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基于DBR增强的850 nm GaAs/AlGaAs单行载流子光电探测器
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作者 王健 窦志鹏 +10 位作者 李光昊 黄晓峰 于千 郝智彪 熊兵 孙长征 韩彦军 汪莱 李洪涛 甘霖 罗毅 《半导体光电》 CAS 北大核心 2024年第1期25-28,共4页
高速850 nm GaAs/AlGaAs面入射型单行载流子光电探测器(PD)是短距离光链路中的重要器件,面临着带宽和响应度之间的相互矛盾。报道了一种基于分布布拉格反射器(DBR)增强的GaAs/AlGaAs单行载流子光电探测器(UTC-PD)。DBR由20个周期的高/... 高速850 nm GaAs/AlGaAs面入射型单行载流子光电探测器(PD)是短距离光链路中的重要器件,面临着带宽和响应度之间的相互矛盾。报道了一种基于分布布拉格反射器(DBR)增强的GaAs/AlGaAs单行载流子光电探测器(UTC-PD)。DBR由20个周期的高/低Al组分的Al_(x)Ga_(1-x)As三元合金组成,可以在830~870 nm范围内形成大于0.9的反射。在AlGaAs DBR的增强下,将GaAs吸收层所需的厚度降低到1 040 nm,兼顾PD对光的吸收率和光生载流子的渡越时间。采用双台面、聚合物平面化、共面波导电极结构制作了UTC-PD器件。该器件在850 nm波长、-2 V偏压下具有19.26 GHz的-3 dB带宽和0.492 6 A/W的响应度。 展开更多
关键词 gaaS ALgaaS 光电探测器 单行载流子 分布布拉格反射器 850 nm波长
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基于电源调制的L波段高性能GaAsHBT功率放大器
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作者 闭涛 陈景龙 《半导体技术》 北大核心 2024年第1期71-76,共6页
介绍了一种基于GaInP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺、电源调制的高峰均比、高功率附加效率L波段功率放大器芯片,可满足多载波聚合、大容量通信系统的要求。从器件层面控制基极表面复合、寄生电阻和电容,实现低膝点电压、跨导均匀的晶... 介绍了一种基于GaInP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺、电源调制的高峰均比、高功率附加效率L波段功率放大器芯片,可满足多载波聚合、大容量通信系统的要求。从器件层面控制基极表面复合、寄生电阻和电容,实现低膝点电压、跨导均匀的晶体管;在电路层面采用自适应偏置电路和谐波调谐等提升线性和功率附加效率。该放大器采用前级驱动加末级输出、驱动比为1∶6的两级晶体管架构和高低通搭配的匹配电路。测试结果表明,在5 V偏置电压下,该功率放大器的饱和输出功率大于35 dBm;在大功率回退时(8 dBm),增益变化小于2 dB,功率附加效率指标达到50%;对于调制带宽为25 kHz的16进制正交振幅调制(16QAM)通信系统,邻道功率比小于-38 dBc@27 dBm。 展开更多
关键词 功率放大器 电源调制 gaas异质结双极晶体管(HBT) 峰均比 邻道功率比(ACPR)
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VGF半绝缘GaAs单晶片的碱腐蚀特性研究
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作者 于妍 吕菲 +1 位作者 李纪伟 康洪亮 《电子工业专用设备》 2024年第1期48-50,共3页
研究了半绝缘GaAs的碱性腐蚀液的温度、配比对半绝缘GaAs晶片的几何参数、粗糙度、腐蚀速率等的影响,根据碱性腐蚀原理;解释了腐蚀液温度对晶片翘曲度的改善原因,以及腐蚀速率随温度和配比的变化规律;实验结果表明在碱性腐蚀液中晶片的... 研究了半绝缘GaAs的碱性腐蚀液的温度、配比对半绝缘GaAs晶片的几何参数、粗糙度、腐蚀速率等的影响,根据碱性腐蚀原理;解释了腐蚀液温度对晶片翘曲度的改善原因,以及腐蚀速率随温度和配比的变化规律;实验结果表明在碱性腐蚀液中晶片的TTV和粗糙度比较稳定。 展开更多
关键词 垂直梯度凝固法(VGF) 半绝缘 砷化镓(gaas) 碱性腐蚀
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弱光触发下GaAs光电导开关的载流子输运和热失效机制
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作者 司鑫阳 徐鸣 +2 位作者 王文豪 常家豪 王铖杰 《电工技术学报》 EI CSCD 北大核心 2024年第7期2153-2160,共8页
