验室用 MOCVD方法生长的未掺杂 Ga N单晶膜的发光性能进行了研究。结果表明 :在室温时未掺杂 Ga N单晶出现的能量为 2 .9e V左右蓝带发光与补偿度有较强的依赖关系。高补偿 Ga N的蓝带发射强 ,低补偿 Ga N的蓝带发射弱。对蓝带发光机理进行了探讨 ,认为蓝带为导带电子跃迁至受主能级的发光 ( e A发光 )。观察到降低 Ga N补偿度能提高 Ga N带边发射强度。 展开更多
关键词 mocvd 光致发光 补偿度 氮化镓 单品膜
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MOCVD生长InGaN/GaN MQW紫光LED 被引量:9
11
作者 李忠辉 杨志坚 +7 位作者 于彤军 胡晓东 杨华 陆曙 任谦 金春来 章蓓 张国义 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期107-109,共3页
利用LP MOCVD系统生长了InGaN/GaNMQW紫光LED外延片 ,双晶X射线衍射测试获得了 2级卫星峰 ,室温光致发光谱的峰值波长为 399 5nm ,FWHM为 15 5nm ,波长均匀性良好。制成的LED管芯 ,正向电流2 0mA时 ,工作电压在 4V以下。
关键词 INGAN 量子阱 紫光LED mocvd 发光二极管 外延生长 镓铟化合物 氮化镓 GaN
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衬底温度对常压MOCVD生长的ZnO单晶膜的性能影响 被引量:9
12
作者 熊传兵 方文卿 +4 位作者 蒲勇 戴江南 王立 莫春兰 江风益 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第12期1628-1633,共6页
以 H2 O作氧源 ,Zn(C2 H5) 2 作 Zn源 ,N2 作载气 ,在 5 0 m m Al2 O3(0 0 0 1)衬底上采用常压 MOCVD技术生长出高质量的 Zn O单晶薄膜 .用 X射线双晶衍射、原子力显微镜和光致发光技术对样品进行了综合表征 ,报道了 Zn O单晶膜的 (10 ... 以 H2 O作氧源 ,Zn(C2 H5) 2 作 Zn源 ,N2 作载气 ,在 5 0 m m Al2 O3(0 0 0 1)衬底上采用常压 MOCVD技术生长出高质量的 Zn O单晶薄膜 .用 X射线双晶衍射、原子力显微镜和光致发光技术对样品进行了综合表征 ,报道了 Zn O单晶膜的 (10 2 )非对称衍射结果 .研究结果表明 ,在 5 0 0~ 70 0℃范围内随生长温度升高 ,Zn O薄膜的双晶摇摆曲线半峰宽增宽 ,表面粗糙度减小 ,晶粒尺寸增大 ,在衬底温度为 6 0 0℃时生长的 Zn O膜的深能级发射最弱 . 展开更多
关键词 mocvd ZNO X射线双晶衍射 原子力显微镜 光致发光
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高质量GaN薄膜的MOCVD同质外延生长 被引量:13
13
作者 李亮 李忠辉 +3 位作者 罗伟科 董逊 彭大青 张东国 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第5期915-917,共3页
采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术,在GaN自支撑衬底上同质外延生长了GaN薄膜,得到高质量的GaN外延薄膜。X射线衍射(XRD)结果显示其(002)面摇摆曲线半高宽小于100弧秒,原子力显微镜(AFM)照片上能看到连续的二维台阶流形貌,其表面粗... 采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术,在GaN自支撑衬底上同质外延生长了GaN薄膜,得到高质量的GaN外延薄膜。X射线衍射(XRD)结果显示其(002)面摇摆曲线半高宽小于100弧秒,原子力显微镜(AFM)照片上能看到连续的二维台阶流形貌,其表面粗糙度小于0.5 nm,其位错密度低于106cm-3。 展开更多
关键词 GAN薄膜 mocvd 同质外延
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MOCVD生长P型GaN的掺Mg量的研究 被引量:6
14
