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E/D型MODFET直接耦合倒相器的研制
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作者 朱旗 冯国进 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第1期103-106,共4页
本文对 E/D 型 MODFET 直接耦合倒相器进行了设计与研制。利用国产分子束外延设备制备的 Al_xGa_(1-x)As/Ga As 调制掺杂外延材料,采用常规化合物半导体工艺,获得了具有正常逻辑输出功能的 MODFET 直接耦合倒相器。这对国内开展 MODFET... 本文对 E/D 型 MODFET 直接耦合倒相器进行了设计与研制。利用国产分子束外延设备制备的 Al_xGa_(1-x)As/Ga As 调制掺杂外延材料,采用常规化合物半导体工艺,获得了具有正常逻辑输出功能的 MODFET 直接耦合倒相器。这对国内开展 MODFET 数字电路的研究与开发具有实际意义。 展开更多
关键词 modfet 倒相器 E/D型 砷化镓 耦合
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E/D型集成电路中MODFET模型
2
作者 赵冷柱 《固体电子学研究与进展》 CAS 1987年第1期32-42,共11页
本文给出了一个E/D型结构集成电路中增强型和耗尽型调制掺杂Ga_(1-x)Al_xAs-GaAs异质结二维电子气场效应晶体管(MODFET)模型,并系统地分析了它们的材料选取和结构参数。便于相容性工艺制造,增强型晶体管用三层结构;耗尽型晶体管用四层... 本文给出了一个E/D型结构集成电路中增强型和耗尽型调制掺杂Ga_(1-x)Al_xAs-GaAs异质结二维电子气场效应晶体管(MODFET)模型,并系统地分析了它们的材料选取和结构参数。便于相容性工艺制造,增强型晶体管用三层结构;耗尽型晶体管用四层结构。计算方法主要应用了二维电子气散射理论,Joyce-Dixon近似,以及泊松方程等。文内给出了主要计算结果。 展开更多
关键词 modfet 二维 特性曲线 赫德曲线 E/D GAAS 电子气
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高跨导常断GaN MODFET
3
作者 A.Qzgur 付士萍 《半导体情报》 1996年第5期44-45,共2页
成功地制作出了常断 GaN 基 MODFET(调制掺杂 FET)。该器件的栅长和沟道长度分别为3和5μm,其非本征跨导高达120mS/mm,在正栅偏压为3V时其电流为300mA/mm。该跨导值与先前报道的栅长分别为1和0.23μm、跨导分别为45和24mS/mm 的器件相比... 成功地制作出了常断 GaN 基 MODFET(调制掺杂 FET)。该器件的栅长和沟道长度分别为3和5μm,其非本征跨导高达120mS/mm,在正栅偏压为3V时其电流为300mA/mm。该跨导值与先前报道的栅长分别为1和0.23μm、跨导分别为45和24mS/mm 的器件相比,是相当不错的。 展开更多
关键词 氮化镓 modfet 跨导 常断
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MODFET分布放大器
4
作者 陈仪伟 《电光系统》 1989年第1期41-47,共7页
关键词 modfet 分布放大器 放大器
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一种f_T为70GHz的低偏压自校准P型SiGe MODFET
5
作者 张晓雪 《微电子技术》 1998年第3期53-54,共2页
关键词 modfet 自校准 欧姆接触 低偏压 最大振荡频率 P型 截止频率 栅电阻 加工方法 本征跨导
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深亚微米纤锌矿相AlGaN/GaN MODFET输出特性的微分负阻效应
6
作者 郭宝增 Umberto Ravaioli 《中国科学(E辑)》 CSCD 北大核心 2003年第6期568-576,共9页
用全带组合Monte Carlo方法模拟了Al_(0.15)Ga_(0.85)N/GaN MODFET的直流特性。模拟器件的栅极长度L_g为0.2μm,沟道长度L_(DS)为0.4μm。在模拟得到的I_(DS)-V_(DS)输出特性曲线中,发现了微分负阻效应,即V_(GS)为固定值时,当V_(DS)逐... 用全带组合Monte Carlo方法模拟了Al_(0.15)Ga_(0.85)N/GaN MODFET的直流特性。模拟器件的栅极长度L_g为0.2μm,沟道长度L_(DS)为0.4μm。在模拟得到的I_(DS)-V_(DS)输出特性曲线中,发现了微分负阻效应,即V_(GS)为固定值时,当V_(DS)逐渐增加,并达到某一阈值时,I_(DS)会随着V_(DS)的增大而减小。对GaN体材料的速度-电场特性和对器件的二维电子气沟道内的电场和速度分布的分析表明,沟道内电子平均漂移速度的负阻效应导致了输出特性的微分负阻效应,二维电子气沟道内的瞬态输运对微分负阻特性也有一定影响。这种效应只有在超短沟道MODFET中才能发生。 展开更多
关键词 调制掺杂场效应晶体管 深亚微米纤锌矿相 ALGAN/GAN modfet 输出特性 微分负阻效应 直流特性 MonteCarlo方法
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Differential negative resistance effect of output characteristics in deep sub-micrometer wurtzite AlGaN/GaN MODFETs 被引量:2
