一种新的制备ZnO纳米粒子的方法——阴极电沉积法

用阴极电沉积法制备高质量ZnO纳米薄膜,电沉积采用含有不同浓度的ZnCl2的非水二甲基亚砜溶液做电解液,室温下恒流沉积,得到纳米ZnO薄膜。研究了ZnCl2浓度对薄膜结构和光学性质的影响。沉积薄膜的ZnO粒径尺寸分别为9 8,10 4,14 5nm,随着ZnCl2浓度的增加而增大。薄膜的可见光致发光谱以紫外的自由激子发射为主。研究表明:以浓度为0 03mol/L的ZnCl2电解液制备的ZnO薄膜光学性质最好。

阴极电沉积法同时制备TiO_2薄膜和颗粒

采用阴极电沉积法电解钛酸四丁酯同时制备TiO2膜和颗粒,并讨论沉积条件对产物的影响。pH值是控制产物的主要参数。对比在紫外灯光照下不同产物不同时间下的光催化性能,比较其差异得出,酸性在pH值为1-2(加浓硫酸2-3mL)时的产物效果最好,光催化性能最好。并横向比较了加入硫酸体积相等的条件下,颗粒和薄膜的光催化效率。

阴极电沉积TiO_2薄膜的工艺及性能

使用TiCl4的前驱体溶液,采用阴极电沉积法在301不锈钢表面制备TiO2薄膜,并研究了电化学沉积过程的机理和工艺条件.应用X射线衍射(XRD)、热重-差热分析(TG-DTA)、傅立叶变换红外光谱(FTIR)等技术对TiO2沉积层的组成和结构进行了表征.用Tafel曲线评估了TiO2薄膜在模拟海水溶液中的电化学腐蚀行为,并以甲基橙为目标降解物研究了TiO2薄膜的光催化性能.

环氧丙烯酸树脂合成工艺对阴极电沉积涂膜外观的影响

在110℃下、于一定溶剂中以偶氮二异丁腈和过氧化苯甲酰(BPO)为引发剂,引发由甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯和甲基丙烯酸羟乙酯组成的反应体系,并以二乙醇胺为胺化剂、冰醋酸为中和剂合成了可用于阴极电沉积涂料的环氧丙烯酸阳离子树脂。研究了胺化温度、不同胺化工艺、不同醋酸中和工艺、中和温度以及不同pH值对电泳液粒径、电导率和阴极电沉积涂膜外观的影响。结果表明,选择胺化工艺Ⅱ,在90℃下胺化,同时选用冰醋酸在90℃下直接中和,当pH值为5.8左右时,所得的阴极电沉积涂料电泳液的外观呈乳白带蓝、电导率约为0.7ms/cm、槽液粒径约为95nm,所得涂膜厚度超过20μm,涂膜外观均匀、平滑。

阴极电沉积环氧涂层表面形态的扫描电子显微镜研究

以环氧型中厚膜阴极电泳涂料为模型 ,用扫描电子显微镜考察了不同电泳涂装参数及烘烤固化条件对电泳漆膜表观形态的影响。试验结果表明 :通过调节电泳电压和电泳时间 ,可以控制膜厚。对于在不同电压和电沉积时间得到的相同膜厚的电沉积膜 ,较低的电压、较高的固化温度和较短的固化时间均有利于获得平整、光滑、致密的涂层。

氧化锌薄膜的阴极电沉积法制备及性能

以硝酸锌溶液为沉积液,采用阴极电沉积技术在ITO导电玻璃基片上制备ZnO薄膜.分析了Zn(NO3)2体系ZnO的电化学沉积机理及反应过程,考察了沉积电位和Zn(NO3)2浓度对沉积过程、薄膜结构及其性能的影响.结果表明:沉积电位和Zn(NO3)2浓度对薄膜形貌都有着显著的影响,沉积速率随沉积电位和Zn(NO3)2浓度的增加而增大;当沉积电位和Zn(NO3)2浓度较小时,薄膜粒径小,透光性相对较高.

