热处理温度对电镀Ni-Co-P镀层的性能影响

热处理是常用的一种提高镀层性能的方法。本文采用了一种新型的电镀Ni-Co-P配方在黄铜片上制备了镀层,然后将制得的镀层在不同温度下进行热处理,并结合扫描电子显微镜、X射线衍射、维氏硬度计和电化学工作站对镀层表面形貌、组织结构、硬度及耐蚀性能进行了测试分析。结果表明,热处理使镀层逐渐由非晶态转化为晶态镀层,当热处理温度为400℃时,镀层的表面平整、致密,无明显缺陷,镀层硬度从475.4 HV增加到最大值662.5 HV,腐蚀电位为-0.222 V,腐蚀电流密度为2.44×10^(-8) A·cm^(-2),镀层性能达到最佳。

镀液中金属离子浓度比对化学镀Ni-Co-P薄膜的形貌及磁性能的影响

采用化学镀法在硅基底上直接施镀了Ni-Co-P磁性薄膜,通过调整镀液中金属盐浓度比控制镀层中镍、钴含量,优化薄膜软磁性能。采用SEM、EDAX、XRD和VSM研究了镀液中不同的镍、钴浓度比对薄膜形貌、成分、厚度、镀速、结构和磁性能的影响。结果表明:化学镀Ni-Co-P薄膜由瘤状Ni-Co颗粒组成,镀态的Ni-Co-P镀层由非晶相构成。随着镀液中Co^(2+)浓度的增加,镀层中Co元素的含量增多,Ni元素的含量降低,但镀层的镀速减缓,当镀液中Co^(2+)含量过高时,施镀非常困难,而镀液中金属盐浓度比对镀层中非金属元素P的沉积量影响不大。Ni-Co-P合金薄膜的饱和磁化强度随着镀层中Co元素含量的增加有上升趋势,矫顽力同时呈现下降趋势。当镀液中c(Ni^(2+))∶c(Co^(2+))=2∶3时,制备的Ni-Co-P镀层软磁性能最好,其饱和磁化强度达到820 emu/cc,矫顽力仅为4 Oe。

玻璃纤维化学镀Co-P合金工艺研究

为了提高导电玻璃纤维的电、磁性能,拓宽其应用领域,采用化学镀的方法,研究了在玻璃纤维表面镀CoP合金的工艺,探讨了化学镀液的主盐、温度、pH值及施镀时间等工艺参数对化学镀CoP合金成分及镀速的影响。本工艺的最佳配方为:18g/LCoSO4,18g/LNaH2PO2·H2O,45g/L柠檬酸钠,29g/L(NH4)2SO4;最佳参数:温度为90℃,pH值为9,施镀时间为50min。在此工艺条件下镀液的稳定性较好,镀层沉积速度快、光亮、致密,所得镀层为非晶结构。

化学镀Co-P薄膜的磁性及研究

采用化学镀法制备了Co-P磁记录薄膜。当薄膜厚度为0.3μm时,矫顽力可达4.54×104A/m,剩余磁化强度为0.068T。X射线衍射分析表明,当Co-P薄膜较薄时,薄膜结构中无明显择优取向,晶粒较小,此时矫顽力较高;当厚度增加至3-4μm以上时,结构中择优取向明显,晶粒较大,此时薄膜的矫顽力较低。将其应用于磁旋转编码器的磁鼓记录介质,制成直径Φ40mm的磁鼓,当原始充磁磁极对数为512时,脉冲计数完整,输出信号强,波形稳定。

AZ31镁合金酸性化学镀Ni-Co-P层的耐腐蚀性能

为了提高镁合金的耐蚀性,以酸性化学镀的方法在AZ31镁合金表面制备了Ni-Co-P镀层。分别用XRD,SEM和EDS对镀层的结构、表面形貌和成分进行了分析,并用点滴试验和电化学方法测试了镀层的耐蚀性。结果表明:酸性化学镀Ni-Co-P层为非晶态胞状结构,镀层中P含量可高达9.41%,远高于碱性镀层;AZ31镁合金镀覆Ni-Co-P合金层后腐蚀电流比基体降低3个数量级,其耐蚀性能显著提高。

