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杂质硅对锌酸钠溶液结晶过程的影响机理研究
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作者 刘鹏飞 游韶玮 +4 位作者 张亦飞 汤建伟 王保明 刘咏 化全县 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第8期36-42,共7页
研究了杂质硅对锌酸钠溶液结晶过程的影响规律,通过结晶物相和热力学研究了杂质硅对锌酸钠溶液结构的影响.通过分析锌酸钠溶液的分解行为,考察了杂质硅浓度、晶种和温度等参数对锌酸钠溶液结晶过程的影响规律.结果表明,存在一个临界硅浓... 研究了杂质硅对锌酸钠溶液结晶过程的影响规律,通过结晶物相和热力学研究了杂质硅对锌酸钠溶液结构的影响.通过分析锌酸钠溶液的分解行为,考察了杂质硅浓度、晶种和温度等参数对锌酸钠溶液结晶过程的影响规律.结果表明,存在一个临界硅浓度,当硅浓度高于临界硅浓度时,杂质硅抑制结晶过程的进行;当硅浓度低于临界硅浓度时,杂质硅促进结晶过程的进行.以氧化锌作为晶种时,35,50和60℃时临界硅浓度分别为0.20~0.40,0.054~0.20和0~0.054 g/L.以氢氧化锌作为晶种时,35℃时临界硅浓度为0.20~0.40 g/L.临界硅浓度随温度的升高而降低.硅浓度低时,物相为多面体形的ε-Zn(OH)_(2);硅浓度高时,物相为纳米棒和长方体形的γ-Zn(OH)_(2),提高温度可以抑制γ-Zn(OH)_(2)的生成.硅杂质的存在可能促使锌酸钠溶液的结构发生了重构,使锌酸钠溶液中锌元素以Zn(OH)+的形式存在,升高温度则可减弱杂质硅的影响. 展开更多
关键词 杂质硅 锌酸钠溶液 结晶 氧化锌 氢氧化锌
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基于第一性原理研究杂质补偿对硅光电性能的影响
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作者 王秀宇 王涛 +2 位作者 崔雨昂 吴溪广润 王洋 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第11期263-272,共10页
通过磷(P)和硼(B)共掺杂在硅禁带中构建了P^(+)/B^(-)局域态能级,形成了具有杂质补偿结构的硅.采用基于密度泛函理论框架下的第一性原理研究了杂质补偿硅(n/p-Sic)的电子态密度、介电函数和折射率等光电性能.态密度研究表明,相同浓度P和... 通过磷(P)和硼(B)共掺杂在硅禁带中构建了P^(+)/B^(-)局域态能级,形成了具有杂质补偿结构的硅.采用基于密度泛函理论框架下的第一性原理研究了杂质补偿硅(n/p-Sic)的电子态密度、介电函数和折射率等光电性能.态密度研究表明,相同浓度P和B掺杂(12.5%)的n-Si和p-Si被完全杂质补偿后,费米能级位于两相邻态密度峰构成的谷底,且态密度不为零.在介电函数和折射率研究中,发现n-Sic在掺杂比例C_(B)/C_(P0)=0.25时,在低能区具有最大的介电函数和最大折射率.此外,对比本征硅及其掺杂物的介电常数实部(Re),发现如下规律:在E> 4 eV的高能区,本征Si,n/p-Si和p-Sic的Re为负值;而在0.64 <E <1.50 eV的低能区,n-Sic在掺杂比例C_(B)/C_(P0)=0.25时的Re为负值;这表明在此掺杂比例下n-Sic能在更低的能量下就能获得较好的金属性,从而揭示了其价带电子更易被低能量的长波长光激发.理论研究表明,n-Sic在掺杂比例C_(B)/C_(P0)=0.25时具有较好的光电性能,可能与n-Si被B杂质补偿后部分Si—Si键变成Si—B键的同时产生的Si悬挂键以及在Si禁带中形成的局域态能级有关. 展开更多
关键词 第一性原理 态密度 杂质补偿 光学性质
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含硅杂质对铝酸钠溶液分解过程的影响及相互作用机理 被引量:3
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作者 吴争平 尹周澜 +1 位作者 陈启元 梁成 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第12期2275-2283,共9页
研究了二氧化硅对铝酸钠溶液分解过程的分解率、产品粒度及形貌的影响。根据实验结果用基于密度泛函的Dmol3程序计算SiO32-以各种不同方式位于氢氧化铝(001)和(100)面时的总能量和电子结构等,用晶体生长习性计算程序Morphology分析各体... 研究了二氧化硅对铝酸钠溶液分解过程的分解率、产品粒度及形貌的影响。根据实验结果用基于密度泛函的Dmol3程序计算SiO32-以各种不同方式位于氢氧化铝(001)和(100)面时的总能量和电子结构等,用晶体生长习性计算程序Morphology分析各体系的平衡形态及生长习性。实验结果表明:在一定的分解时间范围内,硅能抑制铝酸钠溶液种分分解,对分解产物氢氧化铝的晶体形貌有影响,其(100)面的显露有所增加。理论计算结果表明:SiO32-的存在明显改变氢氧化铝(001)和(100)表面的电子结构,SiO32-在氢氧化铝(001)和(100)表面上时,靠近(001)面的O原子多的体系稳定性低。平衡形态及生长习性计算结果表明:SiO32-在氢氧化铝(001)表面上时,各体系长大晶粒的体积均小于无SiO32-体系中(001)的晶粒体积;而SiO32-在氢氧化铝(100)表面上时,各体系长大晶粒的体积比均大于SiO32-体系中(100)的晶粒体积。 展开更多
关键词 铝酸钠溶液 杂质 微观机制 结晶习性
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硅基BIB红外探测器研究进展 被引量:2
