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4H-SiC(0001)硅面原子级平整抛光方法 被引量:5
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作者 高飞 徐永宽 +2 位作者 程红娟 洪颖 张淑娟 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2014年第9期610-614,共5页
以4H-SiC(0001)面Si面为加工对象,提出了一种可以快速获得平整、无损伤表面的化学机械抛光方法。先在复合铜、锡盘上对2英寸(1英寸=2.54 cm)的SiC晶片进行机械抛光,去除研磨造成的损伤层和划痕,最后用特殊的抛光液进行化学机械抛光。用... 以4H-SiC(0001)面Si面为加工对象,提出了一种可以快速获得平整、无损伤表面的化学机械抛光方法。先在复合铜、锡盘上对2英寸(1英寸=2.54 cm)的SiC晶片进行机械抛光,去除研磨造成的损伤层和划痕,最后用特殊的抛光液进行化学机械抛光。用微分干涉显微镜和原子力显微镜观察晶片表面形貌的变化,观察结果显示,经3 h抛光后晶片的表面粗糙度状况得到了明显的改善,表面没有观察到划痕,表面粗糙度值达到了0.1 nm以下,并且出现规则排列的原子台阶构型,达到了原子级平整。实验研究了抛光液组成对抛光效果的影响,在最优的条件下,化学机械抛光的去除速率约为387 nm/h。 展开更多
关键词 碳化硅(SiC) 化学机械抛光(CMP) 表面粗糙度 原子台阶构型 原子级平整
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原子级平整硅基底的制备 被引量:1
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作者 吴育飞 胡瑞省 《河北师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2002年第4期387-389,405,共4页
采用 RCA方法与 Piranha溶液处理相结合 ,对单晶硅表面超声腐蚀处理 ,接触角、原子力显微镜(AFM)表征结果显示获得了平整高羟基密度的氧化物表面 .采用水相硅烷化 ,将 3 -氨基丙基 -三甲氧基硅烷(APS)组装在湿化学法处理的单晶硅表面上 ... 采用 RCA方法与 Piranha溶液处理相结合 ,对单晶硅表面超声腐蚀处理 ,接触角、原子力显微镜(AFM)表征结果显示获得了平整高羟基密度的氧化物表面 .采用水相硅烷化 ,将 3 -氨基丙基 -三甲氧基硅烷(APS)组装在湿化学法处理的单晶硅表面上 ,AFM和 X-射线光电子能谱 (XPS) 展开更多
关键词 硅基底 制备 自组装性能 原子级平整表面 RCA方法 Piranha溶液处理 半导体材料
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用于自组装膜研究的原子级平整金基底的制备
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作者 胡瑞省 张元静 《石家庄师范专科学校学报》 2003年第6期21-22,26,共3页
报导了一种用于自组装膜研究的原子级平整金基底的制备方法。采用这种方法,得到金以(111)取 向的原子级平整基底,同时使用扫描探针显微镜(SPM)考察了该种金基底的自组装性能。
关键词 有机分子自组装膜 原子级平整金基底 制备方法 扫描探针显微镜 SPM
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计算机硬盘基片的化学机械清洗技术研究 被引量:1
4
作者 雷红 司马能 +3 位作者 袁国兴 屠锡富 布乃敬 藏松涛 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第8期757-760,共4页
目前,CMP技术对计算机硬盘基片(盘片)进行抛光,盘片表面粗糙度达到原子级平整,抛光后表面的清洗质量直接关系到CMP最终技术水平的高低。采用静态浸泡实验以及浸泡、擦洗、超声清洗实验,结合一系列的表面微观分析,研究了盘片CMP后清洗过... 目前,CMP技术对计算机硬盘基片(盘片)进行抛光,盘片表面粗糙度达到原子级平整,抛光后表面的清洗质量直接关系到CMP最终技术水平的高低。采用静态浸泡实验以及浸泡、擦洗、超声清洗实验,结合一系列的表面微观分析,研究了盘片CMP后清洗过程中的化学作用、机械作用以及清洗剂、清洗方式等物理化学要素对CMP后清洗效果的影响。结果表明,CMP后清洗是一种机械作用、化学作用等综合作用的过程。采用优化的清洗工艺及清洗剂,得到了低腐蚀、高洁净、平整的硬盘基片表面。 展开更多
关键词 化学机械抛光 化学机械清洗 硬盘基片 原子级平整 腐蚀
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Growth of 2D MoP single crystals on liquid metals by chemical vapor deposition
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作者 Feifei Cao Shuting Zheng +7 位作者 Jingjing Liang Zhi Li Bin Wei Yiran Ding Zhongchang Wang Mengqi Zeng Nan Xu Lei Fu 《Science China Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第5期1182-1188,共7页
Two-dimensional(2 D) transition metal phosphides(TMPs) are predicted with many novel properties and various applications. As a member of TMPs family, molybdenum phosphide(MoP) exhibits many exotic physicochemical prop... Two-dimensional(2 D) transition metal phosphides(TMPs) are predicted with many novel properties and various applications. As a member of TMPs family, molybdenum phosphide(MoP) exhibits many exotic physicochemical properties. However, the synthesis of high-quality2 D MoP single crystals is not reported due to the lack of reliable fabrication method, which limits the exploration of 2 D MoP. Here, we report the growth of high-quality ultrathin MoP single crystals with thickness down to 10 nm on liquid metals via chemical vapor deposition(CVD). The smooth surface of liquid Ga is regarded as a suitable growth substrate for producing 2 D MoP single crystals. The Mo source diffuses toward the Ga surface due to the high surface energy to react with phosphorus source, thus to fabricate ultrathin MoP single crystals. Then, we study the second harmonic generation(SHG) of 2 D MoP for the first time due to its intrinsic noncentrosymmetric structure. Our study provides an new approach to synthesize and explore other 2 D TMPs for future applications. 展开更多
关键词 2D materials transition metal phosphides molybdenum phosphides liquid metals chemical vapor deposition
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