具有纳米调制结构的AlTiN/AlCrN复合涂层在干摩擦条件下的摩擦磨损性能研究

目的研究干摩擦条件下不同AlTiN/AlCrN多层膜纳米调制结构对摩擦磨损行为的影响。方法将处理过的合金工具钢和单晶硅片作为膜层生长的基底材料,在膜层制备之前,先对基底材料进行预处理,然后使用多靶磁控溅射纳米膜层系统沉积一系列不同调制周期和调制比的AlTiN/AlCrN纳米多层膜。通过控制涂层总厚度不变,在调制比为1︰1时,设计不同的调制周期,择优选出磨损量最小、耐磨性最好的调制周期,并以此为恒定值,进而设计不同调制比的试样。采用X射线衍射仪(XRD)、摩擦磨损试验机分析与表征纳米多层膜的微观结构和性能,研究调制周期和调制比对AlTiN/AlCrN纳米多层膜微观结构和干摩擦条件下摩擦磨损性能的影响。结果AlTiN/AlCrN纳米多层膜主体均为面心立方结构,且在(111)、(200)和(220)晶面择优取向。调制结构对多层膜的磨损特性影响较大,当调制周期为14.4nm时,在干摩擦条件下AlTiN/AlCrN纳米多层膜的摩擦磨损量最小;在调制周期恒定为14.4 nm情况下,当调制比为3︰1时,在干摩擦条件下AlTiN/AlCrN纳米多层膜的耐磨性能最好;AlTiN/AlCrN纳米多层膜的磨损机理主要以磨粒磨损和黏附磨损为主。结论优化的AlTiN/AlCrN多层膜纳米调制结构技术可应用在切削刀具的表面再制造领域,从而延长刀具工作寿命,通过涂层良好的耐磨性能提升设备的加工效率。

W/SiC纳米多层膜的调制结构及调制界面

采用 XRD和 HREM技术研究了多靶磁控溅射法制备的 W/Si C纳米多层膜的微结构 .结果表明 ,在多层膜中 ,Si C调制层为非晶态 ;W调制层在大调制周期时为纳米晶 ,随调制周期减小逐渐转变为非晶态 .W/Si C纳米多层膜的调制结构界面平直、清晰、周期性好 ,而在原子尺度上 。

一维非公度调制结构安康矿X射线衍射及四维空间指标化研究

采用最新的CCD单晶衍射仪,对一维非公度调制结构矿物安康矿进行了单晶和粉晶X射线衍射研究,利用单晶X射线衍射和三维超结构分析方法测定晶胞参数a=1.014 08(10)nm,b=1.014 08(10)nm,c=0.295 72(6)nm,α=90,°=β90,°γ=90,°调制向量q=0.444c*,据此对单晶衍射数据进行了四维空间的指标化。并用新近研究开发的利用单晶体来进行粉晶衍射的新方法对粉晶衍射实验及粉晶数据的四维空间进行指标化研究。

MgO掺杂阿利特的结构演变及其调制结构表征(英文)

利用X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)对不同MgO掺量的阿利特结构演变进行了研究。结果表明:当MgO掺量为0.5wt%时,T1和M1型共存;当MgO掺量为1.0wt%时,稳定为M1型;当MgO掺量在1.5wt%以上时,稳定为M3型。基于XRD数据计算得到了不同晶型阿利特的伪六方亚晶胞参数,结果显示各晶型的亚晶胞参数值非常接近。通过选区电子衍射(SAED)和高分辨透射电子显微像(HRTEM)对各晶型中的调制结构进行了观察。结果表明:各晶型阿利特中的超晶胞反射斑点坐标均可用相应的线形表达式描述,调制结构可以在HRTEM像中观察到,并以波状衬度的形式展现,其方向平行于亚晶胞中相应的晶面。

基于改进调制结构光的三维形状准确测量方法

针对结构光三维形状测量中投射结构光的相互反射而降低形状测量精度的问题,提出一种改进结构光三维形状测量方法。该方法是利用了直接反射和相互反射之间存在的相位差异,以格雷码为基础设计出新的调制结构光;向被测对象投射一系列调制结构光的正-反投影,并利用摄像机获取与其相对应的结构光条纹图像。通过该条纹图像的亚像素定位方法确定结构光的边缘。实验结果表明,该方法能够准确地分离或消除了相互反射,将提高结构光三维形状测量精度。