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作者 马兴招 唐利斌 +3 位作者 张玉平 左文彬 王善力 姬荣斌 《红外技术》 CSCD 北大核心 2023年第1期1-14,共14页
以锗基和硅基为主的阻挡杂质带(blocked impurity band,BIB)红外探测器的兴起有力推进了红外天文学的快速发展,其中硅基BIB红外探测器在特定波长的航天航空领域有着不可替代的地位。国外对硅基BIB红外探测器的研究已有40多年,以美国航... 以锗基和硅基为主的阻挡杂质带(blocked impurity band,BIB)红外探测器的兴起有力推进了红外天文学的快速发展,其中硅基BIB红外探测器在特定波长的航天航空领域有着不可替代的地位。国外对硅基BIB红外探测器的研究已有40多年,以美国航空航天局(NASA)为主的科研机构已经实现了硅基BIB红外探测器在天文领域的诸多应用,而国内对硅基BIB红外探测器的研究尚处于起步阶段。本文首先阐述了硅基BIB红外探测器的工作原理,然后简单概述了器件结构和制备工艺,并对不同类型的硅基BIB探测器的性能进行了对比分析,之后介绍了其在天文探测中的应用,最后对硅基BIB红外探测器未来的发展进行了展望。 展开更多
关键词 基阻挡杂质 红外探测器 天文探测
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改进钼酸铵中和结晶工艺降低钼酸铵中的铁硅杂质 被引量:1
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作者 杨克征 常留青 +1 位作者 陈君怀 秦文波 《中国钼业》 1995年第1期23-24,共2页
对钼酸铵中和结晶的工艺改进后,有效地降低了铁、硅等杂质的含量,增强了流动性,提高了MSA回收率,经济效益显著。
关键词 中和结晶 钼酸铵 杂质 工艺 钼粉
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硅青铜中杂质元素的光电直读分析 被引量:2
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作者 刘艳 《甘肃冶金》 2012年第2期105-107,共3页
利用DV-4光电直读光谱仪分析检测快速、准确、仪器稳定的特点,建立分析程序,绘制工作曲线,使硅青铜中杂质元素的快速分析,结果稳定,应用于日常的分析检测。
关键词 光电直读光谱仪 青铜中杂质元素 快速分析
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Effect of inorganic salt impurities on seeded precipitation of silica hydrate from sodium silicate solution
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作者 Xiao-bin LI Xiao-bing GAO +5 位作者 Qiu-sheng ZHOU Yi-lin WANG Tian-gui QI Lei-ting SHEN Gui-hua LIU Zhi-hong PENG 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第9期3016-3028,共13页
To clarify the precipitation of silica hydrate from the real desilication solutions of aluminosilicate solid wastes by adding seeds and improve integrated waste utilization,the seeded precipitation was studied using s... To clarify the precipitation of silica hydrate from the real desilication solutions of aluminosilicate solid wastes by adding seeds and improve integrated waste utilization,the seeded precipitation was studied using synthesized sodium silicate solution containing different inorganic salt impurities.The results show that sodium chloride,sodium sulfate,sodium carbonate,or calcium chloride can change the siloxy group structure.The number of high-polymeric siloxy groups decreases with increasing sodium chloride or sodium sulfate concentration,which is detrimental to seeded precipitation.Calcium chloride favors the polymerization of silicate ions,and even the chain groups precipitate with the precipitation of high-polymeric sheet and cage-like siloxy groups.The introduced sodium cations in sodium carbonate render a more open network structure of high-polymeric siloxy groups,although the carbonate ions favor the polymerization of siloxy groups.No matter how the four impurities affect the siloxy group structure,the precipitates are always amorphous opal-A silica hydrate. 展开更多