作者 李述体 王立 +4 位作者 彭学新 熊传兵 姚冬敏 辛勇 江风益 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期365-368,共4页
使用 MOCVD技术在 Al2 O3衬底上生长了 Ga N∶ Mg薄膜 .通过对退火后样品的光电性能综合分析 ,研究了掺 Mg量对生长 P型 Ga N的影响 .结果表明 :要获得高空穴载流子浓度的 P型 Ga N,Mg的掺杂量必须控制好 .掺 Mg量较小时 ,Ga N∶ Mg单... 使用 MOCVD技术在 Al2 O3衬底上生长了 Ga N∶ Mg薄膜 .通过对退火后样品的光电性能综合分析 ,研究了掺 Mg量对生长 P型 Ga N的影响 .结果表明 :要获得高空穴载流子浓度的 P型 Ga N,Mg的掺杂量必须控制好 .掺 Mg量较小时 ,Ga N∶ Mg单晶膜呈现 N型导电 ,得不到 P型层 ;掺 Mg量过大时 ,会形成与 Mg有关的深施主 ,由于深施主的补偿作用 ,得不到高空穴浓度的 P型 Ga N.生长 P型 Ga N的最佳 Cp2 Mg/TMGa之比在 1 /660— 1 展开更多
关键词 mocvd 氮化镓 掺杂 薄膜
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基于MOCVD技术的长波AlGaAs/GaAs量子阱红外焦平面探测器 被引量:10
15
作者 李献杰 刘英斌 +6 位作者 冯震 过帆 赵永林 赵润 周瑞 娄辰 张世祖 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2007年第4期435-438,共4页
采用n型掺杂背面入射AlGaAs/GaAs量子阱结构,用MOCVD外延生长和GaAs集成电路工艺,设计制作了大面积AlGaAs/GaAs QWIP单元测试器件和128×128、128×160、256×256 AlGaAs/GaAsQWIP焦平面探测器阵列。用液氮温度下的暗电流... 采用n型掺杂背面入射AlGaAs/GaAs量子阱结构,用MOCVD外延生长和GaAs集成电路工艺,设计制作了大面积AlGaAs/GaAs QWIP单元测试器件和128×128、128×160、256×256 AlGaAs/GaAsQWIP焦平面探测器阵列。用液氮温度下的暗电流和傅里叶红外响应光谱对单元测试器件进行了评估,针对不同材料结构,实现了9μm和10.9μm的截止波长;黑体探测率最高达到2.6×109 cm.Hz1/2.W-1。将128×128 AlGaAs/GaAs QWIP阵列芯片与CMOS读出电路芯片倒装焊互连,成功演示了室温环境下目标的红外热成像;并进一步讨论了提高QWIP组件成像质量的途径。 展开更多
关键词 mocvd ALGAAS/GAAS 量子阱红外探测器 红外热成像
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多缓冲层对MOCVD生长的GaN性能的影响 被引量:9
16
作者 陆敏 方慧智 +4 位作者 黎子兰 陆曙 杨华 章蓓 张国义 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期526-529,共4页
采用多低温缓冲层法和高低温联合缓冲层法在 MOCVD系统上生长 Ga N外延膜 .对薄膜进行了 X射线衍射和光致发光谱 (PL)测试 ,(0 0 0 2 ) X射线摇摆曲线和 PL 谱的半高宽与常规的单低温缓冲层法制备的薄膜相比均有不同程度的改善 .实验结... 采用多低温缓冲层法和高低温联合缓冲层法在 MOCVD系统上生长 Ga N外延膜 .对薄膜进行了 X射线衍射和光致发光谱 (PL)测试 ,(0 0 0 2 ) X射线摇摆曲线和 PL 谱的半高宽与常规的单低温缓冲层法制备的薄膜相比均有不同程度的改善 .实验结果表明改进的缓冲层法能提高 展开更多
关键词 mocvd GAN 缓冲层
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MOCVD反应器热流场的数值模拟研究 被引量:12
17
作者 钟树泉 任晓敏 +4 位作者 王琦 黄辉 黄永清 张霞 蔡世伟 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1342-1348,共7页