阴极电沉积涂料的无铅化研究

将铋离子应用于环氧体系阴极电沉积涂料中,从槽液参数、漆膜性能等方面分析了铋离子代替铅离子作为阴极电沉积涂料催化剂的优势,证明了铋离子应用于阴极电沉积涂料的可行性。

阴极电沉积法制备ZnO及其特性研究

用ZnCl2的非水二甲基亚砜溶液做电解液,采用阴极电沉积法在导电玻璃上制备出了一系列的ZnO薄膜。实验发现ZnCl2的浓度对ZnO薄膜的光学性质有重要影响,ZnCl2浓度依次为0.01mol/L、0.03mol/L和0.05mol/L。当ZnCl2的浓度为0.01mol/L时薄膜的光学性能最好,此时发射谱出现紫峰和绿峰。XRD分析表明,薄膜是ZnO的多晶结构。

阴极电沉积法制备ZnO薄膜

采用阴极电沉积方法,以含锌盐的水溶液作为电解液,分别在不锈钢和ITO导电玻璃衬底上制备了ZnO薄膜样品,用X射线衍射对样品进行了表征,研究了电势、电流密度、锌盐种类和浓度以及衬底等因素对薄膜质量和组成的影响。

阴极电沉积涂料用树脂

阴极电沉积涂料用树脂专利号：９４１１１４９５．３本专利是有关环氧胺加成物、封闭二异氰酸酯及多胺化合物组成的阴极电泳漆。漆液的ＰＨ近于６，稳定性好，施工电压１００～２００Ｖ，电沉积漆膜厚度１８～２５μｍ，泳透率≥７０％，漆膜耐盐雾性≥７２０小时，与国际...

钛表面阴极微弧电沉积制备氧化铝涂层

采用阴极微弧电沉积在钛表面生成了厚度达100μm的氧化铝涂层,研究了不同电压下涂层的结构和组成,分析了涂层的生长规律和形成过程.结果表明:阴极微弧电沉积过程包括火花前、微弧和局部弧光三个阶段,期间伴随有Al(NO3)3的离解、Al(OH)3的沉积与高温烧结等反应,微弧区产生的高温高压是形成Al2O3涂层的关键.涂层主要由γ-Al2O3和α-Al2O3组成,随电压升高,α-Al2O3的含量逐渐增加,在400V时其含量达76%.

溶液配比及电参数对钛阴极微弧电沉积氧化铝涂层的影响

用阴极微弧电沉积在钛表面生成Al2O3涂层,探讨溶液组成、放电电压及时间对涂层形貌、相组成及生长速率的影响。结果表明:涂层由αAl2O3和γAl2O3组成。随溶液中Al(NO3)3含量的增加,αAl2O3含量和涂层生长速率均先增后减。电导率决定了Al(NO3)3的摩尔浓度为0.2mol/l时是较佳值。乙醇与水的体积比对溶液的起弧影响很大,过高的含水量因溶剂效应大而不利于阴极微弧电沉积。随电压升高,涂层的生长速率增加,αAl2O3的含量增加。400V时,αAl2O3含量可达76%。延长放电时间,涂层的生长速率亦先快后慢。120min时,涂层厚度可达100μm。

钛合金表面阴极微弧电沉积Al_2O_3-SiC复合涂层

通过高温烧结法在TC4钛合金表面制备了起弧阻挡层,然后采用阴极微弧电沉积工艺在TC4钛合金表面制备了Al2O3-SiC复合陶瓷涂层,重点研究了复合陶瓷涂层的制备工艺及影响因素,并采用扫描电镜、能谱仪等观测了起弧阻挡层及复合陶瓷涂层的表面微观形貌及成分组成。结果表明,阴极微弧电沉积技术能够在钛合金表面制备出Al2O3-SiC复合涂层,且起弧阻挡层至关重要,为起弧必备条件,SiC在Al2O3基体中的分散性较好,涂层较厚且分布均匀。

阴极微弧电沉积表面处理钛的高温氧化行为(英文)

在0.4mol/lAl(NO3)3乙醇溶液中,采用阴极微弧电沉积方法在纯钛表面制备出80μm厚的氧化铝涂层。研究了钛及其镀膜样品在973K的高温氧化行为,并分析了它们恒温氧化后的组织、成分和相组成。结果表明,具有氧化铝涂层的钛在973K的氧化速率降低了4倍,恒温氧化后涂层的形貌和相组成几乎保持不变。涂层/钛界面附近的较薄氧化铝致密层对抑制氧和钛原子的扩散起重要作用。阴极微弧电沉积是提高钛抗氧化性能的有效方法之一。