关键词 ALUMINOSILICATE sodium silicate solution siloxy group IMPURITY silica hydrate
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扩展电阻分析对砷在硅中本征扩散系数的研究
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作者 卢志恒 罗晏 王大椿 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第6期441-448,共8页
本文扼要叙述了扩展电阻分析用以测量较低浓度砷的剖面的有效性,进而研究了较低浓度砷在硅中的扩散问题.由于通过快速热退火对样品进行预处理,排除了辐照损伤对扩散系数测定的影响,从而测得砷在硅中本来意义下,即替位扩散意义下的本征... 本文扼要叙述了扩展电阻分析用以测量较低浓度砷的剖面的有效性,进而研究了较低浓度砷在硅中的扩散问题.由于通过快速热退火对样品进行预处理,排除了辐照损伤对扩散系数测定的影响,从而测得砷在硅中本来意义下,即替位扩散意义下的本征扩散系数.如所预期,这组数据比国外直至目前所测得的数据要低.浓度剖面的实验数据由非线性扩散方程的数值解进行拟合.结果表明:SUPREM III所采用的模型在较高浓度区扩散系数随浓度递增速率较小,Hu理论仍然和本实验(?)较符合.本文还求得了扣除辐照损伤增强扩散效应后,砷在硅中的激活能为4. 展开更多
关键词 扩散 杂质 扩展电阻
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国外某镜铁矿提纯试验研究
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作者 梁磊 钱有军 +1 位作者 汪军 胡斐 《现代矿业》 CAS 2023年第11期157-160,共4页
国外某高品位镜铁矿全铁品位达68%以上,主要杂质元素为硅、铝,为了获得铁氧体用高品质超纯铁精矿,针对该铁矿中杂质元素难以去除的问题,分别进行了浮选、碱浸和酸浸方法除杂研究。研究结果表明:在磨矿细度为-0.025 mm81.41%时,浮选可获... 国外某高品位镜铁矿全铁品位达68%以上,主要杂质元素为硅、铝,为了获得铁氧体用高品质超纯铁精矿,针对该铁矿中杂质元素难以去除的问题,分别进行了浮选、碱浸和酸浸方法除杂研究。研究结果表明:在磨矿细度为-0.025 mm81.41%时,浮选可获得全铁品位68.54%、SiO_(2)含量1.01%、Al_(2)O_(3)含量0.41%的铁精矿,硅、铝去除率分别达61.05%和76.05%;在碱浸细度-0.003mm50%、NaOH用量1000 kg/t、浸出时间12 h时,浸出产品中的SiO_(2)含量0.467%、去除率72.32%,Al_(2)O_(3)含量0.213%、去除率达80.88%;在酸浸细度-0.025 mm81.41%、氢氟酸用量370 kg/t、浸出时间6h时,浸出所得产品中硅、铝含量分别达0.276%和0.182%,相应去除率为85.57%和85.58%;对比可知,该镜铁矿利用酸浸的除杂效果最好,可显著降低物料中的杂质含量。 展开更多
关键词 镜铁矿 碱浸 酸浸 杂质
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应对焦化石脑油加氢装置长周期运行的催化剂策略研究
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作者 陈光 徐大海 +1 位作者 丁贺 范思强 《炼油技术与工程》 CAS 2023年第9期42-45,共4页
目前焦化石脑油加氢装置要实现长周期稳定运行,需要重点解决两大问题:焦化石脑油的二烯烃含量高,在较高的反应温度下易缩合生焦,导致反应器压力降上升;前序加工阶段使用的含硅添加剂会造成二氧化硅在催化剂表面沉积,导致催化剂失活快、... 目前焦化石脑油加氢装置要实现长周期稳定运行,需要重点解决两大问题:焦化石脑油的二烯烃含量高,在较高的反应温度下易缩合生焦,导致反应器压力降上升;前序加工阶段使用的含硅添加剂会造成二氧化硅在催化剂表面沉积,导致催化剂失活快、运行周期短。针对上述问题提出了解决方案:对焦化石脑油加氢工艺流程进行了改进,增设了低温脱二烯烃保护反应器;配套开发了容硅能力强的加氢捕硅剂及高活性加氢精制催化剂。应用结果表明:焦化石脑油加氢装置的运行周期大幅延长,为装置的长周期运行提供了技术保障。 展开更多
关键词 焦化石脑油 加氢装置 加氢捕 低温保护反应器 高活性加氢精制催化剂 杂质沉积量
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四川某胶磷矿石反—正浮选选磷试验 被引量:9
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作者 洪微 张凌燕 +2 位作者 宋昱晗 邱杨率 王琪 《金属矿山》 CAS 北大核心 2013年第3期96-99,共4页
