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X切LiNbO_3脊形结构集成电光M-Z型调制器 被引量:7
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作者 陈福深 李其聪 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期209-212,共4页
采用X切LiNbO3 基片 ,设计并研制了脊形结构集成电光Mach Zehnder(M Z)波导调制器 ,实验研制过程包含关键的LiNbO3 基片湿腐蚀刻槽技术和大厚度电极制作技术。研究结果表明 ,脊形结构调制器与传统的平面结构调制器相比 ,在大幅度提高调... 采用X切LiNbO3 基片 ,设计并研制了脊形结构集成电光Mach Zehnder(M Z)波导调制器 ,实验研制过程包含关键的LiNbO3 基片湿腐蚀刻槽技术和大厚度电极制作技术。研究结果表明 ,脊形结构调制器与传统的平面结构调制器相比 ,在大幅度提高调制带宽方面 。 展开更多
关键词 脊形结构 电光调制器 X切LiNbO3 M-Z型干涉仪
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脊形结构LiNbO_3光波导调制器的扩展点匹配法分析 被引量:3
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作者 钱辰 祝宁华 +1 位作者 潘裕斌 钟宝璇 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期318-322,共5页
将点匹配法扩展应用于脊形结构LiNbO3 光波导调制器电极的准静态分析中。将调制器各区域的势函数表示为该区域中满足Laplace方程的一系列基函数的级数 ,匹配边界上有限个点的边界条件以确定出级数项的系数。通过势函数得到脊形结构LiNb... 将点匹配法扩展应用于脊形结构LiNbO3 光波导调制器电极的准静态分析中。将调制器各区域的势函数表示为该区域中满足Laplace方程的一系列基函数的级数 ,匹配边界上有限个点的边界条件以确定出级数项的系数。通过势函数得到脊形结构LiNbO3 光波导调制器结构中电场分布的解析表达式 ,利用求得的电场可以得到调制器特性阻抗及有效折射率。所得的特性阻抗和有效折射率与采用有限元法得到的结果十分吻合。这一分析方法简便快捷 ,精度高 。 展开更多
关键词 光纤通信 扩展点匹配法 光波导调制器 准静态分析 LINBO3 脊形结构
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GaAs脊形量子线结构的MBE生长机理研究 被引量:4
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作者 牛智川 周增圻 +5 位作者 林耀望 周帆 潘昆 张子莹 祝亚芹 王守武 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第3期227-230,共4页
本文报道了非平面衬底上分子束外延生长GaAs脊形量子线结构的实验研究.已成功地在GaAs(001)刻蚀条形衬底上生长出了由(111)面和(113)面构成的两种脊形量子线结构.本文讨论了非平面衬底上MBE生长脊形结构的... 本文报道了非平面衬底上分子束外延生长GaAs脊形量子线结构的实验研究.已成功地在GaAs(001)刻蚀条形衬底上生长出了由(111)面和(113)面构成的两种脊形量子线结构.本文讨论了非平面衬底上MBE生长脊形结构的形成机制,认为在一定的生长条件下,脊形结构的表面取向是由两个原始交界面上生长速率的相对差异决定的;而生长速率的差异是由表面再构的不同决定的. 展开更多
关键词 砷化镓 量子线结构 MBE生长
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基于电感耦合等离子体刻蚀的LNOI脊形微结构制备
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作者 吴玉航 杨忠华 +4 位作者 孟雪飞 宋泽乾 刘文 罗文博 张万里 《压电与声光》 CAS 北大核心 2023年第2期239-242,共4页
铌酸锂(LiNbO 3,LN)是一种广泛使用的介电材料,由于其电光系数大,透明范围大,本征带宽宽,因而在集成和非线性光学器件中极为重要。但绝缘体上铌酸锂薄膜(LNOI)的化学稳定性好,刻蚀速率慢,其微结构参数难以控制。针对以上问题,该文开展... 铌酸锂(LiNbO 3,LN)是一种广泛使用的介电材料,由于其电光系数大,透明范围大,本征带宽宽,因而在集成和非线性光学器件中极为重要。但绝缘体上铌酸锂薄膜(LNOI)的化学稳定性好,刻蚀速率慢,其微结构参数难以控制。针对以上问题,该文开展了基于电感耦合等离子体刻蚀(ICP-RIE)的LNOI脊形微结构的制备工艺研究,分析了腔室压强、气体总流量及刻蚀功率等参数对刻蚀速率、刻蚀倾角和表面粗糙度(RMS)的影响。研究表明,在优化的工艺条件下,LNOI薄膜的刻蚀速率达到24.9 nm/min,制备出刻蚀深度249 nm、刻蚀倾角76°、表面粗糙度(RMS)0.716 nm的LNOI脊形微结构。该文通过对刻蚀工艺与微观结构参数的研究,建立了基于ICP的LNOI微结构刻蚀方法,为控制LNOI脊形光波导和提升性能提供了工艺支撑。 展开更多
关键词 绝缘体上铌酸锂薄膜(LNOI) 集成光子学 脊形结构 电感耦合等离子体刻蚀 结构参数
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Material Growth and Device Fabrication of GaN-Based Blue-Violet Laser Diodes 被引量:1
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作者 杨辉 陈良惠 +16 位作者 张书明 种明 朱建军 赵德刚 叶小军 李德尧 刘宗顺 段俐宏 赵伟 王海 史永生 曹青 孙捷 陈俊 刘素英 金瑞琴 梁骏吾 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期414-417,共4页
Studies on first GaN-based blue-violet laser diodes(LDs) in China mainland are reported.High quality GaN materials as well as GaN-based quantum wells laser structures are grown by metal-organic chemical vapor depositi... Studies on first GaN-based blue-violet laser diodes(LDs) in China mainland are reported.High quality GaN materials as well as GaN-based quantum wells laser structures are grown by metal-organic chemical vapor deposition method.The X-ray double-crystal diffraction rocking curve measurements show the full-width half maximum of 180″ and 185″ for (0002) symmetric reflection and (10 12) skew reflection,respectively.A room temperature mobility of 850cm2/(V·s) is obtained for a 3μm thick GaN film.Gain guided and ridge geometry waveguide laser diodes are fabricated with cleaved facet mirrors at room temperature under pulse current injection.The lasing wavelength is 405 9nm.A threshold current density of 5kA/cm2 and an output light power over 100mW are obtained for ridge geometry waveguide laser diodes. 展开更多
