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Recent progresses in thermal treatment of β-Ga_(2)O_(3) single crystals and devices
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作者 Yuchao Yan Zhu Jin +1 位作者 Hui Zhang Deren Yang 《International Journal of Minerals,Metallurgy and Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第7期1659-1677,共19页
In recent years,ultra-wide bandgap β-Ga_(2)O_(3) has emerged as a fascinating semiconductor material due to its great potential in power and photoelectric devices.In semiconductor industrial,thermal treatment has bee... In recent years,ultra-wide bandgap β-Ga_(2)O_(3) has emerged as a fascinating semiconductor material due to its great potential in power and photoelectric devices.In semiconductor industrial,thermal treatment has been widely utilized as a convenient and effective approach for substrate property modulation and device fabrication.Thus,a thorough summary of β-Ga_(2)O_(3) substrates and devices behaviors after high-temperature treatment should be significant.In this review,we present the recent advances in modulating properties of β-Ga_(2)O_(3) substrates by thermal treatment,which include three major applications:(ⅰ)tuning surface electrical properties,(ⅱ)modifying surface morphology,and(ⅲ)oxidating films.Meanwhile,regulating electrical contacts and handling with radiation damage and ion implantation have also been discussed in device fabrication.In each category,universal annealing conditions were speculated to figure out the corresponding problems,and some unsolved questions were proposed clearly.This review could construct a systematic thermal treatment strategy for various purposes and applications of β-Ga_(2)O_(3). 展开更多
关键词 β-gallium oxide thermal treatment SUBSTRATES DEVICES
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β-Ga_(2)O_(3)晶体金刚石线锯切割的表面质量研究 被引量:1
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作者 李晖 高鹏程 +4 位作者 程红娟 王英民 高飞 张弛 王磊 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第12期2040-2047,2062,共9页
本文探究了往复式金刚石线锯的工艺参数对β-Ga_(2)O_(3)单晶沿(001)晶面切片时表面质量的影响,从压痕断裂力学理论角度探究了金刚石线锯切割β-Ga_(2)O_(3)单晶过程中磨粒行为和材料去除机理。实验从各向异性角度分析了切割方向对(001... 本文探究了往复式金刚石线锯的工艺参数对β-Ga_(2)O_(3)单晶沿(001)晶面切片时表面质量的影响,从压痕断裂力学理论角度探究了金刚石线锯切割β-Ga_(2)O_(3)单晶过程中磨粒行为和材料去除机理。实验从各向异性角度分析了切割方向对(001)面β-Ga_(2)O_(3)单晶切割片表面质量的影响,并采用SEM和SJ-210粗糙度测试仪探究了工艺参数对金刚石线锯切割后的晶片表面质量的影响。实验结果表明,增大锯丝速度或减小材料进给速度都能降低亚表面损伤层深度及表面粗糙度,有效改善晶片表面质量。 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3)晶片 金刚石线锯 切割方向 亚表面损伤层 表面粗糙度
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超长β-Ga_2O_3纳米线的合成 被引量:2
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作者 王月辉 王东军 +1 位作者 杨海滢 王红蕾 《河北科技师范学院学报》 CAS 2009年第2期34-38,共5页
