基于几何遮蔽效应和法拉第旋光效应耦合的磁流体偏振光透过率

根据几何遮蔽效应和法拉第旋光效应耦合原理给出的解析表达式,通过数值模拟计算,研究了磁流体的纵场诱导偏振光透过率及磁流体的浓度、液态介电常量、磁性颗粒磁偶极矩热能比和单位磁性颗粒团聚体所含磁性颗粒数量四个参量的变化对其偏振光透过率的影响.结果表明,磁流体的浓度、液态介电常量和磁性颗粒磁偶极矩热能比对其偏振光透过率有显著影响,低浓度样品的偏振光透过率随着纵向磁场强度的增大而线性增加,而高浓度样品则随着纵向磁场强度的增大呈现振荡变化的特性.在一定范围内,磁流体偏振光透过率随其液态介电常量εliquid和磁性颗粒磁偶极矩热能比μd/(kT)的变大而增加.而单位磁性颗粒团聚体所含磁性颗粒数量对其偏振光透过率没有影响,磁流体参量依赖的偏振光透过率在低磁场区域和高磁场区域有明显区别.提出了磁流体纵场诱导偏振光透过率在几类光子器件中的可能应用.

高透过率红外窗口保护薄膜的研制

在Si、Ge红外窗口上利用离子辅助电子束蒸发技术和RF-PECVD技术制备了具有高透过率的AR/DLC保护薄膜,并与单层DLC保护薄膜的光学性能进行了对比。所制备的高透过率保护薄膜达到如下性能:在3～5μm波段,Si基底上一面镀高效红外增透膜一面镀AR/DLC增强型保护薄膜的平均透过率达到约96%,较之镀DLC膜平均透过率提高了约4%。在8～12μm波段,Ge基底上一面镀高效红外增透膜一面镀AR/DLC增强型保护薄膜的平均透过率达到约95%,较之镀DLC膜平均透过率提高了约5%。有关薄膜样品都通过了相应的环境试验。

金刚石薄膜光学透过性能的研究

研究了金刚石薄膜的厚度、表面粗糙度及其成分对金刚石薄膜光学透过率的影响,采用AFM观察金刚石膜的表面形貌并测试其表面粗糙度Ra值;用XPS仪测试了金刚石膜成分;用UV-365分光光度仪测试了光学透过率.结果表明:表面粗糙度是影响金刚石薄膜光学透过率的重要因素,其降低一倍,光学透过率增加两倍多.要提高金刚石薄膜的光学透过率,应大力降低表面粗糙度.

N位取代聚苯并咪唑酰亚胺薄膜: 改善的溶解性与透过率

试验合成了两种新型的N-苯基取代苯并咪唑二胺,区别在于N-苯基的邻位分别由甲基和氟原子取代。将新型二胺分别与二酐4,4′-(六氟异丙烯)二酞酸酐(6FDA)和4,4′-氧双邻苯二甲酸酐(ODPA)通过两步热亚胺法制备聚苯并咪唑酰亚胺(PBII)薄膜,并对新型二胺单体及PBII薄膜进行了性能测试与表征。结果表明:新型PBII薄膜表现出良好的耐热性(玻璃化转变温度T_(g)=341~381℃)和拉伸强度(σ=95~135 MPa)。不同邻位取代的N-苯基破坏了分子的有效堆积,使得PBII薄膜的溶解性和光学透明性得到改善。

掺钨VO_(2)纳米粉双相界面自组装成膜及微结构的光学性质

VO_(2)的相变温度68℃限制了其在室温环境中的应用和安全性,采用W^(6+)离子掺杂的方法可有效降低VO_(2)相变温度。利用涂有真空硅脂的聚苯乙烯模具和添加表面活性剂的W_(x)V_(1-x)O_(2)纳米溶液,在玻璃基底上通过双相界面自组装方法将水热法合成的W_(x)V_(1-x)O_(2)纳米粉末制备成薄膜,在此基础上加装直径1μm的聚乙烯线制备W_(x)V_(1-x)O_(2)/glass微结构。直接观察到液/固双相界面上毛细管流的运动过程,以及微结构两侧对称出现半月形的现象。液-固-气系统复杂的动态变化的过程,遵循流体动力学和热力学的规律。X射线衍射表征结果表明,自组装W_(x)V_(1-x)O_(2)薄膜为多晶结构,主要成分为M相VO_(2)和少量钒的其他价态氧化物及少量钨钒的氧化物(WVO_4);近红外透过率测试显示W_(x)V_(1-x)O_(2)/glass薄膜随温度变化规律与理论模拟计算的趋势吻合;其温度-透过率曲线“突变”特性优于旋涂法制备的薄膜;可见光的微结构衍射图样类似光栅衍射图样,表明此种薄膜和微结构制备方法可行。研究结果可应用于防护涂层制备和微结构光学调控领域。