关键词 metalorganic chemical vapor deposition GaN-based laser diodes multiple quantum wells ridge geometry structure threshold current density
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半导体激光器
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《中国光学》 EI CAS 2003年第2期23-23,共1页
TN248.4 2003020959980nm半导体激光器远场特性的优化=Optimization offar field properties for 980 nm semiconductor lasers[刊,中]/邹德恕(北京工业大学光电子技术实验室.北京(100022)),廉鹏…//半导体光电.-2002,23(4).-259-261制... TN248.4 2003020959980nm半导体激光器远场特性的优化=Optimization offar field properties for 980 nm semiconductor lasers[刊,中]/邹德恕(北京工业大学光电子技术实验室.北京(100022)),廉鹏…//半导体光电.-2002,23(4).-259-261制作小功率半导体激光器时,为了减小阈值电流,提高斜率效率,一般都采用深腐蚀法形成脊形结构以克服电流横向扩展。但是由于工艺的原因,往往使得激光器远场特性恶化,特别是水平发散角θ_∥形式多瓣。研究发现这与光刻工艺有着重要关系,利用自对准自然解理边形成TiAu欧姆接触方法克服了上述现象。 展开更多
关键词 半导体激光器 单量子阱激光器 远场特性 自对准 模斑转换器 重要关系 光电子技术 欧姆接触 斜率效率 脊形结构
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Effect of Exposing Low-Frequency Electric Fields on the Proliferative Capacity and Morphological Features of Olfactory Ensheathing Cells in vitro
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作者 WANG Meng-hang LI Ping FAN Yu-bo 《Chinese Journal of Biomedical Engineering(English Edition)》 2014年第1期7-11,共5页
Olfactory ensheathing cells(OECs) transplanted into the damaged spinal cord may be considered as a valuable remedy explorations for spinal cord repair. The proliferation of transplanted olfactory ensheathing cells dep... Olfactory ensheathing cells(OECs) transplanted into the damaged spinal cord may be considered as a valuable remedy explorations for spinal cord repair. The proliferation of transplanted olfactory ensheathing cells depends on various environmental factors and effective cues, which may include electrical fields(EFs). In this study, we investigated the proliferative capacity, morphologic alterations of olfactory ensheathing cells derived from neonate rat that occurd when exposed to two EFs of 20 Hz, 50 mV and20 Hz, 100 mV for 6 h. For both EF treatments, the MTT results revealed that the cellular proliferation of exposed group during the last 6 h of the experiment was statistically higher than that of control group. Then, we investigated morphological structure changes in the cells stained by Coomassie brilliant blue. Compared with control group, most of cells were present at intensively proliferating appearance including the microfilaments were long and thick and the accumulated appearance of cells. It is conceivable that electrical fields as a new approach may promote the growth and proliferation of OECs and may be engineered to control the survival of transplanted OECs in injured spinal cord.Although our results have been suggesting that EFs may be non-chemical strategies for cell proliferation, the fundamental mechanisms remain to be elucidated. 展开更多
关键词 olfactory ensheating cells (OECs) electrical fields (EFs) proliferation morphological features
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