采用溶剂热法以二甲苯作为溶剂,NaN3作为氮源,GaCl3作为镓源,合成GaN为中间产物,进而以空气为氧源来合成Ga2O3,反应温度为350℃。热处理后,成功得到了-βGa2O3超长纳米线,通过X射线衍射(XRD)、红外射线(IR)、透射电子显微(TEM)、选区电... 采用溶剂热法以二甲苯作为溶剂,NaN3作为氮源,GaCl3作为镓源,合成GaN为中间产物,进而以空气为氧源来合成Ga2O3,反应温度为350℃。热处理后,成功得到了-βGa2O3超长纳米线,通过X射线衍射(XRD)、红外射线(IR)、透射电子显微(TEM)、选区电子衍射(SAED)、高分辨率的透射电镜(HRTEM)、光致发光(PL)、X射线荧光光谱(EdX)等表征发现,所得-βGa2O3超长纳米线是沿着[00 1]晶向自堆垛生长的,PL研究表明,氧化镓主要有两个强的发射峰,分别在416 nm和580 nm处(λ发射=250 nm)。 展开更多
关键词 -βGa2O3超长纳米线 溶剂热法 自堆垛
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High-performance junction field-effect transistor based on black phosphorus/β-Ga2O3 heterostructure 被引量:2
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作者 Chang Li Cheng Chen +6 位作者 Jie Chen Tao He Hongwei Li Zeyuan Yang Liu Xie Zhongchang Wang Kai Zhang 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2020年第8期52-58,共7页
Black phosphorous(BP),an excellent two-dimensional(2D)monoelemental layered p-type semiconductor material with high carrier mobility and thickness-dependent tunable direct bandgap structure,has been widely applied in ... Black phosphorous(BP),an excellent two-dimensional(2D)monoelemental layered p-type semiconductor material with high carrier mobility and thickness-dependent tunable direct bandgap structure,has been widely applied in various devices.As the essential building blocks for modern electronic and optoelectronic devices,high quality PN junctions based on semiconductors have attracted widespread attention.Herein,we report a junction field-effect transistor(JFET)by integrating narrow-gap p-type BP and ultra-wide gap n-typeβ-Ga2O3 nanoflakes for the first time.BP andβ-Ga2O3 form a vertical van der Waals(vdW)heterostructure by mechanically exfoliated method.The BP/β-Ga2O3 vdW heterostructure exhibits remarkable PN diode rectifying characteristics with a high rectifying ratio about 107 and a low reverse current around pA.More interestingly,by using the BP as the gate andβ-Ga2O3 as the channel,the BP/β-Ga2O3 JFET devices demonstrate excellent n-channel JFET characteristics with the on/off ratio as high as 107,gate leakage current around as low as pA,maximum transconductance(gm)up to 25.3μS and saturation drain current(IDSS)of 16.5μA/μm.Moreover,it has a pinch-off voltage of–20 V and a minimum subthreshold swing of 260 mV/dec.These excellent n-channel JFET characteristics will expand the application of BP in future nanoelectronic devices. 展开更多
关键词 two-dimensional semiconductor black phosphorous β-gallium oxide vdWs heterostructure junction field-effect transistor
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扩Ga基区高反压晶体三极管V—1特性分析
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作者 修显武 孙海波 +3 位作者 裴素华 杨利 周忠平 郭兴龙 《科学技术与工程》 2002年第5期32-35,共4页
从器件物理的角度,对杂质、掺杂方式不同,形成基区的高耐压晶体三极管I-V负阻效应随机性进行分析。结果认为,负阻摆幅的大小对小电流注入下放大性能的优劣产生直接影响,而对发射极-收集极间的真正击穿电压并无减小损失;进一步证明了在Si... 从器件物理的角度,对杂质、掺杂方式不同,形成基区的高耐压晶体三极管I-V负阻效应随机性进行分析。结果认为,负阻摆幅的大小对小电流注入下放大性能的优劣产生直接影响,而对发射极-收集极间的真正击穿电压并无减小损失;进一步证明了在SiO_2/Si系统中,开管扩Ga形成的晶体管,具有耐压高、漏电流小的特点。 展开更多
关键词 扩Ga基区 高反压晶体三极管 V-1特性 负阻效应 击穿电压 电流放大系数 共基极直流电流放大系数