无支撑、光学级MPCVD金刚石膜的研制

利用引进的6 kW微波等离子体化学气相沉积设备,进行了无支撑金刚石膜工艺的初步研究。在800~1050℃的基片温度范围内,金刚石膜都呈（111）择优取向;基片相对位置对沉积较大面积、光学级金刚石膜至关重要。制出0.25 mm厚Φ50 mm的无支撑金刚石膜。拉曼光谱和X射线衍射分析表明,合成的金刚石膜晶体结构完整,sp2含量极低;透过率测试结果说明了优良的光学性能：截止波长225 nm,光学透过率（λ≥2.5μm）≥70%。

不同离子束参数诱导单晶硅纳米微结构与光学性能

使用微波回旋共振离子源，研究了低能Ar＋离子束正入射时不同离子柬能量和束流密度对单晶硅（100）表面的刻蚀效果及光学性能。结果表明，当离子柬能量为1000eV，束流密度为88-310μA／cm2时，样品表面出现自组装纳米点状结构，且随着离子柬流密度增加排列紧密而有序；粗糙度呈现先减小后迅速增大的趋势，在160~A／cm2附近达到极小值；刻蚀后，近红外波段内平均透过率由53％提高到57％以上，且随着纳米自组装结构有序性的提高而增大。当束流密度为270μA／cm2，能量为500～l500eV时。样品表面出现纳米点状结构，且随着离子束能量的增加趋于密集有序；粗糙度呈现先缓慢增加，在l100ev附近达到极大值，之后粗糙度迅速下降；刻蚀后样品透过率明显提高，且平均透过率随着点状结构有序性的提高而增大；刻蚀速率与离子束能量的平方成正比。自组织纳米结构的转变是溅射粗糙化和表面驰豫机制相互作用的结果。

Bi_(3.45)Eu_(0.55)Ti_3O_(12)铁电薄膜的光学性能

采用化学溶液沉积法在石英衬底上制备了Bi3.45Eu0.55Ti3O12(BEuT)铁电薄膜,研究了BEuT薄膜的结构和光学性能。XRD测试结果表明,BEuT薄膜皆形成铋层状钙钛矿型结构,其晶粒尺寸随着退火温度的提高而增加。薄膜的光学透过率曲线显示,在大于500nm的波段BEuT的透过率比较高,而其禁带宽度大约为3.61eV。BEuT薄膜的发光强度随着退火温度的提高,先是增强后减弱,在700℃时达到最大。这与薄膜的结晶状况有关。

低能斜入射离子束诱导单晶硅纳米结构与光学性能研究

为了研究低能Ar＋离子束在不同入射角度下对单晶硅表面的刻蚀效果及光学性能,使用微波回旋共振离子源,对单晶Si（100）表面进行刻蚀,采用原子力显微镜、非接触式表面测量仪和傅里叶变换红外光谱仪对刻蚀后硅片的表面形貌、粗糙度和光学透过率进行了测量。实验结果表明：当离子束能量为1000 eV、束流密度为265μA.cm-2、刻蚀时间为30 min时,离子束入射角度从0°增加到30°,样品表面出现条纹状结构。入射角度在0°~15°,随着角度增加,样品表面粗糙度增加,条纹周期减小,光学透过率提高;而在15°~30°范围内,随着角度增加,粗糙度开始减小,条纹周期增大,同时光学透过率降低。继续增加入射角度,条纹状结构逐渐消失,入射角度到45°时,粗糙度和光学透过率达到最小值;增加入射角度到55°,样品表面出现自组织点状结构,表面粗糙度急剧增大,光学透过率随着角度增加开始增加;继续增加离子束入射角度到80°,表面粗糙度和光学透过率继续增加,样品表面呈现出均匀有序的自组织柱状结构;此后,随着入射角度的增加,表面粗糙度又开始减小,光学透过率降低。自组织条纹结构到柱状结构的转变是溅射粗糙化和表面驰豫机制相互作用的结果。

多层薄膜气敏光学特性

本文介绍了用S—G法制备了ZnO/TiO_2多层薄膜的方法,并研究了其在几种还原性气体中的气敏透射光谱,发现其对氨气具有优良的选择性,且其光学透过率在一定浓度范围内随氨蒸汽浓度增加而显著地单调上升,敏感波段扩展到整个可见光区域。这是一种有实用价值的气敏光纤传感材料。本文亦讨论了该多层薄膜的气敏光学机理和高选择性的机理。

Bi_(3.6)Eu_(0.4)Ti_3O_(12)/ZnO多层复合铁电薄膜的结构及光学性能

采用化学溶液沉积法在ITO导电玻璃衬底上制备Bi3.6Eu0.4Ti3O12/ZnO多层复合铁电薄膜,研究了BEuT/ZnO复合薄膜的结构和光学性能。XRD结果表明,不同复合方式获得的BEuT/ZnO薄膜皆形成铋层状钙钛矿多晶结构,ZnO的掺入使钙钛矿相BEuT的晶化程度增强,晶粒增大。光学透过率曲线显示,在大于500nm的波段,各BEuT/ZnO薄膜透过率均比较高。BEuT/ZnO复合薄膜发光性能要优于纯BEuT薄膜,这可归因于ZnO具有强烈的紫外吸收性能及ZnO和Eu3+之间存在有效能量传递。

