阴极电流密度对6061铝合金在含Na_(2)WO_(4)电解液中微弧氧化膜结构和耐磨性能的影响

目的 研究恒流模式下阴极电流密度对6061铝合金在含Na2WO4的电解液中制备的微弧氧化膜厚度、形貌、相组成及耐磨性能的影响。方法 固定阳极电流密度为5.0 A/dm^(2),阴极电流密度分别为0、1.25、2.5、3.75、5.0 A/dm2,对6061铝合金进行微弧氧化40 min。用涡流测厚仪测量了氧化膜的厚度,用扫描电镜观察了微弧氧化膜的表面形貌和截面形貌,用能谱分析仪分析了氧化膜的表面成分,用X射线衍射分析仪分析了微弧氧化膜的相组成,用往复式摩擦磨损试验机测试了氧化膜的耐磨性能。结果 随着阴极电流密度的增加,氧化膜内的W含量逐渐减少,氧化膜颜色逐渐变浅,氧化膜厚度逐渐增加。微弧氧化膜的主要组成相为α-Al2O3和γ-Al2O3。当阴极电流密度从0 A/dm2增加到3.75 A/dm2时,氧化膜内孔洞的数量和尺寸逐渐减少,孔洞到氧化膜/基体界面的距离逐渐增加,氧化膜的耐磨性能逐渐提升。当阴极电流密度为3.75 A/dm2时,氧化膜的磨损率最低,仅为1.07×10-4mm3/(N·m)。但阴极电流密度增加到5.0 A/dm2时,氧化膜表层出现孔洞和剥落,耐磨性能下降。结论 阴极电流的加入有助于增加6061铝合金微弧氧化膜的厚度,提高氧化膜的致密性和耐磨性能,但过高的阴极电流会导致氧化膜表层出现孔洞,降低耐磨性能。

阴极电流密度对Ni-SiC复合镀层性能的影响

随着现代工业的发展,材料的单一功能已难以满足要求,为此,采用复合电沉积技术,沉积含有弥散硬质相SiC的复合镀层。研究了当pH值、阴阳极间距及面积比一定时,阴极电流密度与温度的关系,阴极电流密度对沉积速度、内应力、镀层硬度及SiC含量的影响。试验结果表明,当阴极电流密度在8～10A/dm2时,镀层沉积速度大,SiC含量较高,硬度高,内应力较小。本试验为完善Ni-SiC复合电镀工艺提供了试验数据。

阴极电流密度对微弧氧化ZrO_2陶瓷膜及耐蚀性的影响

在氟锆酸钾电解液体系中,采用微弧氧化的方法在LY12铝合金表面原位生长ZrO2的陶瓷膜层,研究阴极电流密度对陶瓷膜层组成及耐腐蚀性的影响。结果表明陶瓷膜层主要由m-ZrO2,t-ZrO2组成,且以t-ZrO2为主晶相。随着阴极电流密度的增加,膜层内的KZr2(PO4)3逐渐减少,膜层的厚度增大,膜层表面的放电孔洞尺寸变小,致密性有所提高;陶瓷膜层腐蚀电流密度减小,点蚀电位正移,耐蚀性提高。但继续增加阴极电流密度,膜层厚度和致密性有所下降,腐蚀电流密度增大,点蚀电位负移,耐蚀性下降。

锌酸盐体系Zn-Fe合金电镀阴极电流效率的研究

对碱性锌酸盐体系电镀Zn -Fe合金阴极电流效率的影响因素进行了系统的研究 ,并分析了镀层中铁原子的引入对Zn -Fe合金电镀阴极电流效率的影响原因及合金镀层中铁含量与阴极电流效率的关系 ,以期通过控制镀液组成及工艺条件在一定程度上提高阴极电流效率。增加电镀液中锌铁离子总摩尔浓度 ,提高镀液中锌铁离子摩尔比 ,降低铁离子浓度 ,适当控制阴极电流密度 ,升高镀液温度均可提高锌铁合金电沉积的阴极电流效率。添加剂ZFA的加入使Zn -Fe合金电镀的阴极电流效率降低。合金镀层中引入Fe明显降低了电沉积的阴极电流效率 ,镀层中的Fe含量从 0升高至 0 .73% ,合金电沉积的阴极电流效率却从 79.4 8%降低至 6 8.2 3%。这是由于碱性溶液中 ,氢气在金属Fe上析出的过电势明显小于在金属Zn上的过电势 ,使析氢容易进行引起的。

