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A1N陶瓷基底材料研究
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作者 唐国宏 陈昌麒 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第S1期3-4,22,共3页
一、前言 随着集成电路和超大集成电路的不断发展以及电子元件的不断微型化,对硅片的冷却要求也越来越高。尤其是一些大功率半导体元件,由于起动电流很大(】16A),因而产生的热量大。若工作温度超过373K,其工作性能下降。因此,迅速地... 一、前言 随着集成电路和超大集成电路的不断发展以及电子元件的不断微型化,对硅片的冷却要求也越来越高。尤其是一些大功率半导体元件,由于起动电流很大(】16A),因而产生的热量大。若工作温度超过373K,其工作性能下降。因此,迅速地将热量散发,保证正常的工作温度,是今后发展高质量电子元件的关键技术。 图1给出了几种比较重要的陶瓷基底材料的导热系数随温度变化的情况。Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>是目前应用广泛的基底材料,但由于它的导热系数过低(25~30w/mk),已不能完全满足未来发展的需要,因此寻求替代材料势在必行。另外,尽管BeO和SiC的导热系数较高,但由于两者本身都存在难以克服的缺点而受到应用的限制。例如:BeO的毒素作用要求其生产必须有绝对可靠的安全措施;而SiC则必须在大幅度地提高其电阻率的条件下才能使用。同时两者的导热系数对温度变化很敏感,特别是在250~450K这样一个具有工程意义的温度范围。相比较而言,A1N的导热系数虽不及BeO和SiC材料,但比Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> 展开更多
关键词 基底材料 a1n 导热系数 大功率半导体 热量散发 温度变化 起动电流 冷却要求 工作性能 工作温度
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添加剂和烧结工艺对A1N瓷性能的影响 被引量:2
2
作者 杜帅 李发 +5 位作者 高陇桥 陈丽梅 张雪梅 刘征 李龙土 桂治轮 《功能材料》 EI CAS CSCD 1995年第6期557-560,共4页
本文研究了Y_2O_3、CaO、Er_2O_3、Yb_2O_3等不同添加剂、烧结温度及保温时间对A1N瓷导热率、致密性及介电性能的影响,并从显微结构及理论上解释了影响导热率高低及介电性能好坏的原因。
关键词 a1n 添加剂 导热率 显微结构 烧结工艺
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Band Gap Behaviors of (α-GaN) / (α-AIN) Superlattice and (β-GaN)/(β- A1N) Superlattice
3
作者 KE San-huang ZHANG Kai-ming XIE Xi-de 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 1996年第10期786-789,共4页
By using an ab initio calculation, it is found that the variation of the fundamental band gap of (α-GaN)n / (α-AlN))n (0001) superlattices is remarkably different from that of (β-GaN))n / (β- A1N))n (001) superlat... By using an ab initio calculation, it is found that the variation of the fundamental band gap of (α-GaN)n / (α-AlN))n (0001) superlattices is remarkably different from that of (β-GaN))n / (β- A1N))n (001) superlattices. The difference in band gap behaviors was shown to be due to the internal electric fields induced by the spontaneous polarizations in α-GaN and α-AlN. In addition, the valence-band offsets at the interfaces of these superlattices are also determined. The results are in good agreement with those available from experimental data. 展开更多