弱光触发下高倍增砷化镓光电导开关(GaAs PCSS)内以丝状电流为表现形式的载流子输运机制对其瞬态工作特性和寿命研究有重要意义。该文基于有限元方法构建了GaAs PCSS的物理模型,结合丝状电流的生热机制对1.5μJ弱光触发下开关的瞬态输... 弱光触发下高倍增砷化镓光电导开关(GaAs PCSS)内以丝状电流为表现形式的载流子输运机制对其瞬态工作特性和寿命研究有重要意义。该文基于有限元方法构建了GaAs PCSS的物理模型,结合丝状电流的生热机制对1.5μJ弱光触发下开关的瞬态输出电流和晶格温度进行了仿真分析,考察了偏置电场对GaAs PCSS输出特性的影响。通过不同时刻开关内部的瞬态电场、电子浓度和晶格温度等方面研究了高倍增模式下GaAs PCSS的光生载流子输运过程和损伤机理。结果表明,高密度丝状电流的存在伴随于高场畴的产生和发展。开关内部电场越高,负微分效应引起的载流子聚束现象越明显,相应的电子浓度和晶格温度值也越高;在浓度达1017 cm^(-3)数量级的等离子体通道中,阳极附近电场强度和晶格温度最大值分别为220 kV/cm和821.92 K。 展开更多
关键词 gaaS 光电导开关 高倍增模式 丝状电流 输运机制
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基于AlN钝化层的异面GaAs光电导开关初步研究
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作者 杨光晖 杨迎香 +2 位作者 程骏 吴小帅 胡龙 《通讯世界》 2024年第2期196-198,共3页
为解决GaAs光电导开关(PCSS)电极接触区局部高电场和热累积效应的问题。引入高热导率、高临界击穿电场强度及热稳定性优的AlN薄膜钝化GaAs PCSS,探索了AlN薄膜的制备工艺,分析了其元素成分、折射率及特征击穿电场强度(Eb)。同时制备了Al... 为解决GaAs光电导开关(PCSS)电极接触区局部高电场和热累积效应的问题。引入高热导率、高临界击穿电场强度及热稳定性优的AlN薄膜钝化GaAs PCSS,探索了AlN薄膜的制备工艺,分析了其元素成分、折射率及特征击穿电场强度(Eb)。同时制备了AlN-GaAs PCSS,分析了不同偏置电压下PCSS的瞬态特性,探究了GaAs PCSS的损伤机制。结果表明,溅射功率为40 W、Ar:N2比为24:2、压强为0.8 Pa时,AlN薄膜的质量最优;在905 nm、2μJ、50 kV/cm下,AlN-GaAs PCSS输出幅值为9.6 kV、上升时间为450 ps、脉冲宽度为2.3 ns,初步验证AlN薄膜的引入在提升GaAs PCSS可靠性方面具有可行性。 展开更多
关键词 gaas PCSS ALN薄膜 钝化 瞬态特性 特征击穿电场强度
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Optical Properties of GaAs/AlGaAs Nanowires Grown on Pre-etched Si Substrates
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作者 ZHANG Zhihong MENG Bingheng +2 位作者 WANG Shuangpeng KANG Yubin WEI Zhipeng 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第10期1639-1646,共8页
GaAs-based nanomaterials are essential for near-infrared nano-photoelectronic devices due to their exceptional optoelectronic properties.However,as the dimensions of GaAs materials decrease,the development of GaAs nan... GaAs-based nanomaterials are essential for near-infrared nano-photoelectronic devices due to their exceptional optoelectronic properties.However,as the dimensions of GaAs materials decrease,the development of GaAs nanowires(NWs)is hindered by type-Ⅱquantum well structures arising from the mixture of zinc blende(ZB)and wurtzite(WZ)phases and surface defects due to the large surface-to-volume ratio.Achieving GaAs-based NWs with high emission efficiency has become a key research focus.In this study,pre-etched silicon substrates were