7
作者 郭宝增 Umberto Ravaioli 《Science in China(Series F)》 2003年第3期187-198,共12页
We obtained the output characteristics in wurtzite Al0.15Ga0.85N/GaN MODFETs with the full band Monte Carlo method. The gate length Lg and the channel length Los in the device are 0.2 μm and 0.4 urn, respectively. In... We obtained the output characteristics in wurtzite Al0.15Ga0.85N/GaN MODFETs with the full band Monte Carlo method. The gate length Lg and the channel length Los in the device are 0.2 μm and 0.4 urn, respectively. In the output characteristics we found a differential negative resistance effect. That is, as VDS is a constant, initially, VDS increases with increasing VDS. When VDS exceeds a certain critical value, IDS decreases with increasing VDS. The analysis for velocity-field characteristics in wurtzite CaN, the distributions of the electric field and the electron velocity in the two dimensional electron gas channel indicates that the differential negative resistance effect of the electron average velocity results in the differential negative resistance effect of the output characteristics. The transient transport also is related to the differential negative resistance effect of the output characteristics. This effect only can be observed in the devices with very short channel. 展开更多
关键词 gallium nitride modfetS Monte Carlo negative resistance effect.
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NRC的分子束外延MODFET
8
作者 陈裕权 《半导体信息》 2003年第5期25-25,共1页
加拿大国家研究院(NRC)的"分子束外延(MBE)生长半绝缘掺C GaN"获得美国专利(专利号6544867)。该专利描述了通过掺杂C并用胺分子束外延生长半绝缘GaN外延层的方法。基于这种AlGaN/GaN异质结构的MODFET演示表明极有望获得高频... 加拿大国家研究院(NRC)的"分子束外延(MBE)生长半绝缘掺C GaN"获得美国专利(专利号6544867)。该专利描述了通过掺杂C并用胺分子束外延生长半绝缘GaN外延层的方法。基于这种AlGaN/GaN异质结构的MODFET演示表明极有望获得高频、高功率和高温性能。用MOCVCD和MBE两种生长技术成功地生长出上述高品质MODFET结构。 展开更多
关键词 分子束外延 modfet NRC 半绝缘 ALGAN 外延层 异质结构 加拿大国家 高温性能 美国专利
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SiGe半导体在微电子技术发展中的重要作用 被引量:11
9
作者 谢孟贤 古妮娜 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期34-43,共10页
从Si-BJT和Si-FET集成电路在提高频率、速度上的困难,到SiGe-HBT和SiGe-FET及其集成电路的优异特性,论述了SiGe半导体在Si基微电子技术发展中的重要作用;特别强调了应变增强载流子迁移率—应变工程技术的重要作用。介绍了SiGe器件及其... 从Si-BJT和Si-FET集成电路在提高频率、速度上的困难,到SiGe-HBT和SiGe-FET及其集成电路的优异特性,论述了SiGe半导体在Si基微电子技术发展中的重要作用;特别强调了应变增强载流子迁移率—应变工程技术的重要作用。介绍了SiGe器件及其集成电路的发展概况。 展开更多
关键词 双极型晶体管 异质结双极型晶体管 SiGe-HBT SiGe-BiCMOS 调制掺杂场效应晶
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HEMT的一维I-V参数提取
10
作者 刘诺 谢孟贤 《微电子学》 CAS CSCD 1994年第6期38-41,共4页