化学镀Ni-Co-P工艺与性能研究

采用复合络合剂．柠檬酸钠和乳酸，通过正交试验优化了化学镀Ni—Co-P工艺，并对镀层的形貌、成分、组织结构及性能进行了检测和分析。结果表明，优化后的化学镀Ni-Co-P镀液稳定性好，镀速高；所得镀层为纳米晶结构，晶粒尺寸在40～60nm，具有Ni（Co）（111）取向，整个热处理过程中晶粒没有明显长大，在428℃左右镀层发生重结晶，析出Ni3P相；镀层硬度HV10为8867MPa，在400℃处理后HV10可提高至9892MPa：镀层矫顽力Hc为556．27×79．6A／m，饱和磁化强度坛为48．73（A·m^2）／kg，整个热处理过程中，镀层磁性参数变化不大。镀层具有良好的热稳定性。

工艺条件对化学镀Ni-Co-P合金的影响

采用硼酸为缓冲剂 ,柠檬酸钠为络合剂化学镀Ni Co P合金。考察了镀液pH值、钴离子浓度和温度对化学镀Ni Co P沉积速度的影响 ;研究了钴离子浓度对镀层组成的影响 ,获得了化学镀Ni Co P合金的最佳工艺条件为 :镀液pH值为 7.0 ,操作温度 90℃ ,CoSO4 ·7H2 O浓度为 11g/L。此工艺下镀液稳定性好 ,镀层沉积速度快 ;所得镀层为非晶结构。

Co-P合金镀层热疲劳裂纹萌生扩展的研究

对钢结硬质合金表面进行Co-P合金化学镀,对镀层进行25～680℃的热疲劳试验,研究了热疲劳裂纹在镀层的萌生与扩展特征。结果表明:热裂纹的出现包括孕育期、萌生期与扩展期;热裂纹优先在镀层表面应力最集中的区域萌生;在热裂纹萌生和扩展的同时伴随着氧化腐蚀,氧化腐蚀缩短裂纹的孕育期,促进裂纹的萌生。

镁合金表面化学镀Ni-Co-P合金的研究

通过优化正交试验法研究了镁合金表面化学镀Ni-Co-P合金工艺。讨论了几种因素对沉积速度的影响。采用显微硬度测试、扫描电镜(SEM)、X射线能谱分析手段比较研究了Ni-Co-P与Ni-P镀层性能及化学成分。结果表明,Co2+的加入有利于化学镀层的沉积,但使镀层硬度下降;配位剂采用30 g/L柠檬酸钠时沉积速率最快;适量的香豆素可以提高镀速并使镀层更光亮。Ni-Co-P镀层表面较Ni-P镀层具有较好的耐腐蚀性能,结合力良好。

NdFeB磁体表面化学镀Ni-Co-P合金及其耐腐蚀性能研究

采用化学镀方法制备Ni-Co-P三元合金镀层以改善NdFeB磁体的耐腐蚀性能。优化了镀液配方以及施镀工艺,研究了镀液pH值和金属离子配比([Co2+]/[Ni2++Co2+])对沉积速度和镀层成分的影响,测量了NdFeB基体和不同镀层在3.5%(质量分数,下同)NaCl溶液中的极化曲线。结果表明,随镀液pH值增加,沉积速度提高,镀层中Co含量升高,Ni含量和P含量逐渐降低;随镀液中Co2+比例增加,沉积速度下降,镀层中Co含量升高,Ni和P含量降低。化学镀Ni-Co-P合金后的NdFeB磁体在3.5%NaCl溶液中的腐蚀速度降低了约两个数量级;当镀液金属离子配比[Co2+]/[Ni2++Co2+]=0.3时,镀层耐腐蚀性能最好,且优于相同施镀条件下所得到的Ni-P镀层。

空心微珠表面化学镀Ni-Co-P合金镀层研究

用化学镀的方法将空心微珠改性,使它具有电、磁等性能,是拓宽空心微珠应用领域的一种新方法。以AgNO_3代替常见的贵金属盐PdCl_2为活化剂,在空心微珠表面化学镀Ni-Co-P合金镀层,用X射线衍射仪、能谱仪和扫描电镜对其进行了分析表征。结果表明,以AgNO_3活化剂代替常用的PdCl_2活化剂,可在空心微珠表面得到Ni-Co-P合金镀层,同时分析了以AgNO_3代替常用的PdCl_2活化剂制备Ni-Co-P合金镀层的形成机理。本方法能改善Ni-Co-P合金镀层的性能,成本低,具有良好的应用前景。