combined with GaAs/AlGaAs core-shell heterostructure to achieve GaAs-based NWs with good perpendicularity,excellent crystal structures,and high emission efficiency by leveraging the shadowing effect and surface passivation.The primary evidence for this includes the prominent free-exciton emission in the variable-temperature spectra and the low thermal activation energy indicated by the variable-power spectra.The findings of this study suggest that the growth method described herein can be employed to enhance the crystal structure and optical properties of otherⅢ-Ⅴlow-dimensional materials,potentially paving the way for future NW devices. 展开更多
关键词 gaas nanowires gaas/Algaas core-shell structure crystal phase optical property
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8英寸半导电型GaAs单晶衬底的制备与性能表征
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作者 任殿胜 王志珍 +1 位作者 张舒惠 王元立 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第3期487-496,共10页
本文使用垂直梯度凝固(VGF)法制备了直径超过200 mm的Si掺杂GaAs单晶。通过多线切割、磨边、研磨、化学机械抛光和湿法化学清洗等加工工序制备出8英寸半导电型GaAs单晶衬底。使用X射线衍射、位错密度检测、霍尔测试、非接触式表面电阻... 本文使用垂直梯度凝固(VGF)法制备了直径超过200 mm的Si掺杂GaAs单晶。通过多线切割、磨边、研磨、化学机械抛光和湿法化学清洗等加工工序制备出8英寸半导电型GaAs单晶衬底。使用X射线衍射、位错密度检测、霍尔测试、非接触式表面电阻率测试、光致发光测试和晶圆表面缺陷检测等对8英寸GaAs衬底的晶体质量、位错、电学性能和表面质量等特性进行了测试分析。结果表明:衬底(400)衍射峰半峰全宽低于0.009°;平均位错密度低于30 cm^(-2),其中,晶体头部平均位错密度为1.7 cm^(-2),且有98.87%的面积位错密度为0;衬底面内电阻率标准差小于6%,面内光致发光强度标准差小于4%,≥0.2μm的表面光点缺陷(LPD)个数小于10。上述结果表明,所制备的8英寸GaAs衬底质量优异,满足外延器件对高质量衬底的要求。 展开更多
关键词 gaaS 垂直梯度凝固 8英寸 单晶衬底 位错密度
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Highly Sensitive Photodetectors Based on WS_(2) Quantum Dots/GaAs Heterostructures
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作者 LI Xianshuai LIN Fengyuan +4 位作者 HOU Xiaobing LI Kexue LIAO Lei HAO Qun WEI Zhipeng 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第10期1699-1706,共8页
The performance of the photodetector is significantly impacted by the inherent surface faults in GaAs nanowires(NWs).We combined three-dimensional(3D)gallium arsenide nanowires with zero-dimensional(0D)WS_(2) quantum ... The performance of the photodetector is significantly impacted by the inherent surface faults in GaAs nanowires(NWs).We combined three-dimensional(3D)gallium arsenide nanowires with