关键词 POLARIZATION GAN a1n
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离子束增强反应磁控溅射沉积A1N膜
4
作者 黄荣芳 王浩 《中国科学院研究生院学报》 CAS CSCD 1993年第3期255-260,共6页
关键词 薄膜 a1n 磁控溅射 离子束
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A1N多层布线基板(W)
5
作者 袁国强 《上海航天》 1994年第5期60-64,共5页
介绍了A1N陶瓷的导热机理、A1N-W共烧结技术及W/A1N封接机理与应用。
关键词 非金属材料 陶瓷封浆 a1n陶瓷 多层布线基板
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A1N薄膜的发光性能
6
作者 蔡明 邱万奇 《中国科技成果》 2009年第10期31-34,36,共5页
本文简要介绍了A1N的性质并总结A1N薄膜作为发光材料的研究现状,以及探讨A1N薄膜的不同掺杂元素的发光机理,最后就A1N薄膜作为优异的半导体发光材料的应用前景做了展望。半导体光致发光是电子吸引光子的能量跃迁至高能级,再由高能级... 本文简要介绍了A1N的性质并总结A1N薄膜作为发光材料的研究现状,以及探讨A1N薄膜的不同掺杂元素的发光机理,最后就A1N薄膜作为优异的半导体发光材料的应用前景做了展望。半导体光致发光是电子吸引光子的能量跃迁至高能级,再由高能级返回到低能级时发光的过程称为光致发光过程,光源可为紫外线、红外线、可见光、X射线等。 展开更多
关键词 a1n掺杂 电致发光 光致发光
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电子封装用粉末冶金材料 被引量:31
7
作者 王铁军 周武平 +1 位作者 熊宁 刘国辉 《粉末冶金技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期145-151,共7页
本文阐述了电子封装材料的基本要求与状况,对传统封装材料Al2O3、BeO、SiC的制备工艺、性能指标进行了介绍,着重分析了新型电子封装材料AlN、W/Cu、Mo/Cu、SiC/Al的性能特点和粉末冶金制备工艺的最新研究进展。
关键词 粉末冶金材料 电子封装材料 制备工艺 AL2O3 性能指标 研究进展 性能特点 SiC BEO a1n 重分析 Cu
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微波低温烧结制备氮化铝透明陶瓷 被引量:16
8
作者 卢斌 赵桂洁 +1 位作者 彭虎 曾小锋 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期1501-1505,共5页
微波烧结(Microwave Sintering)是一种新型、高效的烧结技术,具有传统烧结技术无可比拟的优越性.本文在不添加任何烧结助剂的前提下,采用高纯微米级氮化铝(AlN)粉,在1700℃/2h的微波低温烧结工艺条件下制备出透明度较高的AlN透明陶瓷... 微波烧结(Microwave Sintering)是一种新型、高效的烧结技术,具有传统烧结技术无可比拟的优越性.本文在不添加任何烧结助剂的前提下,采用高纯微米级氮化铝(AlN)粉,在1700℃/2h的微波低温烧结工艺条件下制备出透明度较高的AlN透明陶瓷.分析结果表明,采用微波低温烧结工艺制备的AlN透明陶瓷晶粒尺寸细小(<10μm),晶粒发育完善且分布均匀,晶界平直光滑且无第二相分布,从而证明用微波烧结可以实现AlN透明陶瓷的低温烧结. 展开更多
关键词 微波烧结 a1n 透明陶瓷 制备
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AlN薄膜室温直接键合技术 被引量:4
9
作者 门传玲 徐政 +2 位作者 安正华 吴雁军 林成鲁 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期216-220,共5页
采用离子束增强沉积技术在 10 0 mm硅片上制备大面积均匀 Al N薄膜 ,原子力显微镜 (AFM)显示其表面平整光滑 ,均方根粗糙度 (RMS)为 0 .13nm ,满足直接键合的需要 .同时 ,采用智能剥离技术成功实现了室温下 Al N与注氢硅片的直接键合 ,... 采用离子束增强沉积技术在 10 0 mm硅片上制备大面积均匀 Al N薄膜 ,原子力显微镜 (AFM)显示其表面平整光滑 ,均方根粗糙度 (RMS)为 0 .13nm ,满足直接键合的需要 .同时 ,采用智能剥离技术成功实现了室温下 Al N与注氢硅片的直接键合 ,形成了以 Al N薄膜为埋层的 SOI结构 ,即 Al N上的硅结构 (SOAN) .用扩展电阻、卢瑟福背散射 -沟道、剖面透射电镜等技术分析了所形成的 SOAN结构 . 展开更多
