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退火温度和β-FeSi2薄膜厚度对n-β-FeSi2/p-Si异质结太阳电池的影响 被引量:9
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作者 郁操 侯国付 +3 位作者 刘芳 孙建 赵颖 耿新华 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期662-665,676,共5页
本文采用室温直流磁控溅射Fe-Si组合靶的方法,并通过后续退火温度的优化得到了单一相高质量的β-FeSi2薄膜。结果表明,在本实验条件下得到的未掺杂的β-FeSi2薄膜在室温下是n型导电的,其电学特性存在一个退火温度的最优点:800℃。而且... 本文采用室温直流磁控溅射Fe-Si组合靶的方法,并通过后续退火温度的优化得到了单一相高质量的β-FeSi2薄膜。结果表明,在本实验条件下得到的未掺杂的β-FeSi2薄膜在室温下是n型导电的,其电学特性存在一个退火温度的最优点:800℃。而且在这个最佳温度点上,在Si(111)衬底上外延得到的薄膜载流子迁移率比在Si(100)上高出了一倍多。在上述研究的基础上,采用p-Si(111)单晶片作为外延生长β-FeSi2薄膜的衬底,并通过退火温度和薄膜厚度的优化制备出了国内第一个n-β-FeSi2/p-Si异质结太阳电池,其Jsc=7.90 mA/cm2,Voc=0.21V,FF=0.23,η=0.38%。 展开更多
关键词 β-fesi2薄膜 直流磁控溅射 退火温度 异质太阳电池
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β-FeSi_2/Si异质结的制备及性质研究 被引量:5
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作者 郑旭 张晋敏 +3 位作者 熊锡成 张立敏 赵清壮 谢泉 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第11期1469-1471,共3页
采用直流磁控溅射和真空退火方法制备β-FeSi2/Si异质结,首先在n型Si(100)衬底上沉积Fe膜,经真空退火形成β-FeSi2/Si异质结,Fe膜厚度约238nm,退火后形成的β-FeSi2薄膜厚度约为720nm。利用XRD、SEM和红外光谱仪分别研究了β-FeSi2薄膜... 采用直流磁控溅射和真空退火方法制备β-FeSi2/Si异质结,首先在n型Si(100)衬底上沉积Fe膜,经真空退火形成β-FeSi2/Si异质结,Fe膜厚度约238nm,退火后形成的β-FeSi2薄膜厚度约为720nm。利用XRD、SEM和红外光谱仪分别研究了β-FeSi2薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性质。霍尔效应结果表明,制备的β-FeSi2薄膜为n型导电,载流子浓度为9.51×1015cm-3,电子迁移率为380cm2/(V.s)。 展开更多
关键词 磁控溅射 β-fesi2/Si异质 输运性质
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基于β-FeSi_2薄膜的异质结研究现状 被引量:1
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作者 熊锡成 谢泉 +1 位作者 张晋敏 肖清泉 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第17期15-20,共6页
详细介绍了β-FeSi2的结构和β-FeSi2薄膜的物理特性,以及基于β-FeSi2薄膜的异质结在光电方面的应用。目前,基于β-FeSi2薄膜的异质结应用的研究主要集中在PL和EL等LED领域,而对其应用于太阳能电池方面的研究还很薄弱,所获得的光电转... 详细介绍了β-FeSi2的结构和β-FeSi2薄膜的物理特性,以及基于β-FeSi2薄膜的异质结在光电方面的应用。目前,基于β-FeSi2薄膜的异质结应用的研究主要集中在PL和EL等LED领域,而对其应用于太阳能电池方面的研究还很薄弱,所获得的光电转换效率最高是3.7%,远低于其16%~23%的理论值。 展开更多
关键词 β-fesi2 晶体 光电性质 异质 太阳能电池
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β-FeSi2/Si异质结的伏安特性分析
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作者 张立敏 张晋敏 +3 位作者 郑旭 熊锡成 唐华杰 金浩 《纳米科技》 2013年第2期10-13,共4页
用磁控溅射方法制备β-FeSi2/Si异质结,在分析其伏安特性的基础上探索其是否适合制备红外探测器,XRD、SEM分析表明,该方法能得到纯净、表面平整的β-FeSi2/Si薄膜;在室温下异质结的I—V特性具有很好的整流特性,整流效率约为Idirect... 用磁控溅射方法制备β-FeSi2/Si异质结,在分析其伏安特性的基础上探索其是否适合制备红外探测器,XRD、SEM分析表明,该方法能得到纯净、表面平整的β-FeSi2/Si薄膜;在室温下异质结的I—V特性具有很好的整流特性,整流效率约为Idirect/Ireverse~10^2,分流电阻约为38.4kΩ,零偏压下的电流响应率约为26μA/W。推算结果表明,该异质结的红外探测率约为1.479×10^9cm·√Hz/W,适合用于制备红外探测器。 展开更多
关键词 磁控溅射 β-fesi2 SI异质 伏安特性
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Measurements of Carrier Confinement at β-FeSi_2-Si Heterojunction by Electroluminescence
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作者 李成 末益崇 长谷川文夫 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期230-233,共4页
A Si p-π-n diode with β-FeSi 2 particles embedded in the unintentionally doped Si (p--type) was designed for determining the band offset at β-FeSi 2-Si heterojunction.When the diode is under forward bias,the elec... A Si p-π-n diode with β-FeSi 2 particles embedded in the unintentionally doped Si (p--type) was designed for determining the band offset at β-FeSi 2-Si heterojunction.When the diode is under forward bias,the electrons injected via the Si n-p- junction diffuse to and are confined in the β-FeSi 2 particles due to the band offset.The storage charge at the β-FeSi 2-Si heterojunction inversely hamper the further diffusion of electrons,giving rise to the localization of electrons in the p--Si near the Si junction,which prevents them from nonradiative recombination channels.This results in electroluminescence (EL) intensity from both Si and β-FeSi 2 quenching slowly up to room temperature.The temperature dependent ratio of EL intensity of β-FeSi 2 to Si indicates the loss of electron confinement following thermal excitation model.The conduction band offset between Si and β-FeSi 2 is determined to be about 0 2eV. 展开更多
关键词 β-fesi2-si heterojunction ELECTROLUMINESCENCE band offset carrier confinement
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SnO_2/p^+-Si异质结器件的电致发光:利用TiO_2盖层提高发光强度 被引量:1
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作者 蒋昊天 杨扬 +3 位作者 汪粲星 朱辰 马向阳 杨德仁 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第17期259-263,共5页
通过在重掺硼硅(p+-Si)衬底上溅射SnO2薄膜并在O2气氛下800℃热处理形成SnO2/p+-Si异质结.基于该异质结的器件可在低电压(电流)驱动下电致发光.进一步地,通过在SnO2薄膜上增加TiO2盖层,使器件的电致发光获得显著增强.这是由于TiO2盖层... 通过在重掺硼硅(p+-Si)衬底上溅射SnO2薄膜并在O2气氛下800℃热处理形成SnO2/p+-Si异质结.基于该异质结的器件可在低电压(电流)驱动下电致发光.进一步地,通过在SnO2薄膜上增加TiO2盖层,使器件的电致发光获得显著增强.这是由于TiO2盖层的引入,一方面使SnO2薄膜更加致密,减少了非辐射复合中心;另一方面TiO2较大的折射率和合适的厚度使SnO2薄膜电致发光的出光效率得到提高. 展开更多
关键词 SNO2 p+-si异质 TiO2盖层 电致发光
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