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Effect of Oxide Assisted Metal Nanoparticles on Microstructure and Morphology of Gallium oxide Nanowires 被引量:1
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作者 Kyo-Hong CHOI Kwon-Koo CHO +3 位作者 Gyu-Bong CHO Hyo-Jun AHN Ki-Won KIM Yoo-Young KIM 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第6期886-891,共6页
Several researches have been reported about the characteristic of β-Ga_2O_3 nanowires which was synthesized on nickel oxide particle.But indeed,recent researches about synthesis of β-Ga_2O_3 nanowires on oxide-assis... Several researches have been reported about the characteristic of β-Ga_2O_3 nanowires which was synthesized on nickel oxide particle.But indeed,recent researches about synthesis of β-Ga_2O_3 nanowires on oxide-assisted transition metal are limited to nickel or cobalt oxide catalyst.In this work,Gallium oxide(β-Ga_2O_3)nanowires were synthesized by a simple thermal evaporation method from gallium powder in the range of 700-1000℃ using the iron,nickel,copper,cobalt and zinc oxide as a catalyst,respectively.The β-Ga_2O_3 nanowires with single crystalline without defects were successfully synthesized at the reaction temperature of 850,900 and 950℃ in all the catalysts.But optimum experimental condition in synthesis of nanowires varied with the kind of catalyst.As increasing synthesis temperature,the morphology of gallium oxide nanowires changed from nanowires to nanorods,and its diameter increased.From these results,we could be proposed that the growth mechanism of β-Ga_2O_3 nanowires was changed with synthesis temperature of nanowires.Microstructure and morphology of Synthesized nanowire was characterized by HR-TEM,FE-SEM,EDX and XRD. 展开更多
关键词 金属纳米粒子 显微结构 镓氧化物 形态学
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镓(铟)-邻菲啰啉-MPA配合物吸附波研究及其应用 被引量:3
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作者 魏显有 《岩矿测试》 CAS CSCD 北大核心 1991年第4期298-300,共3页
在pH2.2的HCl-NH_4Ac缓冲溶液中,Ga、In与邻菲啰啉、β—巯基丙酸(MPA)生成的多元配合物,分别在电位-0.95V及-0.67V(υs、SCE)处产生一灵敏的吸附波。Ga、In的检测下限分别为0.002μg/ml及0.0002μg/ml,波高与Ga、In浓度分别在0.005—0.... 在pH2.2的HCl-NH_4Ac缓冲溶液中,Ga、In与邻菲啰啉、β—巯基丙酸(MPA)生成的多元配合物,分别在电位-0.95V及-0.67V(υs、SCE)处产生一灵敏的吸附波。Ga、In的检测下限分别为0.002μg/ml及0.0002μg/ml,波高与Ga、In浓度分别在0.005—0.8μg/ml及0.0004—0.6μg/ml之间呈线性关系。探讨了极谱波的性质。应用于化探样品中痕量Ga、In的测定,结果满意。 展开更多
关键词 邻菲罗啉 配合物 吸附波
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Gallium trichloride-catalyzed conjugate addition of indole and pyrrole to α,β-unsaturated ketones in aqueous media 被引量:5
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作者 Rong Xu Jin Chang Ding +2 位作者 Xi An Chen Miao Chang Liu Hua Yue Wu 《Chinese Chemical Letters》 SCIE CAS CSCD 2009年第6期676-679,共4页
Michael addition of indole and pyrrole to a variety of α, β-unsaturated ketones was efficiently promoted by a catalytic amount of GaCl3 in aqueous media to afford the corresponding products in good to excellent yields.