自从Mimura等人1980年首次研制出了第一只高电子迁移率晶体管(HEMT),其优越的电子传输性能备受注目,可望在超高速数字电路和逻辑集成电路中得到广泛应用。本文采用Xia等人提出的三段速-场公式,在考虑了300K... 自从Mimura等人1980年首次研制出了第一只高电子迁移率晶体管(HEMT),其优越的电子传输性能备受注目,可望在超高速数字电路和逻辑集成电路中得到广泛应用。本文采用Xia等人提出的三段速-场公式,在考虑了300K时场相关迁移率、沟道长度调制效应以及串联源、漏电阻等效应的基础上,又加入了Al_xGa_(al-x)As的组分x的调制效应,以适应能带工程和高性能电路的需要;推导并求解x>0.3的Al_xGa_(1-x)As/GaAsHEMT的直流I-V特性。计算结果与理论值符合良好。 展开更多
关键词 HEMT 参数提取 高电子迁移率 晶体管
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SixGel-x/Si和Si/Ge应变层超晶格及其器件的应用
11
作者 宋登元 《河北大学学报(自然科学版)》 CAS 1993年第1期93-100,共8页
SixGel-x/Si和Si/Ge应变层超晶格(SLS)的新颖物理特性显示了它们在各种半导体器件应用方面的诱人前景。本文综述了这类超晶格的生长特性、能带结构以及它们的电学和光学特性。最后介绍了它们在HBTs,p沟BICFETs,n沟和p沟MODFETs以及p-i-n... SixGel-x/Si和Si/Ge应变层超晶格(SLS)的新颖物理特性显示了它们在各种半导体器件应用方面的诱人前景。本文综述了这类超晶格的生长特性、能带结构以及它们的电学和光学特性。最后介绍了它们在HBTs,p沟BICFETs,n沟和p沟MODFETs以及p-i-n和APD光电探测器应用方面的进展。 展开更多
关键词 SLS 半导体器件 超晶格
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HEMT:一种超高速晶体管
12
作者 戴季江 《现代雷达》 1985年第1期90-91,共2页
目前美、日、德、法等国有许多研究机构、大学、公司正从事开发一种超高速晶体管,其开关速度略大于10微微秒。它不仅有数字开关的功能,而且也能作模拟放大器,频率可高达60千兆赫。这种晶体管有多种名称,例如高电子迁移率晶体管(HEMT/Hig... 目前美、日、德、法等国有许多研究机构、大学、公司正从事开发一种超高速晶体管,其开关速度略大于10微微秒。它不仅有数字开关的功能,而且也能作模拟放大器,频率可高达60千兆赫。这种晶体管有多种名称,例如高电子迁移率晶体管(HEMT/High Electron-Mobility Transistor) 展开更多
关键词 modfet 微微秒 晶体管 半导体三极管 HEMT
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调制掺杂场效应管的电容和伏-安特性
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作者 邓生贵 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第7期521-526,共6页
本文考虑了费米能级随栅电压的变化,得到调制掺杂场效应管的栅极与沟道的实际距离增大90A左右,从而引起栅极电容和跨导的明显减少;又用热电子模型推导了调制掺杂场效应管的伏-安特性,得到的结果为其它文献所证实。
关键词 调制掺杂 场效应管 电容 伏安特性
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Characterization of electrical properties of AlGaN/GaN interface using coupled Schrodinger and Poisson equation
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作者 S.Das A.K.Panda G.N.Dash 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2012年第11期16-23,共8页
The electrical characterization of AlGaN/GaN interface is reported.The dependence of two-dimensional electron gas(2-DEG) density at the interface on the Al mole fraction and thickness of AIGaN layer as well as on th... The electrical characterization of AlGaN/GaN interface is reported.The dependence of two-dimensional electron gas(2-DEG) density at the interface on the Al mole fraction and thickness of AIGaN layer as well as on the thickness of GaN cap layer is presented.This information can be used to design and fabricate AlGaN/GaN based MODFET(modulation doped field effect transistor) for optimum DC and RF characteristics. 展开更多
关键词 modfet 2-DEG polarization critical thickness self-heating
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