Ni-P底层对化学镀Co-P薄膜性能的影响

采用化学镀工艺制备了Co-P磁记录薄膜,研究了非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的生长及性能的影响。研究结果表明：非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的晶体结构及取向无明显影响,镀态的Co-P薄膜均为密排六方结构,（100）（、002）、（101）的择优取向无明显变化;但非晶无磁的Ni-P底层可以提高薄膜的均匀性和一致性,表面无明显缺陷;细化晶粒,平均晶粒尺寸为100-150nm;提高Co-P薄膜的磁性能,矫顽力可达4.54×10^4A/m。当记录信号脉冲时,与铝基体上直接施镀相比,在Ni-P底层上的Co-P磁记录薄膜输出信号幅值均匀稳定,信噪比良好。

Ni-Co-P化学镀工艺优化及性能研究

以A3钢为基底进行化学复合镀Ni-Co-P,采用正交试验法得到了一种Ni-Co-P的最佳配方及工艺条件,并对镀层的形貌、硬度、厚度、结合力、耐蚀性等进行了检测和分析。实验得出了最佳配方及工艺条件:硫酸镍35.0 g/L,硫酸钴4.0 g/L,次亚磷酸钠30.0 g/L,柠檬酸三钠60.0 g/L,硼酸35.0 g/L,乳酸12.0m L/L,十二烷基苯磺酸钠0.05 g/L,硫脲2 mg/L,p H值为7.0,温度90℃,施镀时间2 h。在该条件下,镀层沉积速率较快,可达89.83 g/(m2·h),镀层具有较强的耐蚀性,硫酸铜点滴时间可达285 s;该镀层表面分布均匀,孔隙率分布较小,与基体结合力较好。

铝合金上化学镀Ni-Co-P合金工艺及镀层性能的初步研究

研究了铝硅合金基体化学镀Ni-Co-P镀层的工艺对镀层性能的影响。通过正交试验,得出镀液pH值、硫酸镍、硫酸钴以及次磷酸钠的含量对镀层厚度、硬度和成分的影响规律,发现增大镀液pH值和增加硫酸镍含量、次磷酸钠含量适中、降低硫酸钴含量,有利于增加镀层膜厚;增大镀液pH值、硫酸镍和次磷酸钠含量适中、降低硫酸钴含量,有利于提高镀层硬度。

Co-P非晶态合金电子性质和局域结构的理论研究

根据Co P非晶态合金结构的短程有序和结构中可能存在P -P相互作用的实验事实 ,选择了单磷原子簇模型ConP(n =1～ 5 )和双磷原子簇模型ConP2 (n =1～ 4 ) ,用密度泛函理论方法对其进行计算 .结果表明 ,在单磷Co2 P( 2 ) 、Co3 P( 1) 及Co4P( 2 ) 模型体系中 ,Co原子供给P原子电子 ,与电负性规则一致 ,同时Co和P之间具较强化学作用 ,可以形成稳定的原子簇 ;而在双磷和单磷原子簇Co5P( 1) 模型体系中 ,形成的原子簇不稳定 ,采用单磷Co2 P( 2 ) 、Co3 P( 1) 及Co4P( 2 ) 模型能较好地反映Co P非晶态合金的结构特点 .