关键词 直接键合 a1n薄膜 智能剥离 绝缘层上硅 离子束增强沉积
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AlN纳米改性变压器油的电热性能及其应用研究 被引量:3
10
作者 王琪 周远翔 +3 位作者 杨颖 刘东霖 寇晓适 任欢 《绝缘材料》 CAS 北大核心 2017年第8期106-112,共7页
纳米颗粒改性变压器油由于其具有散热性能和绝缘性能等优势受到越来越广泛的关注。在总结近年来纳米改性变压器油研究现状的基础上,采用氮化铝(Al N)制备了纳米改性变压器油,并对其导热特性、绝缘特性及其应用进行研究。结果表明:Al N... 纳米颗粒改性变压器油由于其具有散热性能和绝缘性能等优势受到越来越广泛的关注。在总结近年来纳米改性变压器油研究现状的基础上,采用氮化铝(Al N)制备了纳米改性变压器油,并对其导热特性、绝缘特性及其应用进行研究。结果表明:Al N纳米粒子最高能使改性变压器油的热导率提高7%。同时,Al N纳米改性变压器油的正极性雷电冲击击穿电压最高提升了50%。此外,通过现场试验验证了Al N纳米变压器油的散热性能。纳米改性变压器油能显著提升变压器的散热能力,在相似环境中,额定负荷下纳米油变压器中的油温比普通油变压器约低12℃。 展开更多
关键词 纳米改性 变压器油 热导率 绝缘性能 应用性能 a1n
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AlN粉末特性对AlN-BN复合陶瓷致密化的影响 被引量:4
11
作者 秦明礼 杜学丽 +1 位作者 李帅 曲选辉 《复合材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期99-104,共6页
以比表面积分别为4.26和17.4m^2/g两种A1N粉末为原料,添加5%Y2O3作为烧结助剂制备AIN15BN陶瓷(质量分数,%),研究了A1N粉末特性对复合陶瓷致密化过程的影响。结果表明,A1N粉末比表面积对复合陶瓷致密化有重要影响,比表面积高... 以比表面积分别为4.26和17.4m^2/g两种A1N粉末为原料,添加5%Y2O3作为烧结助剂制备AIN15BN陶瓷(质量分数,%),研究了A1N粉末特性对复合陶瓷致密化过程的影响。结果表明,A1N粉末比表面积对复合陶瓷致密化有重要影响,比表面积高的AIN粉末所制备的复合陶瓷致密化过程主要发生在1500-1650℃,1650℃烧结3h后,复合材料的相对密度达95.6%,继续升高温度,对材料的密度影响不大;而低比表面积的A1N粉末所制备的复合陶瓷的致密化过程主要发生在1650~1850℃,1850℃烧结3h,复合陶瓷的相对密度为86.4%。即高比表面积的AIN粉末有利于获得相对密度高的A1N—BN复合材料。 展开更多
关键词 a1n—BN复合陶瓷 比表面积 致密化
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AlN/VN纳米多层膜的共格生长与超硬效应 被引量:3
12
作者 李戈扬 劳技军 +1 位作者 田家万 韩增虎 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第12期56-59,共4页
研究了亚稳相立方AlN(c-AlN)在AlN/VN纳米多层膜中的形成条件以及c-AlN对纳米多层膜力学性能的影响。一系列不同调制周期的AlN/VN多层膜采用反应磁控溅射法制备,多层膜的微结构采用小角度X射线衍射和高分辨电子显微镜表征,利用微力学探... 研究了亚稳相立方AlN(c-AlN)在AlN/VN纳米多层膜中的形成条件以及c-AlN对纳米多层膜力学性能的影响。一系列不同调制周期的AlN/VN多层膜采用反应磁控溅射法制备,多层膜的微结构采用小角度X射线衍射和高分辨电子显微镜表征,利用微力学探针测量了多层膜的力学性能。结果表明:亚稳的c-AlN因VN的'模板'作用生成于小调制周期的纳米多层膜中,并与VN形成共格外延生长的超晶格柱状晶,从而使多层膜产生硬度和弹性模量升高的超硬效应。随调制周期的增大,c-AlN转变为稳定的六方结构(h-AlN),使多层膜形成纳米晶的'砖墙'型结构。此时多层膜的硬度和弹性模量与混合法则所得值相当。AlN/VN纳米多层膜在小调制周期下产生的超硬效应与c-AlN形成带来的性质变化以及c-AlN与VN形成共格结构所产生的界面交变应变场有关。 展开更多
关键词 a1n/VN纳米多层膜 亚稳相 立方氮化铝 超硬效应