关键词 Gallium trichloride Michael addition INDOLE PYRROLE α β-Unsaturated ketones
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还原法制备二配位β-二亚胺镓卡宾及其结构表征
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作者 刘晶晶 尚建选 +5 位作者 郭燕 高芳芳 魏京 曾凡龙 李安阳 王文渊 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2022年第5期843-849,共7页
侧链无活性位点的β‑二亚胺配体具有对低价金属中心良好的电子稳定效应和侧基保护作用。金属K能够还原β‑二亚胺二氯合镓􀃮化合物PhC(PhCN‑Dip)_(2)GaCl_(2)(2,Dip=2,6‑^(i)Pr_(2)C_(6)H_(3)),以较高产率得到新一例β‑二亚胺稳... 侧链无活性位点的β‑二亚胺配体具有对低价金属中心良好的电子稳定效应和侧基保护作用。金属K能够还原β‑二亚胺二氯合镓􀃮化合物PhC(PhCN‑Dip)_(2)GaCl_(2)(2,Dip=2,6‑^(i)Pr_(2)C_(6)H_(3)),以较高产率得到新一例β‑二亚胺稳定的分子态Ga􀃬卡宾单体PhC(PhCN‑Dip)_(2)Ga:(3)。化合物2和3的结构与组成通过X射线单晶衍射与NMR进行表征。单体镓卡宾3中心Ga􀃬离子处于平面六元氮杂环的一个顶角,具有弯曲二配位的几何构型。理论计算结果显示,3的HOMO能级较低,被Ga的孤对电子占据,LUMO+1对应Ga的空p轨道,但是能级比HOMO要高601.0 kJ·mol^(-1),这表明3是一个与氮杂环碳卡宾同构的镓卡宾分子,且Ga􀃬离子的孤对电子具有较好的热稳定性。 展开更多
关键词 β-二亚胺 还原 镓卡宾 低配位化合物
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氧等离子体活化β-Ga_(2)O_(3)/SiO_(2)低温键合工艺
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作者 马旭 穆文祥 +4 位作者 侯童 董岳 余博文 李阳 贾志泰 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第10期3273-3282,共10页
采用O2等离子体活化键合技术,实现了β-Ga_(2)O_(3)与SiO_(2)的低温直接键合。通过对O2等离子体处理时间进行调控,系统研究了接触角、羟基密度随处理时间的变化。随着O2等离子体活化时间的增加,SiO_(2)和β-Ga_(2)O_(3)晶片表面亲水性... 采用O2等离子体活化键合技术,实现了β-Ga_(2)O_(3)与SiO_(2)的低温直接键合。通过对O2等离子体处理时间进行调控,系统研究了接触角、羟基密度随处理时间的变化。随着O2等离子体活化时间的增加,SiO_(2)和β-Ga_(2)O_(3)晶片表面亲水性大幅度增强,晶片表面的羟基密度明显提升。同时探究了退火温度对衬底表面质量及键合强度的影响,发现键合强度随着退火温度的增加而提升,但较高退火温度容易导致β-Ga_(2)O_(3)衬底的开裂。通过扫描电子显微镜和透射电子显微镜对键合界面进行分析,键合界面的O、Ga、Si元素在退火过程中发生充分扩散。测试说明,采用O2等离子体活化方法成功地实现了β-Ga_(2)O_(3)/SiO_(2)晶片的异质集成。由于β-Ga_(2)O_(3)和SiO_(2)衬底可以在不需要真空处理的情况下实现原子级的结合,技术路线成本低,因此本工作提出的直接键合技术将有助于推动β-Ga_(2)O_(3)材料在器件方面的发展及应用。 展开更多
关键词 β-氧化镓 二氧化硅 氧气等离子体活化 低温直接键合 异质集成
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D314树脂的β-Ala改性及其对镓离子的吸附性能研究
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作者 刘馥瑶 王雪莲 +2 位作者 石敏感 冯晓琴 安富强 《化工新型材料》 CAS 2024年第12期170-174,178,共6页
随着科技的发展,镓在半导体、医疗、催化等领域占有越来越重要的地位,但由于其在自然界中无独立矿床可提取,使对镓的回收逐渐成为人们关注的重点。针对上述问题提出一种新型吸附剂的研究方法,利用β-Ala中的羧基可与Ga(Ⅲ)之间形成配位... 随着科技的发展,镓在半导体、医疗、催化等领域占有越来越重要的地位,但由于其在自然界中无独立矿床可提取,使对镓的回收逐渐成为人们关注的重点。针对上述问题提出一种新型吸附剂的研究方法,利用β-Ala中的羧基可与Ga(Ⅲ)之间形成配位作用,首先在D314树脂表面接枝聚合了甲基丙烯酸缩水甘油酯(GMA),再用β-丙氨酸进行改性,制得新型吸附剂β-AlaD314。研究了改性条件对吸附量的影响,并考察了改性树脂对Ga(Ⅲ)的吸附性能。结果表明:β-AlaD314最佳适宜的改性条件为β-丙氨酸用量2g,反应温度60℃,反应时间8h;在25℃,pH为2的环境下,β-AlaD314对Ga(Ⅲ)的饱和吸附量为321.07mg/g,符合准一级动力学模型;此外,β-AlaD314具有良好的重复使用性能。 展开更多
关键词 吸附 D314树脂 β-丙氨酸 改性
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导模法生长β-Ga_(2)O_(3)晶体中的小角晶界