四川某胶磷矿石镁、硅含量较高,磷矿物嵌布粒度较粗。采用反浮选—正浮选流程对该矿石进行了工艺技术条件研究,结果表明,矿石磨至-0.074mm占77%后,在弱酸性环境下以YC为捕收剂1次反浮选脱镁,弱碱性环境下以水玻璃和JXL-2组合为硅抑制剂... 四川某胶磷矿石镁、硅含量较高,磷矿物嵌布粒度较粗。采用反浮选—正浮选流程对该矿石进行了工艺技术条件研究,结果表明,矿石磨至-0.074mm占77%后,在弱酸性环境下以YC为捕收剂1次反浮选脱镁,弱碱性环境下以水玻璃和JXL-2组合为硅抑制剂、JXL-1为磷矿物捕收剂,1粗1扫正浮胶磷矿,最终可获得P2O5品位为36.10%、回收率为84.94%的磷精矿,精矿SiO2、MgO含量分别比原矿下降了4.13、4.52个百分点。 展开更多
关键词 胶磷矿 杂质 反浮选 正浮选
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Thermodynamic behavior and morphology of impurities in metallurgical grade silicon in process of O_2 blowing 被引量:7
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作者 伍继君 马文会 +3 位作者 李彦龙 杨斌 刘大春 戴永年 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第1期260-265,共6页
Gas blowing is a valid method to remove the impurities from metallurgical grade silicon(MG-Si) melt.The thermodynamic behavior of impurities Fe,Al,Ca,Ti,Cu,C,B and P in MG-Si was studied in the process of O2 blowing... Gas blowing is a valid method to remove the impurities from metallurgical grade silicon(MG-Si) melt.The thermodynamic behavior of impurities Fe,Al,Ca,Ti,Cu,C,B and P in MG-Si was studied in the process of O2 blowing.The removal efficiencies of impurities in MG-Si were investigated using O2 blowing in ladle.It is found that the removal efficiencies are higher than 90% for Ca and Al and nearly 50% for B and Ti.The morphology of inclusions was analyzed and the phases Al3Ni,NiSi2 and Al3Ni were confirmed in MG-Si by X-ray diffraction.It was found that SiB4 exists in Si?B binary system.The chemical composition of inclusions in MG-Si before and after refining was analyzed by SEM-EDS.It is found that the amount of white inclusion reduces for the removal of most Al and Ca in the forms of molten slag inclusion and the contents of Fe,Ni and Mn in inclusion increase for their inertia in silicon melt with O2 blowing. 展开更多
关键词 metallurgical grade silicon THERMODYNAMICS O2 blowing IMPURITIES INCLUSION removal efficiency
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Precipitation and gettering behaviors of copper in multicrystalline silicon used for solar cells 被引量:3
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作者 李晓强 杨德仁 +1 位作者 余学功 阙端麟 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第3期691-696,共6页
The precipitation and gettering behaviors of copper (Cu) at different defective regions in multicrystalline silicon were investigated by combining scanning infrared microscopy, optical microscopy, inductively couple... The precipitation and gettering behaviors of copper (Cu) at different defective regions in multicrystalline silicon were investigated by combining scanning infrared microscopy, optical microscopy, inductively coupled plasma mass spectrometry and microwave photo-conductance