辅助光对高功率掺镱光纤激光放大器受激拉曼散射效应的抑制作用

提出一种利用辅助光调控高功率掺镱光纤放大器中增益分布,以控制信号光的受激拉曼散射(SRS)增益、提高SRS阈值的方法.基于数值模拟分析了辅助光的波长以及辅助光和信号光的功率比例对放大器SRS阈值的影响规律.计算结果显示,通过引入适当波长和功率的辅助光可以有效提升放大器的SRS阈值.

辅助光对NaCl（OH~－）和KCl（Na~＋，OH~－）晶体中的类F_2~＋型色心激光输出的影响

文中报道了有关辅助光对ＮａＣｌ（ＯＨ＾－）：（Ｆ＾＋２）Ｈ及ＫＣｌ（Ｎａ＾＋，ＯＨ＾－）：（Ｆ＾＋２）ＡＨ色心激光输出功率影响的主要研究结果，初步探讨了辅助光作用的物理机制。

用于辅助光校的高精度五维调节架设计

随着光学系统的日益广泛使用,光学系统光校的复杂度逐渐体现出来。高精度、自动化、定量化的多维调节架成为光校系统的技术保证。针对某光学系统镜子重量大、精度要求高,设计了五维调节架机械机构、控制系统。即采用步进电机驱动滚珠丝杠副带动镜子走动、通过编码器进行位置测量,采用计算机和无线小键盘控制五维调节架定量化走动,给出了系统的机械设计、电控硬件和控制软件设计,并对其中的关键技术做了重点阐述。

左手上推上颌对辅助光棒下经口气管插管效果的影响

临床上经常会面临困难气道,即面罩通气和直接喉镜下插管困难。目前认为,辅助光棒下经口气管插管是解决困难气道的有效方法之一。光棒辅助插管是利用一根可弯曲的光导管芯在会厌附件通过颈部透出的光亮来判断气管导管的位置和方向的一种盲探技术。由于患者的正常或疾病导致异常解剖结构的不同,导致辅助光棒插管的成功率显著不同^（[1]）。本研究对左手上推上颌对辅助光棒下经口气管插管成功率的影响进行了研究,

F￣＋＿2型色心激光器中辅助光的作用

Ｆ２＾＋型心具有跃迁偶极矩大、Ｓｔｏｋｅｓ位移适当、效率高、调谐范围覆盖０．８￣４．０μｍ近外区等优点。是一种具有实际应用价值的色心激光工作心。它的能级结构可用Ｈ２＾＋模型加以描述。利用与激光运转相关的１ｓσｇ、２ｐσｕ、２ｐπｕ能级的正常态和弛豫态特征可以阐述Ｆ２＾＋型心的激光四能级系统和辅助光的作用。多数Ｆ２＾＋型色心激光器的稳定运转需要有辅助光的激励。

辅助光对KCl(Na^+,OH^-):(F_2^+)_(AH)色心激光运转的影响

报道了辅助光对KCl(Na^+,OH^-):(F_2^+)_(AH)色心激光输出的影响,结果表明:色心激光输出不仅与辅助光的强度有关,而且与泵浦光及辅助光之间的偏振方向匹配有关,在此基础上,成功地获得了稳定的KCl(Na^+,OH^-):(F_2^+)_(AH)色心激光运转。

辅助光注入下半导体光放大器的快慢光性能

随着全光网络的快速发展,快慢光技术受到了广泛关注。为了研究半导体光放大器(SOA)的快慢光效应,文章构建了辅助光注入半导体光放大器的理论模型。比较了辅助光注入SOA前后,直流电流、调制电流、调制频率、相移以及增益系数等参数对相位延时量的影响。仿真结果表明:辅助光的注入使输出信号光由慢光变为快光,辅助光功率越强,效果越明显。同时,注入辅助光信号后,直流电流越大,相位延时量越大;调制电流、调制频率、相移及增益系数越大,相位延时量越小。

促进局推广电脑辅助光学软件

为何需要电脑辅助光学软件?透镜设计是一门优化及分析影像系统的科学。目前，光学系统已广泛地应用于消费产品，包括：医疗仪器、通讯、自动检验及生产上品质监控系统。一般的光学产品包括：相机镜头、望远镜、显微镜、双筒望远镜、扫描器、光度针、投影仪、内视镜、干涉仪、激光焊接系统等。

辅助光法也能当大哥

光法一直都是很多DOTA玩家最爱的英雄之一。一方面因为这个英雄确实拥有着超强的实力,他的三个小技能外加大招附带的两个技能,无一例外都是神技。虽然这些技能可能不如某些英雄的技能那么简单暴力,但玩家如果能掌握好诀窍的话那就能带来巨大的收益,对于高手来说,这种上限和下限都很高的技能,最适合用来展现自己的技巧了。

