1
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磁控反应溅射SiN_x薄膜的研究 |
朱勇
沈伟东
叶辉
顾培夫
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《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2005 |
15
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2
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沉积时间对磁控反应溅射制备TiO_2薄膜性能的影响 |
张文杰
朱圣龙
李瑛
王福会
何红波
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《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2008 |
7
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3
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直流磁控反应溅射制备硅基AlN薄膜 |
于毅
赵宏锦
高占友
任天令
刘理天
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《压电与声光》
CSCD
北大核心
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2005 |
10
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4
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磁控反应溅射TaN薄膜的结构和性能 |
许俊华
李戈扬
顾明元
金燕萍
辛挺辉
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《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2000 |
7
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5
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磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究 |
张文杰
朱圣龙
李瑛
王福会
何红波
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《电镀与精饰》
CAS
北大核心
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2009 |
4
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6
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射频磁控反应溅射制备HfO_2薄膜的工艺及电性能 |
鹿芹芹
刘正堂
刘文婷
张淼
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《西北工业大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2008 |
4
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7
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Mo电极上磁控反应溅射AlN薄膜 |
熊娟
顾豪爽
胡宽
吴小鹏
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《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2009 |
4
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8
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直流磁控反应溅射制备ZAO薄膜工艺参数的研究 |
陆峰
徐成海
裴志亮
闻立时
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《真空》
CAS
北大核心
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2002 |
5
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9
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磁控反应溅射AlN薄膜光学性能研究 |
朱春燕
朱昌
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《表面技术》
EI
CAS
CSCD
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2008 |
14
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10
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磁控反应溅射不锈钢表面制备纳米TiO_2薄膜及光催化活性研究 |
张宗权
袁胜利
杨宗立
季淑莉
张建民
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《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2004 |
2
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11
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工艺参数对磁控反应溅射AlN薄膜沉积速率的影响 |
乔保卫
刘正堂
李阳平
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《西北工业大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2004 |
30
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12
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中频磁控反应溅射AlN薄膜及微观结构研究 |
陈勇
袁军林
段丽
杨雄
翁卫祥
郭太良
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《真空》
CAS
北大核心
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2010 |
3
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13
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磁控反应溅射Ni-Cr选择性吸收薄膜 |
曹韫真
胡行方
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《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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1999 |
6
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14
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磁控反应溅射制备的SnO_2多晶薄膜及其特性 |
姚菲菲
冯良桓
陈卫东
雷智
张静全
李卫
武莉莉
蔡伟
蔡亚平
郑家贵
黎兵
|
《半导体光电》
CAS
CSCD
北大核心
|
2007 |
2
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15
|
磁控反应溅射制备 Ta-N 薄膜的显微组织与畸变分析 |
曾晓兰
冷永祥
黄楠
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《西南交通大学学报》
EI
CSCD
北大核心
|
1998 |
2
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16
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直流磁控反应溅射制备Al_2O_3薄膜的工艺研究 |
杨和梅
陈云富
徐秀英
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《科学技术与工程》
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2010 |
4
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17
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仿金氮化钛薄膜的磁控反应溅射法研究 |
陈弟虎
林理彬
谢建华
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《中山大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
|
1992 |
1
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18
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射频磁控反应溅射制备Al_2O_3薄膜的工艺研究 |
祁俊路
李合琴
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《真空与低温》
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2006 |
16
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19
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射频磁控反应溅射法制备Y_2O_3薄膜的工艺研究 |
闫锋
刘正堂
谭婷婷
李强
|
《机械科学与技术》
CSCD
北大核心
|
2006 |
1
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20
|
直流磁控反应溅射法制备TiO_2薄膜及氧敏特性分析 |
张毅
孙以材
潘国峰
|
《传感技术学报》
CAS
CSCD
北大核心
|
2005 |
1
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