decay. It is found that the behaviors of Cu precipitation are strongly dependent on the defect density. Most of the Cu contaminants tend to form precipitates homogeneously in the low density defect region, while they mostly segregate at the defects and form precipitates heterogeneously in the high density defect region. In the case of heavy contamination, the Cu precipitate can significantly reduce the carrier lifetime of multicrystalline silicon due to their Schottkydiode behavior in the silicon substrate. A 900 °C rap thermal process (RTP) phosphorus gettering anneal cannot be sufficiently effective to remove the Cu precipitates in these two regions. 展开更多
关键词 multicrystalline silicon Cu precipitate phosphorus gettering DEFECTS carrier lifetime
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Hole mobility of strained Si/(001)Si_(1-x)Ge_x
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作者 WANG XiaoYan ZHANG HeMing +2 位作者 MA JianLi WANG GuanYu QU JiangTao 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2012年第1期48-54,共7页
The hole mobility of strained silicon along the <110> orientation on (001) Si1?xGex is obtained by solving collision term in the Boltzmann transport equation. The analytical model is proposed that considers the ... The hole mobility of strained silicon along the <110> orientation on (001) Si1?xGex is obtained by solving collision term in the Boltzmann transport equation. The analytical model is proposed that considers the effect of strain-induced splitting at valence band valleys in silicon, doping dependence and three scattering mechanisms, i.e., ionized impurity scattering, acoustic phonon scattering and non-polar optical phonon scattering. The hole occupancy at top band indicates a non-monotonic variation under biaxial tensile strain at low temperature (77 K). What's more, a non-monotonic variation of hole mobility at room temperature (300 K) is presented. Compared with the room temperature hole mobility, the low temperature hole mobility is affected greatly by ionized impurity scattering at lower impurity concentration. At the same time, the room temperature hole mobility is lower than that of electron with the same germanium content and doping concentration. If the parameters are correctly chosen, the model can also be used to calculate the hole mobility of other crystal faces with arbitrary orientation. So, it lays a useful foundation for strained silicon devices and circuits. 展开更多
关键词 subband hole occupancy scattering model germanium content hole mobility
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