zero-dimensional(0D)WS_(2) quantum dot(QDs)materials in a simple and convenient way to form a heterogeneous structure.Various performance enhancements have been realized through the formation of typeⅡenergy bands in heterostructures,opening up new research directions for the future development of photodetector devices.This work successfully fabricated a high-sensitivity photodetector based on WS_(2)QDs/GaAs NWs heterostructure.Under 660 nm laser excitation,the photodetector exhibits a responsivity of 368.07 A/W,a detectivity of 2.7×10^(12)Jones,an external quantum efficiency of 6.47×10^(2)%,a low-noise equivalent power of 2.27×10^(-17)W·Hz^(-1/2),a response time of 0.3 s,and a recovery time of 2.12 s.This study provides a new solution for the preparation of high-performance GaAs detectors and promotes the development of optoelectronic devices for GaAs NWs. 展开更多
关键词 gaas nanowires WS_(2) quantum dots PHOTODETECTORS type-Ⅱenergy band structure
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Zn、Si掺杂GaAs纳米线的发光性能
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作者 郎天宇 王海珠 +2 位作者 于海鑫 王登魁 马晓辉 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2024年第7期234-241,共8页
为探明掺杂对硅基GaAs纳米线发光性能的影响机理,采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术,以气-液-固(VLS)生长机制为基础,在硅基上实现了Zn和Si掺杂的GaAs纳米线制备。通过变温、变功率光致发光(PL)等表征手段发现,未掺杂与Si掺杂GaAs... 为探明掺杂对硅基GaAs纳米线发光性能的影响机理,采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术,以气-液-固(VLS)生长机制为基础,在硅基上实现了Zn和Si掺杂的GaAs纳米线制备。通过变温、变功率光致发光(PL)等表征手段发现,未掺杂与Si掺杂GaAs纳米线具有更优异的发光质量,带隙随温度的变化规律符合Varshni公式,发光来源为自由激子复合(α>1)。而Zn掺杂纳米线的发光峰出现极大展宽,发光来源为缺陷或杂质相关跃迁(α<1),峰位随激发功率的变化规律与P^(1/3)成正比。结合透射电子显微镜(TEM)测试结果进一步表明,Zn掺杂纳米线中出现了纤锌矿/闪锌矿(WZ/ZB)混合结构,是导致GaAs纳米线发光质量变差的主要原因。 展开更多
关键词 材料 发光性能 金属有机物化学气相沉积 掺杂gaas纳米线
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肥胖合并进行性肌无力确诊GAA基因变异导致的糖原贮积病Ⅱ型1例
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作者 沈珍珍 符莉 《浙江医学》 CAS 2024年第16期1754-1756,共3页
由溶酶体内酸性α-葡萄糖苷酶(GAA)基因变异导致的糖原贮积病Ⅱ型属于遗传代谢病,该基因变异表现多样,临床可呈现众多不同特征。本文回顾性分析2023年1月起在上海市徐汇区中心医院儿科门诊的1例GAA基因突变致糖原贮积病Ⅱ型晚发型肥胖... 由溶酶体内酸性α-葡萄糖苷酶(GAA)基因变异导致的糖原贮积病Ⅱ型属于遗传代谢病,该基因变异表现多样,临床可呈现众多不同特征。本文回顾性分析2023年1月起在上海市徐汇区中心医院儿科门诊的1例GAA基因突变致糖原贮积病Ⅱ型晚发型肥胖女童的临床资料,并进行文献复习。患儿存在肥胖、慢性进行性左下肢乏力、步态异常,乳酸脱氢酶及肌酸激酶升高,GAA酶活性降低,进一步根据基因检测结果,确诊为糖原贮积病Ⅱ型晚发型。临床遇到所有不明原因的进行性肌无力的患儿无论伴或不伴肌酶异常,需高度怀疑存在糖原贮积病,尤其对于肥胖儿童仍要警惕,并尽早对疑似患儿行GAA酶活性测定及基因检测以实现早期诊断和精准治疗。 展开更多