本文以低压、旋转、垂直喷淋结构的MOCVD反应器为对象,应用二维数学模型分析与计算,对反应器内部的质量输运过程进行了比较详细的研究与讨论。通过计算发现:在一定范围内,增加进气流量Q、降低操作压力P、设定适宜的生长温度t、保持合理... 本文以低压、旋转、垂直喷淋结构的MOCVD反应器为对象,应用二维数学模型分析与计算,对反应器内部的质量输运过程进行了比较详细的研究与讨论。通过计算发现:在一定范围内,增加进气流量Q、降低操作压力P、设定适宜的生长温度t、保持合理的基座转速ω等,不仅可以非常有效地抑制热浮力效应,同时也使衬底表面流体的流动速度进一步增加,从而实现反应器内部的流场和温度场的均匀分布。研究的结果,不仅为高品质的外延生长提供了有效的解决方案,而且也为MOCVD反应器的优化设计提供了重要的参考依据。 展开更多
关键词 mocvd 反应器 输运过程 热对流
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GaN-MOCVD设备反应室流场的CFD数值仿真 被引量:13
18
作者 刘奕 陈海昕 符松 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第12期1639-1646,共8页
采用计算流体力学方法对生长半导体材料 Ga N的重要设备 MOCVD(金属有机物化学气相沉积 )反应室中的流场结构进行了三维数值仿真 .数值模拟采用基于非交错网格系统的 SIMPL E算法 ,用有限体积方法对控制方程进行离散 ,并采用改进的压力 ... 采用计算流体力学方法对生长半导体材料 Ga N的重要设备 MOCVD(金属有机物化学气相沉积 )反应室中的流场结构进行了三维数值仿真 .数值模拟采用基于非交错网格系统的 SIMPL E算法 ,用有限体积方法对控制方程进行离散 ,并采用改进的压力 -速度耦合方法进行求解 .数值仿真给出了具有复杂几何结构和运动方式的 Ga N-MOCVD反应室中的流场结构 ,研究了改变几何尺寸和运行参数对 MOCVD反应室流场结构的影响 ,对正在试制开发中的 MOCVD设备的几何结构的改进和运行参数的优化提出了指导性建议 . 展开更多
关键词 CFD GAN mocvd 数值仿真
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径向三重流MOCVD反应器输运过程的数值模拟 被引量:15
19
作者 左然 张红 刘祥林 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期977-982,共6页
对径向三重流MOCVD反应器的输运过程进行了二维数值模拟研究.在模拟计算中,分别改变反应腔几何尺寸、导流管位置、流量、压强、温度等条件,得到反应器流场、温场、浓度场的相应变化.根据对模拟结果的分析,发现反应腔内涡旋首先在流动的... 对径向三重流MOCVD反应器的输运过程进行了二维数值模拟研究.在模拟计算中,分别改变反应腔几何尺寸、导流管位置、流量、压强、温度等条件,得到反应器流场、温场、浓度场的相应变化.根据对模拟结果的分析,发现反应腔内涡旋首先在流动的转折处产生,上下壁面温差的加大使涡旋增大,中管进口流量的增加对涡旋产生抑制作用,内管和外管流量的增加对涡旋产生扩大作用.得出输运过程的优化条件为:反应腔上下壁靠近,导流管水平延长,中管进口流量尽量大于内、外管流量,压强尽量低于105Pa,上下壁面温差尽量减小等. 展开更多
关键词 mocvd 输运过程 热对流 数值模拟
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喷淋式GaN-MOCVD反应室的CFD数值仿真及优化 被引量:11
20
作者 杨云柯 高立华 +1 位作者 陈海昕 符松 《工程力学》 EI CSCD 北大核心 2007年第9期173-178,共6页
利用计算流体力学(CFD)方法对某型立式喷淋式金属有机物化学气相沉积(MOCVD)反应室流场进行了三维数值仿真,研究了影响MOCVD反应室流场结构的各工作参数(流量、温度、压力)的作用机制,并对试制中的MOCVD设备的几何结构及进气方式进行了... 利用计算流体力学(CFD)方法对某型立式喷淋式金属有机物化学气相沉积(MOCVD)反应室流场进行了三维数值仿真,研究了影响MOCVD反应室流场结构的各工作参数(流量、温度、压力)的作用机制,并对试制中的MOCVD设备的几何结构及进气方式进行了改进,采用了圆弧形过渡拐角及泊肃叶型入口速度剖面,以形成稳定均匀的流场,从而保证氮化镓(GaN)的生长质量。 展开更多
关键词 氮化镓 mocvd 计算流体力学 数值仿真 优化设计
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