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ENIG黑焊盘的原因分析及其对焊点质量的影响 被引量:2
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作者 李晓倩 施明哲 邹雅冰 《电子显微学报》 CAS CSCD 2014年第5期436-440,共5页
本文利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线能谱分析仪(EDS)以及金相切片等物理分析手段,研究了化镍浸金(ENIG)焊盘润湿不良及焊后发黑的根本原因,即镍层由于遭受浸金药水的过度攻击而产生了严重的氧化腐蚀。镍层的腐蚀不仅会降低焊盘可焊性,... 本文利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线能谱分析仪(EDS)以及金相切片等物理分析手段,研究了化镍浸金(ENIG)焊盘润湿不良及焊后发黑的根本原因,即镍层由于遭受浸金药水的过度攻击而产生了严重的氧化腐蚀。镍层的腐蚀不仅会降低焊盘可焊性,也会极大减弱焊点界面的结合强度,造成焊盘润湿不良或焊点开裂失效。 展开更多
关键词 enig焊盘 焊盘发黑 氧化腐蚀 焊点质量
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镍层耐硝酸腐蚀性测试——一种简单的预先探测ENIG镍层“黑盘”现象的测试方法 被引量:5
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作者 李白辉 李景泉 《印制电路信息》 2003年第10期57-64,共8页
随着更加精细的SMT、BGA等表面贴装技术的运用,化学沉镍金(ENIG)作为线路板最终表面处理得到了越来越广泛的应用,同时可怕的“黑盘”现象也随之更广泛地“流行”起来,直接导致贴装后元器件焊接点不规则接触不良。为了贯彻执行最好的流... 随着更加精细的SMT、BGA等表面贴装技术的运用,化学沉镍金(ENIG)作为线路板最终表面处理得到了越来越广泛的应用,同时可怕的“黑盘”现象也随之更广泛地“流行”起来,直接导致贴装后元器件焊接点不规则接触不良。为了贯彻执行最好的流程控制和采取有效的预防措施,了解这种焊接失败的产生机理是非常重要的,及早的观测到可能发生“黑盘”现象的迹象变得同样关键。本文介绍了一种简单的预先探测ENIG镍层“黑盘”现象的测试方法-镍层耐硝酸腐蚀性测试,这种测试可以用于作为一种常规的测试方法监测一般化学沉镍溶液在有效使用寿命范围内新鲜沉积的镍层的质量。利用Weibull概率统计分析在不同的金属置换周期(MTO)下镍层的可靠性能表现。结合试验结果得出了一个镍层耐硝酸腐蚀性的判定标准。 展开更多
关键词 SMT BGA 表面贴装技术 线路板 表面处理 流程控制 enig镍层 “黑盘”现象 镍层耐硝酸腐蚀性测试
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ENIG镀层焊盘上BGA焊点开裂原因及应对措施 被引量:3
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作者 杜晓妍 刘建军 +1 位作者 张永忠 李欣 《航天制造技术》 2021年第4期11-16,共6页
使用金相切片、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)等分析方法,研究了ENIG(Electroless Nickel and Immersion Gold, ENIG)工艺处理的PCB焊盘焊点开裂样品,该样品是BGA封装的器件,焊球成分是Sn3.0Ag0.5Cu,焊膏成分是Sn63Pb37,属于... 使用金相切片、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)等分析方法,研究了ENIG(Electroless Nickel and Immersion Gold, ENIG)工艺处理的PCB焊盘焊点开裂样品,该样品是BGA封装的器件,焊球成分是Sn3.0Ag0.5Cu,焊膏成分是Sn63Pb37,属于有铅无铅混装工艺。研究发现,该样品中ENIG工艺处理的PCB焊盘上BGA焊点开裂原因是回流焊接工艺参数控制不当,导致磷在反应界面过度富集,形成了富磷层,以及铜元素穿过镍层扩散到反应界面,参与了界面IMC(Intermetallic Compound,IMC)层的形成,双重因素作用下使焊点界面强度严重弱化,在外界应力作用下发生开裂。 展开更多
关键词 化镍浸金(enig) 富磷层 失效分析 铜扩散