关键词 gaa基因 糖原贮积病Ⅱ型 进行性肌无力 肥胖 儿童
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星载微波组件GaAs放大芯片的失效分析
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作者 许冰 《电子工艺技术》 2024年第4期15-19,28,共6页
针对某星载微波组件老练试验中GaAs放大芯片失效问题,从内部目检、Ⅰ-Ⅴ特性测试、电致发光检测以及密封管壳内部气体成分检测方面进行了综合分析。问题定位于GaAs放大芯片“氢中毒”。通过试验,将微波组件金属管壳进行高温真空烘烤除氢... 针对某星载微波组件老练试验中GaAs放大芯片失效问题,从内部目检、Ⅰ-Ⅴ特性测试、电致发光检测以及密封管壳内部气体成分检测方面进行了综合分析。问题定位于GaAs放大芯片“氢中毒”。通过试验,将微波组件金属管壳进行高温真空烘烤除氢,同时在组件中增加吸氢材料,能有效避免GaAs放大芯片“氢中毒”问题。 展开更多
关键词 微波组件 gaas放大芯片 氢中毒
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空间GaInP/GaAs/Ge三结太阳电池结构参数对电学性能影响机理研究
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作者 王畅 《材料科学》 2024年第3期269-274,共6页
本文使用计算机模拟了三结GaInP/GaAs/Ge太阳电池,通过改变顶电池GaInP、中电池GaAs厚度以及掺杂浓度等结构参数,得出了电池的光生载流子收集效率和电学特性之间的规律,揭示了太阳电池结构参数对电学性能影响的内在物理机制。结果表明,... 本文使用计算机模拟了三结GaInP/GaAs/Ge太阳电池,通过改变顶电池GaInP、中电池GaAs厚度以及掺杂浓度等结构参数,得出了电池的光生载流子收集效率和电学特性之间的规律,揭示了太阳电池结构参数对电学性能影响的内在物理机制。结果表明,发射区厚度变化主要影响短波区域,基区厚度变化主要影响长波区域。顶电池GaInP发射区厚度增加,短路电流、开路电压先增后降;基区厚度增加,短路电流降低,最大功率随短路电流的变化而变化。中电池GaAs厚度增大,短路电流整体呈降低趋势,开路电压略有升高。GaInP工作区掺杂浓度升高,电学性能几乎不发生改变;GaAs工作区掺杂浓度升高,开路电压略有增加,短路电流和最大功率均呈下降趋势。可见GaInP的掺杂浓度对电池的影响远远低于GaAs。 展开更多
关键词 三结gaas太阳电池 计算机仿真 电学性能
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基于GaAs工艺的超宽带低插入损耗高通滤波器
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作者 王文斌 闫慧君 +3 位作者 姜严 吴啸鸣 张圣康 施永荣 《电子与封装》 2024年第10期65-68,共4页
基于GaAs工艺设计了一款超宽带低插入损耗高通滤波器,在传统的高通滤波器中加入LC并联谐振电路,构建了一种新颖的拓扑结构,形成了高电阻、低电流的电路条件,同时促进了滤波器单元间的内部耦合,提升了带外抑制能力,改善了电路的陡降性。... 基于GaAs工艺设计了一款超宽带低插入损耗高通滤波器,在传统的高通滤波器中加入LC并联谐振电路,构建了一种新颖的拓扑结构,形成了高电阻、低电流的电路条件,同时促进了滤波器单元间的内部耦合,提升了带外抑制能力,改善了电路的陡降性。利用ADS仿真软件进行仿真设计,并对芯片进行了流片验证。该款高通滤波器的截止频率为28 GHz,带内插入损耗小于1.8 dB,芯片尺寸为1.65 mm×0.635 mm×0.1 mm,在DC~2 GHz的带外抑制大于等于77 dB,在DC~4 GHz时陡降为135 dB。 展开更多
关键词 高通滤波器 gaaS ADS 超宽带
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基于0.15μm GaAs工艺的高阻带抑制低通滤波器设计
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作者 姜严 吴啸鸣 +3 位作者 闫慧君 王文斌 嵇华龙 施永荣 《电子与封装》 2024年第10期69-72,共4页
射频低通滤波器是射频电路的重要组件之一,它基于电感和电容的特性,具有阻止高频信号而通过低频信号的作用。基于GaAs集成无源器件技术,使用ADS仿真软件,在滤波器设计中的特定位置使用不同品质因数(Q值)的电感,最终设计实现了一款性能... 射频低通滤波器是射频电路的重要组件之一,它基于电感和电容的特性,具有阻止高频信号而通过低频信号的作用。基于GaAs集成无源器件技术,使用ADS仿真软件,在滤波器设计中的特定位置使用不同品质因数(Q值)的电感,最终设计实现了一款性能优良的高阻带抑制低通滤波器。测试结果表明,在通带DC~17 GHz内,滤波器插入损耗≤2.28 dB,回波损耗≥14.5 dB,其带外抑制在22 GHz处达到23 dB,在26~50 GHz处≥43 dB,芯片尺寸为1.4 mm×0.55 mm×0.1 mm,该滤波器性能优异。 展开更多