霍尔槽阴极电流分布规律的研究

采用了工业上最常用的氯化钾镀锌、碱性锌酸盐镀锌、氰化物镀锌、低氰化物镀锌、酸性镀暗镍、酸性光亮镀镍、酸性光亮镀铜、氰化物镀铜、氰化物预镀薄铜、二元仿金及三元仿金镀等十一种工艺，在霍尔槽中进行了阴极电流分布规律的研究。对描述该规律的经验公式Ｄｋ＝Ｉ（ａ－ｂｌｇＬ），与实际测量值之间的偏差进行了讨论。

对霍尔槽阴极电流分布规律的再研究

采用最常用的 16种电镀工艺 ,通过测量霍尔槽阴极片上被分割的 2 0块小阴极条的平均电流密度 ,再次研究了霍尔槽阴极电流的分布规律。所研究的电镀工艺包括 3种镀锌、4种镀铜、5种镀镍、2种镀锡以及 2种仿金镀。考察了描述上述分布规律的经验公式Dk=I(a -blgL) ,并与所得实验结果进行比较 ,提出了不同电镀工艺的截矩a和斜率

浅析铝电解槽阴极电流分布的重要性

通过分析影响铝电解槽稳定性的原因,对铝电解槽阴极电流均匀分布的重要性进行了分析,从设计、施工、生产等方面剖析了导致阴极电流分布紊乱的原因,并提出了相应的解决措施。

工艺因素对氨基磺酸盐镀铟阴极电流效率的影响

对氨基磺酸盐体系镀铟阴极电流效率的影响因素及其规律进行了系统的研究,通过分析镀液pH值、电流密度、镀液温度、添加剂以及电镀时间与阴极电流效率的关系,确定了镀铟最佳工艺参数.结果表明：当pH值为1.8～2.0,电流密度为1.8～2.2 A/dm^2,温度为20～30 ℃,胺类添加剂加入量少于0.2g/L,电沉积1min,可以获得银白色的铟镀层,且阴极电流效率达到80%以上.

电解槽焙烧时期阴极电流分布

铝电解槽焙烧期间 ,槽底阴极电流分布在急剧变化。阴极电流分布控制不好 ,就会严重影响焙烧质量 ,缩短电解槽的寿命。通过对大量阴极电流的测量和图表处理 ,从电解槽电阻网络理论的角度对焙烧时期阴极电流分布和电解槽的早期破损作大量的分析。

论大型预焙槽焙烧启动期的阴极电流分布

本文提出了大型预焙型槽在焙烧启动时期槽底等效电阻阵列电路,并通过对槽底阴极钢棒电流分布的测量,探讨了焙烧期电解槽各层级电阻的综合变化过程。提出槽内电阻在焙烧的前半段主要在焦粒层发生变化,而在后半段主要在炭阴极层发生变化,且这个过程决定了阴极内衬的焙烧质量。提出要获得好的焙烧质量和较长的使用寿命,必须在焙烧启动阶段密集动态监测阴极电流分布,并及时进行调整。文章还分析了预焙槽在生产期的阴极电流分布曲线的状况。

铜电解短路的阴极电流变化与结瘤形貌

铜电解精炼生产过程中,结瘤引起的阴阳极间短路会造成明显的电流效率损失和产品质量下降,检测阴极电流的变化趋势可以快速且准确地判断短路是否发生。本文通过在实验室构建铜电解系统对单个结瘤短路前后的现象进行研究,探究结瘤生长全过程的阴极电流变化规律,观察分析结瘤形貌的变化特点,并进一步利用COMSOL Multiphysics仿真软件模拟结瘤的生长过程,建立结瘤生长模型。结果表明:短路前阴极电流变化不显著,预测短路的难度较大;短路一旦发生,电流将以0.47~0.94 A/min的速率急剧增大,可以利用此特征对短路进行快速检测。通过电解实验发现,结瘤前端形成的冠状物的单侧径向生长速度为0.19 mm/h,而其前端局部形成的树枝状凸起促进了结瘤的轴向生长速度,使其达到了0.33 mm/h,两者共同作用造成电解过程中结瘤尺寸的显著增加。结合仿真和实验结果可知,电解后期高电流密度造成结瘤冠状前端局部发生铜的不均匀沉积,由此形成的快速生长接触阳极导致了短路的发生。