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作者 王佩 穆文祥 +2 位作者 侯童 贾志泰 陶绪堂 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第6期1406-1411,共6页
Ga_(2)O_(3)作为最具发展潜力的超宽禁带半导体材料,其晶体缺陷方面还缺乏深入且全面的研究。面缺陷小角晶界主要存在于β-Ga_(2)O_(3)(100)晶面,会破坏晶体结构完整性,降低晶体质量。采用化学刻蚀法和透射电子显微镜技术对导模法生长β... Ga_(2)O_(3)作为最具发展潜力的超宽禁带半导体材料,其晶体缺陷方面还缺乏深入且全面的研究。面缺陷小角晶界主要存在于β-Ga_(2)O_(3)(100)晶面,会破坏晶体结构完整性,降低晶体质量。采用化学刻蚀法和透射电子显微镜技术对导模法生长β-Ga_(2)O_(3)晶体中的小角晶界进行宏观分析和微观结构表征。研究表明:小角晶界两侧的刻蚀坑形状和朝向相同,晶界两侧的晶粒取向差约为3°,除此之外,小角晶界会使摇摆曲线出现肩峰及展宽,通过对β-Ga_(2)O_(3)晶体中小角晶界缺陷的微观结构进行表征,填补了小角晶界缺陷的研究空白。 展开更多
关键词 导模法 β-氧化镓 小角晶界 摇摆曲线
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Electrically Stimulated Band Alignment Transit in Black Phosphorus/β-Ga2O3 Heterostructure Dual-band Photodetector
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作者 LI Chang XIE Liu +6 位作者 HE Tao ZHANG Yan DONG Zhuo YANG Zeyuan ZHANG Xiaodong WANG Zhongchang ZHANG Kai 《Chemical Research in Chinese Universities》 SCIE CAS CSCD 2020年第4期703-708,共6页
In recent decades,dual-band photodetectors have received widespread attention due to better target iden-tification,which are considered as the development trend of next generation photodetectors.However,the traditiona... In recent decades,dual-band photodetectors have received widespread attention due to better target iden-tification,which are considered as the development trend of next generation photodetectors.However,the traditional dual-band photodetectors based on heteroepitaxial growth,superlattice and multiple quantum well structures are limited by complex fabrication process and low integration.Herein,we report a UV/IR dual-band photodetector by integrating ultra-wide gap B-Ga2O,and narrow-gap black phosphorous(BP)nanoflakes.A vertical van der Waals(vdW)heterostructure is formed between BP and B-Ga,O,by mechanically exfoliated method integrated without the requirement of lattice match.The heterostructure devices show excellent rectification characteristics with high recti-fving ratio of ca.10 and low reverse current around pA.Moreover,the device displays obvious photoresponse underUV and IR irradiations with responsivities of 0.87 and 2.15 mA/W,respectively.We also explore the band alignment transit within the heterostructure photodetector at different bias voltages.This work paves the way for fabricating novel dual-band photodetectors by utilizing 2D materials. 展开更多
关键词 Black phosphorous β-gallium oxide van der Waals heterostructure Dual-band photodetector
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