有机晶体中的调制结构Ⅰ.三维超结构现象

应用X衍射分析获得六次甲基四胺-对硝基苯酚(对硝—四胺)包结物晶体的赝结构与一维超结构,对硝—四胺包结晶体属有公度调制结构,是一个罕见的有机晶体三维超结构。

Co/Pt多层膜的调制结构对磁光性能的影响

研究了Co/Pt多层膜中 ,Co层厚度 ,Co、Pt含量比 ,溅射温度对多层膜磁光性能的影响。研究发现Co层厚度及Co、Pt含量比对Co/Pt多层膜的磁光性能起决定性影响 ,当tCo<0 4nm ,tCo/tPt=1/2时 ,可获得较好的综合磁光性能 ;适当提高溅射时基体的温度 ,可改善多层膜的结晶性并获得较好的调制周期结构 。

Ca_(0.28)Ba_(0.72)Nb_2O_6单晶中无公度调制结构、电畴结构与相变的TEM研究

介电温谱测量结果表明,钨青铜型Ca0.28Ba0.72Nb2O6(CBN28)单晶在252℃附近经历了从正常铁电体到弛豫铁电体的相变。用透射电子显微镜研究了该单晶中的无公度调制结构、畴结构及其演变。由室温[110]带轴电子衍射花样确定无公度调制波矢q=(1/2)c*+(1+δ)(a*-b*)/4,其中无公度参数δ=0.09。高分辨像给出了无公度调制结构的直接证据。这种无公度超晶格结构是两种正交超晶胞结构均匀混合的结果。CBN28单晶中存在高密度沿c轴走向直径约50nm^500 nm的长钉状180°电畴。在电镜中原位升温至220℃左右,开始出现许多直径仅几纳米的细条状畴;温度继续上升时这种细条状畴渐增多。这种宏畴到微畴转变对应于在铁电相变点Tc附近的正常到弛豫铁电转变。刚好在Tc以下,还观察到经零场冷却的纳米针状畴。

纳米多层膜调制结构的成分分析法表征

纳米多层膜的物理性能和力学性能的异常效应均与其调制结构有关。采用X射线能量分散谱仪 (EDS)成分分析方法对不同调制周期和调制比的W /Mo纳米多层膜进行表征 ,并与透射电子显微分析 (TEM)和X射线衍射分析 (XRD)方法进行了比较。结果表明 :采用EDS成分分析方法 ,可以表征纳米多层膜的调制比。EDS方法与XRD分析相结合 ,可以方便而准确地表征纳米多层膜的调制结构。

X射线能量色散谱表征纳米多层膜的调制结构

提出并讨论了采用 X射线色散谱 ( EDX)技术表征纳米多层膜调制结构的原理和方法 ,对Ti N/ Nb N纳米多层膜的调制结构特征进行了表征 ,并与横截面透射电子显微镜 ( TEM)表征方法进行比较 .结果表明 ,对于多层膜的调制比 ,EDX是一种更为精确和方便的方法 .采用 EDX结合 X射线衍射 ( XRD)技术可以准确、方便地表征纳米多层膜的调制结构 .

TiN/AlN纳米多层膜的调制结构研究

纳米多层膜具有多种物理性能和力学性能的异常效应，其中超模量、超硬度效应为近年来的研究热点之一。本文采用高分辨透射电子显微镜（ＨＲＥＭ）研究了ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜的微结构并对其力学性能的变化给予解释。ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜采用反应溅射法在日本产Ａ...