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选择性ENIG+OSP工艺中金面上膜之解困 被引量:3
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作者 陈世金 罗旭 +2 位作者 覃新 乔鹏程 徐缓 《印制电路信息》 2012年第S1期438-442,共5页
文章就印制电路板制造选择性ENIG+OSP工艺中出现金面上膜的原因进行分析,重点阐述了其成因影响因素和改善对策等,为业界工作者改善此类问题提供一点的参考。
关键词 选择性 enig OSP 贾凡尼效应
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ENIG的耐蚀性:一种改进的浸金工艺
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作者 欧家忠 《印制电路信息》 2004年第7期36-41,共6页
为了了解ENIG化学变化对浸金耐蚀性的形响,探讨了浸金电镀溶液的pH值和化学性质与结果所得到的浸金层的耐蚀性之间的关系。
关键词 enig 浸金 耐蚀性 腐蚀率 黑盘 印制线路板
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ENIG表面产生焊接界面断裂的关键失效模式 被引量:1
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作者 蔡积庆 《印制电路信息》 2003年第11期43-48,共6页
概述了固化不足的阻焊沾污了镀液,导致BLN焊接界面断裂,阐述了出现BLN现象的原因和怎样防止BLN现象。
关键词 化学镀镍浸金 焊接界面 断裂 失效模式 BLN现象 产生原因 印制电路
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ENIG焊点的失效机理及镀层重工方法研究 被引量:4
7
作者 周斌 邱宝军 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第7期691-694,698,共5页
采用显微形貌、微观结构和元素成分分析等物理分析方法,以不同类型的化镍浸金(electroless nickel/immersion gold,ENIG)基板为对象,分析了其焊点在不同情形下的失效模式和失效机理,阐述了"黑盘"缺陷的主要失效特征,研究了具... 采用显微形貌、微观结构和元素成分分析等物理分析方法,以不同类型的化镍浸金(electroless nickel/immersion gold,ENIG)基板为对象,分析了其焊点在不同情形下的失效模式和失效机理,阐述了"黑盘"缺陷的主要失效特征,研究了具有黑盘缺陷的化镍浸金基板的重工工艺。研究结果显示,Ni层断裂表面单一的高P含量或轻微Ni层腐蚀不能作为黑盘缺陷的唯一依据,已形成良好金属间化合物(intermetallic compound,IMC)层的Ni层腐蚀位置的焊接界面仍具有良好的机械结合强度,采用喷锡工艺(hot air solder level,HASL)对具有黑盘缺陷的化镍浸金基板进行重新处理切实可行。 展开更多
关键词 化镍浸金 焊点 失效机理 黑焊盘 重工 金属间化合物
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ENIG焊盘异常导致焊接不良分析及返工方法
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作者 陈伟 《现代表面贴装资讯》 2013年第3期40-43,共4页
在无铅化时代ENIG化镍浸金板被广泛运用在电子组装PCB领域,有其独特的优势所在。同时存在劣势亦是明显一黑盘效应,黑盘对产品导致的灾难性是显而易见的同时历来多有研究。此外目前电子组装厂较多关于ENIG板问题多为拒焊或弱湿润问题... 在无铅化时代ENIG化镍浸金板被广泛运用在电子组装PCB领域,有其独特的优势所在。同时存在劣势亦是明显一黑盘效应,黑盘对产品导致的灾难性是显而易见的同时历来多有研究。此外目前电子组装厂较多关于ENIG板问题多为拒焊或弱湿润问题,笔者认为此种拒焊或弱湿润是类似黑盘前期效应。本文通过此类实际失效案例积累处理经验来模拟出可能失效状态,加以失效分析手段及实际处理经验对ENIG板拒焊给出分析。且对于此类问题ENIG板建议采取再喷砂处理方式,在酸洗,烘干来重工。经验证明经过这个返工流程后ENIG板可焊性相比较前,有显著提高其可焊性完全满足焊接要求,当然可靠性要求高领域还需慎重。 展开更多
关键词 enig化金板 失效分析 IMC 回流 返工方式 拒焊