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基于氮化铝薄膜的压电水听器的研制 被引量:2
13
作者 赵龙 刘铮 +1 位作者 王强 薛晨阳 《科学技术与工程》 北大核心 2020年第1期128-134,共7页
为将氮化铝(AlN)的压电特性与微电子机械系统(microelectro mechonical system,MEMS)的微加工技术相结合,研制基于AlN压电薄膜结构的单电极水听器。通过采用COMSOL仿真方法研究了器件在20~100 Hz低频范围内谐振特性,结果表明压电薄膜优... 为将氮化铝(AlN)的压电特性与微电子机械系统(microelectro mechonical system,MEMS)的微加工技术相结合,研制基于AlN压电薄膜结构的单电极水听器。通过采用COMSOL仿真方法研究了器件在20~100 Hz低频范围内谐振特性,结果表明压电薄膜优化厚度0.8~1.0μm,振动薄膜直径100μm。给出了器件制备工艺流程,采用感应耦合等离子体(inductively coupled plasma,ICP)精准刻蚀A1N薄膜提高成品率,并对实际样品进行高静水压等环境适应性测试。单个水听器阵列结构是40×40,实际尺寸为7 mm×7 mm,可见AlN薄膜可以用来制备高性能的水听器集成系统。 展开更多
关键词 a1n 水听器 单电极 振动薄膜 ICP刻蚀 阵列结构
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AlN/CrN纳米多层膜的制备及性能的研究 被引量:2
14
作者 王晖 亢原彬 李德军 《天津师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2008年第2期27-30,共4页
采用多弧离子镀技术制备AlN/CrN纳米多层膜,研究了多层膜调制周期对AlN生长结构的影响以及纳米多层膜的机械性能.结果表明:在小调制周期下AlN会以立方结构存在,并与CrN层形成同结构共格外延生长,使纳米多层膜产生较大的晶格畸变;AlN/Cr... 采用多弧离子镀技术制备AlN/CrN纳米多层膜,研究了多层膜调制周期对AlN生长结构的影响以及纳米多层膜的机械性能.结果表明:在小调制周期下AlN会以立方结构存在,并与CrN层形成同结构共格外延生长,使纳米多层膜产生较大的晶格畸变;AlN/CrN纳米多层膜硬度和弹性模量随着调制周期的减小呈现上升的趋势,当调制周期小于8 nm时其增速明显增大,并在调制周期为3.8 nm时达到最高硬度35.0 GPa和最高弹性模量405 GPa;AlN/CrN纳米多层膜的硬度和弹性模量在小调制周期时的升高与c-AlN的产生并和CrN形成的共格结构有关. 展开更多
关键词 多弧离子镀 a1n/CrN纳米多层膜 硬度 立方氮化铝
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静压下GaN/AlN应变超晶格的晶格动力学研究 被引量:3
15
作者 郭子政 阎祖威 《内蒙古大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期269-273,共5页
利用弹性理论计算出静压下应变超晶格两种组分材料的纵向晶格常数的改变,并用来修正应变存在时的面间力常数.在此基础上研究了应变对GaN/AlN超晶格的L-声子的色散关系和振动模式的影响.结果表明,应变可以在一定程度上破坏GaN和AlN中L-... 利用弹性理论计算出静压下应变超晶格两种组分材料的纵向晶格常数的改变,并用来修正应变存在时的面间力常数.在此基础上研究了应变对GaN/AlN超晶格的L-声子的色散关系和振动模式的影响.结果表明,应变可以在一定程度上破坏GaN和AlN中L-声子的准限制模式.另外静压对L-声子的色散关系影响显著,而对原子的振动模式影响较小. 展开更多
关键词 晶格动力学 GaN/a1n超晶格 静压 应变
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AlN薄膜的KrF准分子脉冲激光沉积 被引量:1
16
作者 丁艳芳 门传玲 +2 位作者 陈韬 朱自强 林成鲁 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第12期1831-1833,1836,共4页
研究了采用脉冲激光沉积(PLD)技术在Si(100)衬底上AlN薄膜的制备及其性质。结果表明,衬底温度从室温到800℃的范围内,所得到的AlN薄膜为(002)择优取向的纤锌矿结构。随着衬底温度的升高,AlN薄膜从纳米晶结构转为多晶结构,同时表面微粗... 研究了采用脉冲激光沉积(PLD)技术在Si(100)衬底上AlN薄膜的制备及其性质。结果表明,衬底温度从室温到800℃的范围内,所得到的AlN薄膜为(002)择优取向的纤锌矿结构。随着衬底温度的升高,AlN薄膜从纳米晶结构转为多晶结构,同时表面微粗糙度上升。AlN晶粒呈柱状生长机制。 展开更多