光辅助直接甲醇燃料电池阳极催化剂的研究进展

直接甲醇燃料电池(DMFCs)因其能够在较低工作温度下提供清洁、可持续能源方面的潜力而备受关注,但阳极缓慢的甲醇氧化反应(MOR)限制了其商业化应用。光辅助直接甲醇燃料电池(PMFCs)能利用光电耦合机制加速MOR过程,实现甲醇的化学能高效转化为电能,为开发高效、可持续的能源转换系统带来了巨大希望。本文首先简要回顾了PMFCs的背景、意义和在能源研究中的价值。从PMFCs的基本结构组成和酸碱介质下甲醇光电催化氧化的基本路径出发,总结了PMFCs阳极光电催化剂的研究进展。重点针对不同类型的PMFCs阳极光电催化剂,讨论光辅助下的MOR增强机制,如催化剂的尺寸效应、晶面效应、吸光性能、导电性以及表面等离激元共振(SPR)效应等方面的影响。PMFCs未来需要重点关注的研究方向是深入理解PMFCs的光电耦合机制和PMFCs阳极催化剂的构效关系,以及解决实际二电极系统下PMFCs光阳极的设计问题。

泡沫镍上钌负载多孔二氧化钛的合成及其在光辅助电催化析氢中的应用

由于传统商用电催化析氢催化剂具有成本高、储量低等缺点,开发一种经济、高效、稳定的新型电催化析氢催化剂尤为重要。通过在泡沫镍基底上,使用诱导挥发自组装和浸渍-提拉法制备了负载钌的多孔TiO_(2)催化剂,并应用于光辅助电催化析氢。其中钌和介孔TiO_(2)之间的金属-载体效应可以有效提高电催化析氢反应(HER)的性能。在光的辅助下,生长在泡沫镍上的负载钌的多孔TiO_(2)电催化剂在碱性电解液中表现出良好的电催化活性,当过电位为100 mV时,样品具有12.4 mA·cm^(-2)的高电流密度,相同过电位无光环境下的样品的电流密度为10.2 mA·cm^(-2),在光照的辅助下,相同过电位的电流密度提升了约21.5%。

光辅助对MOCVD法制备ZnO薄膜性能的影响

采用光辅助金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术在(0001)蓝宝石衬底上制备了ZnO薄膜。通过X射线衍射、透射光谱和霍尔测试等研究了光照对MOCVD法制备的ZnO薄膜的影响。实验结果表明,引入光辅助后制备的ZnO薄膜,其结晶质量和光学质量均得到改善。分析认为,这主要是由于光辅助有助于提高锌有机源的分解效率,并且高能量的光子可为反应吸附的原子提供足够高的激活能,从而易于其迁移到合适的晶格位置所致。同时我们还发现,有光照和无光照条件下制备的ZnO薄膜均呈n型导电,但有光照条件下制备的ZnO薄膜具有更低的本底载流子浓度,这将为日后通过降低自补偿实现p型掺杂提供一个很好的解决办法。

氮化物半导体GaN的光辅助湿法腐蚀

本工作报道了一种光辅助湿法腐蚀半导体氮化物ＧａＮ的新方法．这一腐蚀技术具有简单，易控制和低损伤等优点．采用２００Ｗ汞灯辐照和ＮａＯＨ溶液腐蚀可得到几百纳米／分的腐蚀速率．

光辅助引发制备丙烯酰胺-二甲基二烯丙基氯化铵共聚物

采用光辅助引发技术,通过水溶液聚合法制备丙烯酰胺(AM)和二甲基二烯丙基氯化铵(DMDAAC)共聚物P(AM-DMDAAC)。考察了引发体系、单体配比、引发温度、溶液pH值、络合剂和引发剂质量分数等因素对产物特性黏数及溶解性的影响,并与传统的引发剂引发聚合结果进行了对比。在单体浓度30%,m(DMDAAC)∶m(AM)=20∶80,引发温度20℃,pH值6.0,EDTA.2Na用量0.001 0%,引发剂质量分数0.003 0%条件下,产物的特性黏数达12 dL/g以上,溶解时间67 min,用红外光谱进行了表征。