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ENIG焊盘润湿不良失效分析 被引量:2
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作者 李进 张浩敏 袁保玉 《电子产品可靠性与环境试验》 2017年第2期30-33,共4页
针对化学镍金(ENIG)焊盘的上锡不良问题,选取了一个典型的案例进行分析。详细地介绍了分析的过程和手段,通过采用外观检查、金相切片、SEM&EDS等分析手段,发现了导致上锡不良的主要原因为黑焊盘造成的润湿不良。同时,总结和分析了... 针对化学镍金(ENIG)焊盘的上锡不良问题,选取了一个典型的案例进行分析。详细地介绍了分析的过程和手段,通过采用外观检查、金相切片、SEM&EDS等分析手段,发现了导致上锡不良的主要原因为黑焊盘造成的润湿不良。同时,总结和分析了导致此缺陷的原因和应采取的对策。 展开更多
关键词 化学镍金 润湿不良 黑焊盘 失效分析
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加速腐蚀试验下PCB-ENIG的腐蚀电化学行为 被引量:3
10
作者 谭晓明 战贵盼 +2 位作者 张丹峰 彭志刚 王德 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第10期345-352,共8页
目的针对化学镀镍金印制电路板(PCB-ENIG,Electroless Nickel Immersion Gold Printed Circuit Board)模拟舰载机服役的海洋大气环境,研究其腐蚀电化学行为。方法基于实测的环境数据,编制适用于电子设备的加速腐蚀试验环境谱,在实验室... 目的针对化学镀镍金印制电路板(PCB-ENIG,Electroless Nickel Immersion Gold Printed Circuit Board)模拟舰载机服役的海洋大气环境,研究其腐蚀电化学行为。方法基于实测的环境数据,编制适用于电子设备的加速腐蚀试验环境谱,在实验室条件下开展加速腐蚀试验研究。采用电化学工作站定期测试分析试样的电化学阻抗谱,以电荷转移电阻R_(ct)的倒数(1/R_(ct))为腐蚀速率表征参数,分析其宏观电化学行为。采用扫描Kelvin探针技术(SKP)定期测试试样表面伏打电位分布特征,以电位均值μ和标准差s等参数表征微区电化学特性。结果第0~1周期,电荷转移电阻R_(ct)由217.43 kΩ·cm^(2)增至283.41 kΩ·cm^(2),腐蚀速率小幅度降低,主要发生微孔腐蚀。第1~4周期,随着腐蚀周期的延长,微孔表面附着的腐蚀产物出现龟裂、剥落等现象,对腐蚀介质的阻挡作用减弱,阻抗弧半径不断减小,腐蚀速率不断增大;第4周期,R_(ct)达到最小,仅为44.62 kΩ·cm^(2),腐蚀速率达到最大,表面伏打电位均值μ降至-381.37 mV,σ增至55.52,呈现明显的阴阳极,腐蚀倾向较大。第5~7周期,腐蚀加重,表面腐蚀产物不断积聚,形成一层较厚的腐蚀产物层,腐蚀速率不断减小;第7周期,电荷转移电阻达到最大,为311.31kΩ·cm^(2),表面电位均值升至-256.45 mV,电位标准差较大,电位分布较为分散,说明腐蚀产物的积聚会降低腐蚀速率。结论不同腐蚀周期,PCB-ENIG试样表面微区Kelvin电位服从正态分布;随着加速腐蚀时间的增长,PCB-ENIG腐蚀速率呈减小-增大-减小的变化规律。 展开更多
关键词 化学镀镍金印制电路板 电化学阻抗谱 微区电化学 扫描Kelvin探针技术 腐蚀电化学行为
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ENIG焊盘上锡不良的非典型失效机理 被引量:4
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作者 房玉锋 王君兆 刘顺华 《电子产品可靠性与环境试验》 2020年第2期66-71,共6页
针对化镍浸金焊盘在焊接过程中的上锡不良问题,利用电子扫描显微镜分析、能谱分析、俄歇电子能谱分析和剖面分析等手段,对金/镍互溶和镍层浅表面的氧化腐蚀这两种非典型失效的机理进行了总结分析,补充完善了化镍浸金焊盘焊接失效理论,... 针对化镍浸金焊盘在焊接过程中的上锡不良问题,利用电子扫描显微镜分析、能谱分析、俄歇电子能谱分析和剖面分析等手段,对金/镍互溶和镍层浅表面的氧化腐蚀这两种非典型失效的机理进行了总结分析,补充完善了化镍浸金焊盘焊接失效理论,并给出了预防控制建议,对于提高化镍浸金焊盘的质量和可靠性具有重要的意义。 展开更多
关键词 化镍浸金 上锡不良 金/镍互溶 镍层腐蚀 失效分析