碱性无氰镀锌液组成和阴极电流密度对电流效率与锌层外观的影响

采用库仑计测定了由ZnO、NaOH和光亮剂组成的碱性无氰镀锌液的阴极电流效率,研究了阴极电流密度、光亮剂和ZnO含量对阴极电流效率和镀锌层外观的影响。镀液添加光亮剂会降低阴极电流效率,但可改善镀锌层的外观,使镀层表面光亮;随着阴极电流密度的增大,阴极电流效率降低,镀锌层外观变差;随着镀液ZnO含量的增大,阴极电流效率提高,镀锌层外观变差。阴极电流密度为0.5 A/dm^2时,镀液中适宜的ZnO含量为8~11 g/L,最佳为11 g/L;阴极电流密度为1.0 A/dm^2时,镀液中适宜的ZnO含量为8~10 g/L,最佳为10 g/L。

FC-620F管阴极电流下降原因的探讨与分析

本文通过统计分析、电子探针分析等手段,探讨和分析了FC-620F电子管阴极电流下降的原因,讨论了杂质C对阴极电流下降的影响,并建造了阴极电流下降的故障树。

阴极电流密度对超高强钢锌镍镀层腐蚀及氢脆性能的影响

碱性电镀锌镍因生产过程更环保、镀层耐蚀性好等优点,已成为代镉技术的首选。但是,由于氢脆等原因,暂未应用于超高强钢A100的表面防护。采用一种碱性镀液配方,在不同阴极电流密度下对超高强钢A100表面进行电镀及钝化,同时对钝化后的镀层进行了物相、微观形貌、电化学性能、盐雾、氢脆等组织及性能进行表征。结果表明:在阴极电流密度为2—4 A∙dm^(−2)范围内,可得到单一γ相镀层,并且镍含量在12%—13%左右;当阴极电流密度为2 A∙dm^(−2)时,析氢反应进行得比高电流密度时剧烈,电镀效率较低,需要更长的电镀时间才能得到与阴极电流密度为3—4 A∙dm^(−2)时耐蚀性相近的镀层。本镀液配方制备的镀层氢脆性能好,带有镀层的试棒均通过了200 h缺口拉伸测试,且在3—4 A∙dm^(−2)阴极电流密度电镀时渗氢电流也保持在了一个较低水平。

阴极电流密度对熔盐电解技术经济指标影响的研究

阴极电流密度是影响熔盐电解技术经济的重要因素之一.在电解槽型的设计过程中,如何合理选择阴极电流密度,对提高熔盐电解的电流效率、单位时间产量,降低单位电耗等主要技术经济指标具有十分重要的现实意义.本试验通过在工业化生产实践中,系统地分析阴极电流密度的变化与电流效率、单位时间产量,降低单位电耗等指标之间的关系,以获得工业化生产条件下的最佳阴极电流密度参数.

曲线拟合法彩管阴极电流设定

本文分析了彩管阴极电压电流特性 ,阐述了用曲线拟合法实现彩管阴极电流设定的原理和方法 。

影响亮镍低阴极电流密度区光亮性的因素

影响亮镍镀层低阴极电流密度(JC)区光亮范围及光亮性的因素很多。就光亮剂、基体粗糙度、镀液成分、工艺条件、杂质和分散能力对亮镍低JC区光亮性的影响进行了分析,以指导实际生产。

离子膜电解槽阴极电流效率计算

根据离子膜电解槽的电化学原理和在阳极室中发生的化学反应,演示了阴极电流效率计算公式的推导过程。通过对阴极电流效率的计算,可以动态监控电解槽的经济运行状况,预测其运行趋势,为电解槽的检修和运行管理提供参考依据。

通过电解副产物计算阴极电流效率

指出电解食盐水时可能发生的几种副反应,分析其对电流效率的影响,介绍利用副反应产物计算阴极电流效率的公式及其应用。通过计算,提出要提高电流效率,一方面要提高阳极的析氧过电位,另一方面要提高膜的选择性。

浅析200kA大型预焙铝电解槽阴极电流分布

本文通过对200kA大型预焙铝电解槽阴极电流分布修正系数和阴极电流分布数据的统计分析,得出200kA大型预焙铝电解槽阴极电流分布随槽龄变化的一般规律。