阴极等离子体电沉积陶瓷涂层的研究现状

介绍了阴极等离子体电沉积陶瓷涂层的基本原理及其在不同领域中的应用,总结了影响阴极等离子体电沉积陶瓷涂层的因素(包括电压、电流密度、占空比、脉冲频率、主盐浓度、电解液pH、添加剂和实验装置),阐述了阴极等离子体电沉积技术目前存在的问题,展望了其应用前景。

HR-2钢表面阴极微弧电沉积氧化铝陶瓷涂层的组织结构及其性能研究

以0.8mol·L-1 Al(NO3)3·9H2O的乙醇溶液为电解液,用阴极微弧电沉积的方法在HR-2钢表面制备出厚度约为69μm的氧化铝陶瓷涂层,通过扫描电子显微镜(SEM)观察了涂层的表面和截面形貌,通过X射线能量色散谱(EDS)及X射线衍射仪(XRD)分析了涂层的成分以及相组成,通过电化学综合测试系统分析了涂层的电化学腐蚀性能,结果表明:涂层表面粗糙多孔,与基体呈犬牙咬合状结合;涂层主要由α-Al2O3和γ-Al2O3组成;涂层中含有少量的Fe元素,表明膜/基界面附近的基体在微弧放电的作用下也参与了成膜;沉积氧化铝涂层后,样品的腐蚀电流密度降低了1个数量级,耐腐蚀性能得到提高。

有机电沉积涂料的新动向

阴极电沉积涂料是 2 0世纪 70年代以来发展起来的一种新的涂装方法 ,具有挥发性有机物 (VOCs)和有害空气污染物(HAPs)含量低、防蚀能力强、漆膜质量好、涂料利用率高、适合涂装结构复杂的构件和设备等特点。介绍了近年来阴极电沉积涂料研发的新动向。它们主要集中在有机双层电涂和高分子 聚电解质 /低聚物电解质复合物多层电涂体系 ,这些新的电涂体系在涂料的稳定性以及涂层的物理化学性质和力学性能方面具有明显的改进。

氧化锌薄膜的电化学沉积和表征

以透明导电玻璃(TCO)为衬底,用硝酸锌水溶液作为电解液,研究了阴极还原沉积ZnO薄膜的反应机理和电化学行为.通过改变工艺条件来控制ZnO的生长速率,得到了粒径为10￣15nm的纳米ZnO薄膜.XRD分析显示纳米ZnO薄膜纯度高,呈纤锌矿结构.光学测试结果表明,在可见光区其透光度高达90%,禁带宽度为3.37eV.

胺化环氧丙烯酸阳离子树脂合成工艺对电沉积性的影响(英文)

以二乙醇胺为胺化剂、冰醋酸为中和剂,合成了胺化环氧丙烯酸阳离子树脂.采用电泳仪和电导率仪,研究了胺化环氧丙烯酸树脂合成工艺对阴极电泳涂料电沉积性的影响.结果表明,随着胺化温度的增加,电泳液电导率先下降后上升.将冰醋酸加入树脂中中和,后用水稀释,比树脂在醋酸稀溶液中中和,电沉积性能更好.电沉积速率随着中和温度的上升而增加,电沉积膜致密性相应增加.中和度(DN)愈高,电泳液电导率愈大,粒径越小,而涂膜外观在中和度为80%时达到最佳.

Ti(SO_4)_2为钛源电沉积法制备TiO_2薄膜的研究

以Ti(SO4)2为钛源采用阴极电沉积法在导电玻璃上生成TiO2薄膜。采用单因素法分析了电压、pH、时间等因素对阴极电沉积TiO2薄膜的影响,确定了电沉积液最佳配方和工艺条件,并采用XRD、SEM、TG-DTA等分析手段进行了表征。实验结果表明:阴极电沉积法制备TiO2薄膜的最佳配方及工艺条件为10mL Ti(SO4)2,3mLH2O2,2mLHNO3,8mL NH3.H2O,20mL H2O,pH为1.5,电压为3.5V,沉积时间为20min。在此条件下,在导电玻璃上能够形成一层均匀TiO2薄膜,经XRD检测该膜层晶型为锐钛矿,该膜层可应用于染料敏化太阳能电池、光催化等领域。