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适合选择性化金板的新型抗贾凡尼效应——过一硫酸氢钾微蚀刻液(OSP/SENIG) 被引量:1
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作者 赵成军 《印制电路信息》 2013年第8期43-45,共3页
就贾凡尼效应的产生及对PCB生产工艺中带来的危害进行分析,并介绍了相应的改善措施。
关键词 贾凡尼效应 微蚀刻 选择性化金 有机可焊性保护剂
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中磷和高磷ENIG的拉伸强度对比
13
作者 李礼明 《印制电路信息》 2016年第A01期139-142,共4页
化学沉镍/金(ENIG)作为一种印制板表面处理工艺已很成熟,但随着客户对高品质的不断追求,比一般化学沉镍/金更抗环境腐蚀的高磷沉镍/金应运而生。本文主要对中、高磷体系的沉镍金板件的拉伸强度及相关性能进行了分析比较和探讨,... 化学沉镍/金(ENIG)作为一种印制板表面处理工艺已很成熟,但随着客户对高品质的不断追求,比一般化学沉镍/金更抗环境腐蚀的高磷沉镍/金应运而生。本文主要对中、高磷体系的沉镍金板件的拉伸强度及相关性能进行了分析比较和探讨,有利于同行的参考借鉴,具指导和参考意义。 展开更多
关键词 表面处理 沉镍金 高磷 拉伸强度
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半导体晶圆ENIG/ENEPIG产品设计考量
14
作者 刘勇 《电子与封装》 2020年第4期46-52,共7页
通过化学自催化反应在半导体晶圆I/O铝或铜金属垫上沉积具有可焊接性的镍金/镍钯金层,此工艺已在MOSFET、IGBT、RFID、SAW Filter等产品上得到广泛应用。着重阐述了在新产品设计和工程评估阶段,对于晶圆产品本身应予以考量的因素,如钝... 通过化学自催化反应在半导体晶圆I/O铝或铜金属垫上沉积具有可焊接性的镍金/镍钯金层,此工艺已在MOSFET、IGBT、RFID、SAW Filter等产品上得到广泛应用。着重阐述了在新产品设计和工程评估阶段,对于晶圆产品本身应予以考量的因素,如钝化层种类及厚度,I/O金属垫的成分及结构,切割轨道上金属图形的大小及钝化层的覆盖,不同I/O pad的电势等。其中一些因素导致的问题会直接影响化学镍金/镍钯金后产品的性能应用。在化镀工艺过程中,要充分了解产品本身结构以及可能造成的相应缺陷及问题,并且应综合考虑这些因素的影响。 展开更多
关键词 半导体晶圆 化学镍金/镍钯金 缺陷分析 产品设计考量
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In-situ isothermal aging TEM analysis of a micro Cu/ENIG/Sn solder joint for flexible interconnects
15
作者 Jinhong Liu Jianhao Xu +2 位作者 Kyung-Wook Paik Peng He Shuye Zhang 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第2期42-52,共11页
Sn/ENIG has recently been used in flexible interconnects to form a more stable micron-sized metallurgical joint,due to high power capability which causes solder joints to heat up to 200℃.However,Cu_(6)Sn_(5)which is ... Sn/ENIG has recently been used in flexible interconnects to form a more stable micron-sized metallurgical joint,due to high power capability which causes solder joints to heat up to 200℃.However,Cu_(6)Sn_(5)which is critical for a microelectronic interconnection,will go through a phase transition at temperatures between 186 and 189℃.This research conducted an in-situ TEM study of a micro Cu/ENIG/Sn solder joint