CVDZnS热等静压(HIP)前后光学性能和显微结构的研究

采用红外、紫外光谱仪对热等静压（HIP）处理前后CVDZnS的光学透过率进行了测量,采用分析电子显微镜、金相显微镜和X射线衍射对原生CVDZnS和经热等静压（HIP）处理的CVDZnS的显微组织和晶体结构进行了分析.根据热等静压（HIP）处理前后CVDZnS光学透过率和材料内部显微结构的不同分析了热等静压过程造成CVDZnS光学性能提高的原因.研究表明:热等静压过程使得CVDZnS的晶粒尺寸有了很大提高,并且消除了原生CVDZnS在生长过程中形成的晶体缺陷,从而减小了原生CVDZnS中由于晶格缺陷和晶粒边界造成的散射损失,使得CVDZnS的光学透过率,尤其是在可见光及近红外波段,有了较大的提高.

钛酸锶钡薄膜的室温光学性能研究

采用溶胶-凝胶法制备了(Ba0.75Sr0.25)TiO3薄膜,研究了不同退火温度下样品的物相结构、薄膜的光致发光性能和光学透过率。结果表明:室温下非晶钛酸锶钡薄膜在蓝光激发下具有明显的发光现象,发光波长范围是500～650 nm,峰值在525 nm附近。延长非晶态薄膜的退火时间能够显著提高样品的发光强度,且发光强度随薄膜厚度增加而增大。晶态薄膜有微弱的发光现象。透射谱测试结果表明,钛酸锶钡薄膜在可见光范围内具有良好的光学透过率。

通孔氧化铝模板的制备和光学特性

采用阳极氧化法，制备了二维有序纳米通孔氧化铝模板。研究了工艺参数对通孔有序性、孔径、模板厚度等的影响，测量了通孔氧化铝模板的光透过、光吸收和光发射等光学特性。结果表明，在波长360nm附近通孔氧化铝模板的光透过谱线和光吸收谱线发生突变，波长大于360nm时，光透过增强；波长小于360nm时，光吸收增强。通孔氧化铝模板的光致发光强度和峰位与激发光波长有关，光致发光谱范围在340-600nm。

有机物掺杂下KDP晶体的光学与热学性质研究

本文以L-酒石酸、L-苯丙氨酸和L-丝氨酸为掺杂有机物,采用“点籽晶法”生长出掺杂浓度均为1mol%的KDP晶体,并利用XRD、光学透过率、热分析以及红外谱图等手段对掺杂后的KDP晶体进行表征,考察有机物掺杂对KDP晶体光学和热学性质的影响。实验发现,掺杂L-丝氨酸的KDP晶体,晶体的熔点温度有所降低;掺杂L-酒石酸时,晶体光学性质得到改善,熔点温度升高;而掺杂L-苯丙氨酸时,结晶质量提高,光学性质得到改善。

多孔氧化铝薄膜的制备和光学特性研究

采用阳极氧化法制备了二维有序纳米孔氧化铝膜.研究了工艺参数对多孔薄膜有序性、孔径、膜厚度等的影响,测量了多孔氧化铝有序膜的光透过、光吸收和光发射等光学特性.结果表明,在波长360nm附近多孔氧化铝有序膜的光透过谱线和光吸收谱线发生突变,波长大于360nm时,光透过增强;波长小于360nm时,光吸收增强.多孔氧化铝有序膜的光致发光强度和峰位与激发光波长有关,光致发光谱范围在340～600nm.

纳米4H-SiC薄膜的光学性质研究

SiC薄膜具有结构不易控制 ,透明性较差的特点 .采用PECVD方法淀积的纳米SiC薄膜经光学透过率测试表明 ,在 6 37nm和 795nm处有高的光透过率 .并且当薄膜的厚度增大时 ,仍然具有高透过率的特性 .这一结果表明 ,PECVD技术具有制备结构均匀、透明的纳米SiC薄膜的优势 .同时 。

YAG光学功能陶瓷材料

对日本研制的ＹＡＧ光学功能陶瓷的制备工、性能作了较详细的介绍。与过去的ＹＡＧ单晶陶瓷作了对比，并对其发展及应用前景进行了分析。

光学薄膜参数、测试及设备

O484.5 94042904极化聚合物薄膜中二阶非线性系数的测定和稳定性研究=Evaluation of the second harmonic coefficientand stability investigation in poledpolymer films[刊,中]/沈玉全,傅兴发,邱玲,沈继峰(中科院感光化学所),王文澄(复旦大学物理所)∥光学学报.—1994,14(1).

OTS光学透射光谱仪

为了准确地、重复实时地测量光学镜头及其它光学元件的透过率，海洋光学美国研发中心发明了光学透射光谱仪（OTS）。这个简洁的装置可以测量眼科透镜、光学涂层、玻璃及滤镜的颜色、光学透过率和UV截止性，同时还能反映对光反应变色的、电致变色的太阳透镜材料。