关键词 a1n薄膜 KrF准分子脉冲激光沉积 微结构
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AlN含量对AlN/Zr-Cu复合材料性能的影响 被引量:2
17
作者 徐金鹏 张修庆 +3 位作者 徐金富 浦海州 顾良男 薛玲华 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2017年第3期39-42,48,共5页
以纯铜粉、锆粉、AlN粉为原料,采用放电等离子烧结方法制备了AlN/Zr-Cu复合材料,研究了AlN含量(1%~20%,质量分数,下同)对该复合材料微观形貌、力学性能和摩擦磨损性能的影响,分析了其磨损机理。结果表明:细小的AlN颗粒在铜合金基体中呈... 以纯铜粉、锆粉、AlN粉为原料,采用放电等离子烧结方法制备了AlN/Zr-Cu复合材料,研究了AlN含量(1%~20%,质量分数,下同)对该复合材料微观形貌、力学性能和摩擦磨损性能的影响,分析了其磨损机理。结果表明:细小的AlN颗粒在铜合金基体中呈弥散分布;当AlN含量为1%~15%时,复合材料较致密,当AlN含量增加到20%时,其组织疏松;随着AlN含量的增加,复合材料的显微硬度和抗压强度都呈现出先增大后减小的变化趋势,摩擦因数和磨损量均先减小后增大,磨损机理由黏着磨损向磨粒磨损、剥落磨损依次转变。 展开更多
关键词 铜基复合材料 a1n 放电等离子烧结 摩擦磨损
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氮化铝基片超精密加工的实验研究 被引量:1
18
作者 周兆忠 袁巨龙 +1 位作者 郑家锦 吕冰海 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2005年第2期36-38,46,共4页
氮化铝材料具有较高的热导率和良好的介电性能,机械强度高,热膨胀系数与半导体硅材料相近,非常适于制造大功率或快速半导体器件的散热基片和封装材料。本文采用游离磨料加工方法对氮化铝基片表面进行了研磨、抛光, 讨论了不同加工参数... 氮化铝材料具有较高的热导率和良好的介电性能,机械强度高,热膨胀系数与半导体硅材料相近,非常适于制造大功率或快速半导体器件的散热基片和封装材料。本文采用游离磨料加工方法对氮化铝基片表面进行了研磨、抛光, 讨论了不同加工参数对试件表面粗糙度和材料去除率的影响。采用表面粗糙度仪和厚度仪分别对超精密加工后AIN基片的表面粗糙度及去除厚度进行了测量。实验结果表明,在本实验条件下可以获得表面粗糙度Ra为8nm的超光滑表面。实验还采用XJZ-5型电子显微镜对加工过程中AIN的表面结构进行了观察,分析了不同超精密加工阶段的材料去除机理,同时发现晶粒间孔隙会降低AIN基片的可加工性能。 展开更多
关键词 氮化铝(a1n)基片 超精密加工 研磨 抛光 表面粗糙度
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提高连续退火生产的铝镇静钢性能均匀性的措施的探讨 被引量:10
19
作者 班必俊 《宝钢技术》 CAS 2003年第4期56-59,63,共5页
重点从一贯制工艺着手对如何提高连续退火生产的铝镇静钢性能均匀性的措施进行了探讨 ,提出了加B、控制Mn的含量、采用U形卷取温度控制、边部加热等措施 ,通过大生产的实验证实确实有效 。
关键词 屈服强度 卷取温度 a1n 渗碳体
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自蔓延合成AlN粉研磨及热处理前后的性能比较 被引量:1
20
作者 李丹 卢忠远 毛丽琼 《材料开发与应用》 CAS 2004年第2期13-16,共4页
本文通过比较AlN粉体研磨前后和AlN粉末热处理前后的性能差异,发现用甲醇作研磨介质快速研磨2h,AlN粉末的中位粒径为1.204μm,效果良好。研磨前AlN粉的含氧量为1.45%,研磨2h后的含氧量为1.8%,快速研磨后AlN粉末的氧化程度不高。随着热... 本文通过比较AlN粉体研磨前后和AlN粉末热处理前后的性能差异,发现用甲醇作研磨介质快速研磨2h,AlN粉末的中位粒径为1.204μm,效果良好。研磨前AlN粉的含氧量为1.45%,研磨2h后的含氧量为1.8%,快速研磨后AlN粉末的氧化程度不高。随着热处理温度的提高,氧化程度逐步提高。在1000℃的温度下热处理3h后,除含有主晶相AlN外,还出现明显的α Al2O3衍射峰。在600℃左右的温度下进行热处理3h,含氧量适中,有一定的抗水性。 展开更多
关键词 自蔓延合成 a1n粉末 热处理 抗水性
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