under isothermal aging test and proposed a model to illustrate the mechanism of the microstructural evolution.The results showed that part of the Sn solder reacted with Cu diffused from the electrode to formη´-Cu_(6)Sn_(5)during the ultrasonic bonding process,while the rest of Sn was left and enriched in a region in the solder joint.But the enriched Sn quickly diffused to both sides when the temperature reached 100℃,reacting with the ENIG coating and Cu to form(Ni_(x)Cu_(1-x))_(3)Sn_(4),AuSn_(4),and Cu_(6)Sn_(5)IMCs.After entering the heat preservation process,the diffusion of Cu from the electrode to the joint became more intense,resulting in the formation of Cu_(3)Sn.The scallop-type Cu_(6)Sn_(5)and the seahorse-type Cu_(3)Sn constituted a typical two-layered structure in the solder joint.Most importantly,the transition betweenηandη’was captured near the phase transition temperature for Cu_(6)Sn_(5)during both the heating and cooling process,which was accompanied by a volume shifting,and the transition process was further studied.This research is expected to serve as a reference for the service of micro Cu/ENIG/Sn solder joints in the electronic industry. 展开更多
关键词 In-situ TEM observation Isothermal aging Micro Cu/enig/Sn solder joint Cu_(6)Sn_(5)phase transition
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化学镍金(ENIG)表面浸润性不良的失效分析 被引量:2
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作者 严石 陈飞珺 +2 位作者 杨振国 李志东 陈蓓 《复旦学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2012年第2期236-239,265,共4页
化学镍金,也称化镍沉金(ENIG),作为最终表面处理工艺的一种,以其低廉的价格和兼容于高密度封装的特性而被广泛采用,但其一直被可靠性问题所困扰着.针对ENIG诸多可靠性问题中的一种,即上锡过程中焊料在沉金表面浸润性不佳,开展了分析研究... 化学镍金,也称化镍沉金(ENIG),作为最终表面处理工艺的一种,以其低廉的价格和兼容于高密度封装的特性而被广泛采用,但其一直被可靠性问题所困扰着.针对ENIG诸多可靠性问题中的一种,即上锡过程中焊料在沉金表面浸润性不佳,开展了分析研究.研究表明,镀金层质量不佳,晶粒粗大,晶界开裂是导致上锡过程中焊料浸润性不良的主要原因.焊料选择的不当是导致该失效的次要因素. 展开更多
关键词 化学镍金(enig) 浸润性 晶粒大小 晶界开裂
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时效Sn-0.3Ag-0.7Cu/OSP、ENIG焊点剪切强度的比较 被引量:2
17
作者 戴宗倍 卫国强 +1 位作者 薛明阳 师磊 《特种铸造及有色合金》 CAS CSCD 北大核心 2012年第12期1155-1158,共4页