新材料NdCa_2Co_4O_Y的晶胞测定和调制结构分析

近年来发现的氧化物高温超导体的结构都是含有Cu-O面的类钙钛矿结构。为探索Cu-O面的导电机制,寻找不含铜的高温超导体被越来越多的人们所重视.钴是一种经常被使用的替代元素。最近Morozofsky等人在测磁化率时发现LaCa_2Co_3O_Y在227K出现超导转变,但未见详细报导。本文将介绍氧化物陶瓷材料NdCa_2Co_4O_Y晶胞参数的测定,以及其公度、非公度调制结构和孪晶、层错现象的观察、分析。NdCa_2Co_3O_Y样品由固态反应法制成。将分析纯的Nd_1O_3、CaCO_3、Co_2O_3粉末按摩尔比Nd:Ca:Co=1:

共振X射线衍射研究高温超导Sr2CuO3.4晶体中的调制结构

为了进一步研究Sr2CuO3.4高温超导样品中调制结构与超导电性关系,本文对其调制结构形成机制提出了一种新的解释.采用同步辐射共振X射线衍射技术在Cu K边附近探测调制结构随入射光能量的变化,探测到Cu^2+,Cu^3+变价有序,并用于解释Sr2CuO3.4高温超导样品中调制结构的形成机制.实验结果表明,氧空位既占据顶角位置又存在于CuO2面内,氧空位的有序排布造成变价铜离子有序,这种有序结构与其超导电性相关.

调制结构矿物晶体的单晶X射线衍射特征

调制结构广泛存在于天然矿物中,利用具有照相特点的CCD平面高灵敏探测器单晶X射线衍射仪,对公度和非公度调制结构的单晶衍射特征进行了研究,根据倒易点的分布规律和晶胞特点提出了超结构的分类方法和非公度调制结构的高维指标化方法。

具有公度调制结构的Bi系超导新相

具有公度调制结构的Ｂｉ系超导新相陆斌，李方华，陈 弘，刘 维，毛志强，张裕恒（中国科学技术大学结构分析开放实验室，合肥２３００２６）（中国科学院物理研究所，国家超导实验室，北京１０００８０）本文报道了一个最新发现的具有公度调制结构的Ｂｉ系超导新相。名...

Ca掺杂Bi-Sr-Cu-O体系的调制结构和超导电性研究

采用溶胶-凝胶方法合成了名义组分为Bi2Sr2-x Cax CuO6+δ(x=0.1、0.3、0.5、0.7和0.9)的系列样品,运用XRD、TEM和四引线法,研究了钙掺杂对Bi-2201相晶体结构、点阵参数、非公度调制结构和超导临界转变开始温度(TC,onset)的影响。研究发现,钙原子已进入到Bi-2201单胞内部,在整个掺杂体系内,Bi-2201单胞都能够维持正交点阵;随着钙掺杂量增加,正交单胞的c轴长度逐渐减小,而当x>0.3时,Bi-2201相调制波矢的b轴分量逐渐减小,而c轴分量有所上升;电阻随温度变化曲线表明,当x=0.3时,TC,onset达到最高,之后有所下降,这与调制波矢在b轴分量的变化相一致,这种变化能够用晶格失配模型很好地解释。

磁控溅射Al/Pb纳米多层膜调制结构研究

用磁控交替沉积制备Al/Pb纳米多层膜,运用XPS,AFM,TEM考察表面状况及膜结构.结果表明,实验条件下,当Al层厚60 nm时,Pb子层标定厚度从20 nm增至30 nm,可形成较完整埋层调制结构.随Pb层厚度增加,连续性变好、表面糙度降低,Al层对Pb层表面糙度克服能力提高,改善层状结构完整性.多层膜中Al,Pb子层均存在(111)择优取向特征,由fcc结构的表面自由能最小化引起.

Bi_(1.7)Pb_(0.4)Sr_(2－x)La_xCuO_(6－δ)体系的调制结构

Ｂｉ１．７Ｐｂ０．４Ｓｒ２－ｘＬａｘＣｕＯ６－δ体系的调制结构陆斌＊毛志强＊张裕恒＊李方华＊＃（＊中国科技大学结构分析开放研究实验室，合肥２３００２６＃中国科学院物理研究所）本文报道了名义组份为Ｂｉ１．７Ｐｂ０．４Ｓｒ２－ｘＬａｘＣｕＯ６－δ（ｘ＝０...

Bi系超导氧化物调制结构中的缺陷及其作用

利用［１００］方向的高分辨晶格像研究了Ｂｉ系氧化物调制结构中的特征缺陷，及其对相变和材料超导性能的影响。