钛合金曲面超声辅助磁性磨料光整加工材料去除规律及去除函数

目的研究工件曲率半径、驻留时间以及加工角度对钛合金曲面超声辅助磁性磨料光整加工材料去除深度和材料去除曲线偏置程度的影响,建立不同走刀方式下的材料去除函数。方法在不同工件曲率半径、驻留时间和加工角度下,对钛合金曲面工件进行单点抛光试验,利用方差分析法,研究各因素水平对材料去除深度及材料去除曲线偏置程度的影响规律,采用最小二乘法拟合材料去除点坑在xoz平面和yoz平面内的材料去除曲线,基于二次多项式逐步回归方法,构建不同加工工艺参数下,材料去除曲线函数系数与加工工艺参数间的函数表达式,建立不同走刀方式下的材料去除函数,并对其进行准确性检验。结果由材料去除深度方差分析可得:驻留时间的F值为8.06,加工角度的F值为2.296,材料去除深度随驻留时间和工件曲率半径的增加而增加,随加工角度的增大,先增加后减小。由材料去除曲线偏置程度方差分析可得:工件曲率半径的F值为2.176,加工角度的F值为7.647,材料去除曲线偏置程度随工件曲率半径的增大而减小,随驻留时间和加工角度的增加而增加。此外,拟合的材料去除函数相关系数值R^2在0.97~0.99范围内。结论驻留时间对材料去除深度的影响最显著,加工角度次之,工件曲率半径影响最小。加工角度对材料去除曲线的偏置程度影响最显著,工件曲率半径次之,驻留时间影响最小。材料去除函数拟合结果较为准确,能满足实际的加工要求。

光辅助引发制备聚甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵

在紫外灯照射和引发剂作用下,通过水溶液聚合法制备聚甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(PDMC)。考察了氧化-还原引发体系、氧化-还原和偶氮类引发剂用量、单体浓度、溶液pH、引发温度和络合剂用量等因素对产物特性黏数的影响,并与无光照条件下的聚合结果进行了对比。用红外光谱对所得产物进行了表征。结果表明:光辅助引发可以显著促进DMC的聚合反应。采用硫酸亚铁-过硫酸铵引发剂体系,在引发剂质量分数为0.002 0%,单体质量分数为75%,pH=4,引发温度为10℃,络合剂质量分数为0.003 0%时,所得聚合物的特性黏数达8.4 dL/g以上。

通过带有侧向耦合量子点的量子线中的光辅助隧穿(英文)

应用非平衡格林函数方法,研究了带有微波调制的侧向耦合量子点的量子线中的光辅助隧穿.在考虑了量子干涉和微波场的情况下,得出并讨论了电子传输幅度和相位方面的信息.电子传输幅度显示出一系列的反共振峰(对应图中的谷结构).峰值的高度与振荡的微波场的幅度和频率有关,而峰的位置只与微波场的频率有关.在有限温的情况下,反共振峰值的高度随着温度的增加而减小,当温度足够高时,反共振峰会消失,特别地,在一定的温度下,低温下谷的地方会演变成峰.

用光辅助MOCVD制作巨磁阻薄膜PCMO

用光辅助MOCVD的方法成功地在LAO,Pt/Ti/S iO2/S i,Pt/LAO等不同的衬底上生长出巨磁阻材料PCMO,并且在室温无磁场的环境中观察到由脉冲电压诱导其电阻可逆变的效应(称为EPIR效应)。实验证实,用此方法制备出的PCMO薄膜受到一定的脉冲电压驱动时,其电阻值可以增大,也可以减少,与所施加的脉冲极性有关,并且电阻值变化的大小与脉冲的数量有一定的关系,可以用多值的方式来记录和存储信息。这表明,用光辅助MOCVD制作的PCMO薄膜也具有可擦可写的,多值的存储信息的功能。可以被开发为高速读写,大容量的非易失性存储器,具有广阔的应用前景。

应用国产光敏剂光动力学辅助治疗恶性脑肿瘤5例报告

目的分析应用国产血卟啉衍生物（HPD）的光动力辅助治疗（PDT）恶性脑肿瘤的疗效及安全性。方法4例恶性胶质瘤和1例转移性鳞癌病人于显微手术切除术后应用国产HPD进行PDT治疗,HPD剂量为5.0mg/kg,光波长为628nm,总能量为240J/cm^2。通过颅内压监测、并发症观察及影像学随诊观察治疗的效果和安全性。结果5例病人治疗后3d内颅内压有轻微升高,用脱水药物可得到控制,PDT对瘤床1.0cm深的肿瘤有治疗作用,可使肿瘤复发时间延迟2~3个月,未出现过敏反应、肝肾功能损害等并发症。结论应用国产HPD单次PDT治疗恶性脑肿瘤有一定的治疗作用,脑水肿及颅内压可以控制,安全性好。