研究了Sn-0.3Ag-0.7Cu钎料与有机防氧化涂层(OSP)及化学镀镍金镀层(ENIG)焊盘回流焊后焊点界面IMC和剪切强度在不同时效条件下的变化。结果表明,(1)随着时效时间的增加,两种焊盘的界面IMC厚度都增加,并且符合抛物线生长规律,但是OSP焊... 研究了Sn-0.3Ag-0.7Cu钎料与有机防氧化涂层(OSP)及化学镀镍金镀层(ENIG)焊盘回流焊后焊点界面IMC和剪切强度在不同时效条件下的变化。结果表明,(1)随着时效时间的增加,两种焊盘的界面IMC厚度都增加,并且符合抛物线生长规律,但是OSP焊盘界面IMC生长速率要快于ENIG焊盘界面IMC的生长速率,其界面IMC的形貌逐渐平整;(2)OSP和ENIG焊盘焊点的剪切强度均随时效时间的延长而下降。在低温时效时,ENIG焊盘焊点的剪切强度高于OSP焊盘焊点的剪切强度;然而,在高温时效时,ENIG焊盘焊点的剪切强度却低于OSP焊盘焊点的剪切强度。 展开更多
关键词 SN-0 3Ag-0 7Cu钎料 OSP enig 时效 IMC形貌 剪切强度
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ENEPIG在倒装芯片用陶瓷外壳中的应用可行性 被引量:3
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作者 张崤君 李含 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第6期484-488,共5页
目前倒装芯片用陶瓷外壳的表面处理工艺以化学镀镍/浸金(ENIG)为主,而ENIG带来的黑盘现象使封装产品面临润湿不良和焊接强度不足等一系列问题。化学镀镍/化学镀钯/浸金(ENEPIG)是ENIG的一种改进方案,可有效避免黑盘现象。对分别采用ENIG... 目前倒装芯片用陶瓷外壳的表面处理工艺以化学镀镍/浸金(ENIG)为主,而ENIG带来的黑盘现象使封装产品面临润湿不良和焊接强度不足等一系列问题。化学镀镍/化学镀钯/浸金(ENEPIG)是ENIG的一种改进方案,可有效避免黑盘现象。对分别采用ENIG和ENEPIG镀层的陶瓷外壳样品在外观、微观形貌以及焊接强度等方面进行了对比,采用ENEPIG镀层样品的表现优于采用ENIG镀层的样品。对采用ENEPIG镀层的外壳样品进行了芯片贴装,并进行了热冲击、温度循环等一系列试验,试验合格率100%,说明该方案可以满足器件级鉴定检验要求。验证结果表明,ENEPIG在高密度陶瓷封装领域具有良好的应用前景。 展开更多
关键词 化学镀镍/浸金(enig) 化学镀镍/化学镀钯/浸金(ENEPIG) 高密度陶瓷外壳 表面处理 焊接可靠性
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一种活化添加剂对化学镀镍层结合力的影响
19
作者 陈光辉 赖海祥 +1 位作者 王倩玉 黄子峰 《印制电路信息》 2024年第7期20-25,共6页
在印制电路板(PCB)化学镀镍/金(ENIG)工艺中,活化对焊盘的渗镀、漏镀影响十分重要,然而活化对化学镀镍与基底铜结合力的影响易被忽视。通过对一种活化添加剂进行研究,发现其在活化过程中易吸附在基底表面,夹杂在基底铜与化学镀镍层之间... 在印制电路板(PCB)化学镀镍/金(ENIG)工艺中,活化对焊盘的渗镀、漏镀影响十分重要,然而活化对化学镀镍与基底铜结合力的影响易被忽视。通过对一种活化添加剂进行研究,发现其在活化过程中易吸附在基底表面,夹杂在基底铜与化学镀镍层之间,并且加速了基底铜表面小尺寸空洞的形成,最终导致镀层的结合力降低。 展开更多
关键词 化学镀镍/金 活化 添加剂 镀层结合力
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中粗化微蚀药水引起化学镀镍/金不良的探讨
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作者 唐小侠 徐卫祥 刘清 《印制电路信息》 2024年第9期19-24,共6页
中粗化微蚀药水可以增加铜面粗糙度,改善阻焊油墨等在铜面的附着力。但在使用中发现,某款中粗化微蚀药水后直接印刷阻焊油墨,存在化镍金沉积不良问题。通过讨论中粗化微蚀药水引起化镍金沉积不良问题的机理,并经过测试验证,确定了化镍... 中粗化微蚀药水可以增加铜面粗糙度,改善阻焊油墨等在铜面的附着力。但在使用中发现,某款中粗化微蚀药水后直接印刷阻焊油墨,存在化镍金沉积不良问题。通过讨论中粗化微蚀药水引起化镍金沉积不良问题的机理,并经过测试验证,确定了化镍金沉积不良问题的改善方案。 展开更多
关键词 中粗化微蚀药水 阻焊油墨 化镍金沉积不良
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