化学镀Cu-Co-P非晶合金及其催化性能表征

目的优化Cu-Co-P非晶合金的化学镀工艺,研究其对硼氢化钠水解制氢的催化性能。方法以铁片为基体,研究化学镀Cu-Co-P非晶合金的制备工艺,探讨镀液成分对沉积速率、镀液稳定性及镀层质量的影响,并根据研究结果筛选出化学镀Cu-Co-P的优化配方。采用该配方对氧化铝(γ-Al2O3)基体施镀,制备出负载型Cu-Co-P/γ-Al2O3非晶合金催化剂,对其组成、形貌和结构等进行表征。利用硼氢化钠水解制氢实验,评价制备的负载型Cu-Co-P多元合金催化剂的催化性能。结果根据优化配方制备出的负载型非晶合金Cu-Co-P/γ-Al2O3催化剂的比表面积为233 m2/g,相对组成为57.85%Cu+39.69%Co钴+2.46%P(均为质量分数)。45℃条件下,在20 m L含1 g硼氢化钠和1 g氢氧化钠的溶液中,硼氢化钠水解制氢的速率为1295 m L/(g·min)。结论化学镀Cu-Co-P的优化配方组成为:硫酸钴20 g/L,硫酸铜0.7 g/L,次亚磷酸钠40 g/L,柠檬酸钠20 g/L,EDTA-2Na 10 g/L,氟化铵25 g/L。工艺参数为:温度(85±1)℃,p H=9。

负载型非晶合金催化剂Ni-Co-P/γ-Al_2O_3催化硼氢化钠水解制氢

以三氧化二铝(γ-Al2O3)为载体材料,采用化学镀法在基体表面沉积了Ni-Co-P非晶态合金催化剂。采用能量色散X射线谱仪(EDS)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、化学吸附仪(BET)等手段对样品的元素组成、形貌和结构进行了表征,用硼氢化钠水解制氢反应考察了Ni-Co-P/γ-Al2O3非晶态合金催化剂的催化性能。结果表明,化学镀Ni-Co-P/γ-Al2O3非晶态合金催化剂具有非常粗糙的表面和很大的比表面积,对催化碱性硼氢化钠溶液水解具有良好的催化活性和循化使用性能。通过对动力学数据研究得到该催化剂的活化能Ea=36.97kJ·mol-1。

负载型非晶合金催化剂Ni-Co-P/γ-Al_2O_3的制备及其结构和催化性能表征

通过化学镀方法在铁片表面镀覆Ni-Co-P非晶合金,探究了镀液成分以及工艺参数对沉积速率、镀液稳定性及镀层质量的影响。选用化学镀Ni-Co-P的最佳优化配方和工艺参数,在氧化铝基体上制备出负载型Ni-Co-P/γ-Al_2O_3非晶合金催化剂。用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、X射线能量色散谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、电感耦合等离子体(ICP)和氮气吸附脱附测试方法对该催化剂进行表征。硝基苯催化加氢实验考察了Ni-Co-P/γ-Al_2O_3催化剂的催化加氢性能。结果表明,非晶态Ni-Co-P/γ-Al_2O_3催化剂具有良好的催化活性和循环使用性能。

非晶态Co-P-B催化剂在1-辛烯氢甲酰化反应中的应用

通过化学还原法制备了不同Co/P和P/B摩尔比的Co-P-B非晶态催化剂.采用XRD,ICP-Mass和氮气吸附-脱附等温线对催化剂的性质进行了表征.在5.0 MPa和120℃条件下,以1-辛烯的氢甲酰化为模型反应,对Co-P-B催化剂的活性进行了评价,并与Co-B及Co-P催化剂进行了比较.结果表明,非晶态Co-P-B催化剂对1-辛烯氢甲酰化反应具有良好的活性和选择性.催化剂中P,B和Co的摩尔比、结构及比表面积等性质影响催化剂的活性和选择性,添加适量的P有助于提高转化率和选择性.在Co-P-B(Co摩尔分数为85.4%,P摩尔分数为3.3%)催化剂上,1-辛烯的转化率为97.2%,C9-醛的选择性达到99.5%.

玻璃纤维化学镀Ni-Co-P合金工艺的研究

研究了玻璃纤维表面化学镀NiCoP合金镀液中主要成分间的摩尔比、pH值、温度以及施镀时间等工艺参数对化学沉积NiCoP合金镀层成分及镀速的影响。结果表明:最佳的施镀温度为50℃,pH值为9～10,镀液中各主要成分间最佳摩尔比为Co2+(Ni2++Co2+)=0.45,H2PO-2(Ni2++Co2+)≤2.6,Na3C6H5O7(Ni2++Co2+)=1.5,Na3C6H5O7NH+4=0.4。用X射线能谱仪和扫描电镜对镀层进行了分析和表征,在最佳工艺条件下,镀液的稳定性高、镀速快、镀层外观较好。