关键词 低通滤波器 gaaS 集成无源器件 高阻带
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基于0.15μm GaAs pHEMT工艺的低噪声放大器设计
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作者 李成成 陈珍 +1 位作者 赵唯一 刘敏 《集成电路应用》 2024年第2期38-40,共3页
阐述一款源极负反馈结构的低噪声放大器设计,它基于0.15μm GaAs pHEMT工艺,采用微带线进行反馈和双边匹配,极大程度改善电路的噪声、增益和稳定性。放大器采用单电阻偏置方式,实现2V单电源供电,静态电流为78.9mA。它的中心频率为2.4GHz... 阐述一款源极负反馈结构的低噪声放大器设计,它基于0.15μm GaAs pHEMT工艺,采用微带线进行反馈和双边匹配,极大程度改善电路的噪声、增益和稳定性。放大器采用单电阻偏置方式,实现2V单电源供电,静态电流为78.9mA。它的中心频率为2.4GHz,在2.1~2.7GHz频段内最大增益大于16dB,增益平坦度在±0.6dB内,实际噪声系数小于1.5dB,系统在全频带内非常稳定,可适用于无线系统接收端前端设计。 展开更多
关键词 电路设计 低噪声放大器 源极负反馈 gaaS 微带线
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基于不同衬底角度的GaInP/GaAs/InGaAs倒置三结太阳电池性能研究
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作者 朱鸿根 《光源与照明》 2024年第8期37-39,共3页
带隙组合为1.9/1.42/1.0 eV的三结GaAs太阳电池具有很好的电流匹配,AM0光谱下理论效率可达38%。由于不同衬底角度生长倒置三结的性能研究报道较少,文章分别采用6°和15°偏向角生长GaInP/GaAs/InGaAs倒置三结太阳电池进行研究,... 带隙组合为1.9/1.42/1.0 eV的三结GaAs太阳电池具有很好的电流匹配,AM0光谱下理论效率可达38%。由于不同衬底角度生长倒置三结的性能研究报道较少,文章分别采用6°和15°偏向角生长GaInP/GaAs/InGaAs倒置三结太阳电池进行研究,并研究其子电池性能差异。研究表明,6°衬底生长倒置三结表面粗糙度、翘曲,以及XRD均匀性均优于15°衬底。在性能方面,6°衬底电压比15°衬底高13 mV,900~100 nm和1 100~1 250 nm范围内QE光谱响应更高。 展开更多
关键词 衬底角度 倒置生长 三结gaas太阳电池 晶格失配
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基于GaAs pHEMT工艺的宽带6位数字移相器MMIC 被引量:1
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作者 周守利 顾磊 +1 位作者 张景乐 吴建敏 《南京大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2023年第1期183-188,共6页
基于0.15μm GaAs pHEMT (pseudomorphic High Electron Mobility Transistor)工艺,研制了一款6位数字移相器微波单片集成电路(Monolithic Microwave Integrated Circuit,MMIC).该移相器由六个基本移相位级联组成,工作频带为10~18 GHz,... 基于0.15μm GaAs pHEMT (pseudomorphic High Electron Mobility Transistor)工艺,研制了一款6位数字移相器微波单片集成电路(Monolithic Microwave Integrated Circuit,MMIC).该移相器由六个基本移相位级联组成,工作频带为10~18 GHz,步进值为5.625°,移相范围为0~360°,具有64个移相态.根据最优拓扑选择理论,5.625°,11.25°,22.5°移相位采用桥T型结构,降低了移相器的插损及面积;采用开关型高低通滤波器结构实现45°,90°,180°移相位,提高了大移相位的移相精度,并有效降低了寄生调幅.实测结果表明:64态移相寄生调幅均方根误差小于0.6 dB,移相输入输出回波损耗低于-11 dB,移相均方根误差小于4.2°,基态插入损耗低于8.6 dB.芯片尺寸为3.35 mm×1.40 mm.该数字移相器具有宽频带、高移相精度、尺寸小的特点,主要用于微波相控阵T/R组件、无线通信等领域. 展开更多
关键词 gaas pHEMT 宽带 数字移相器 微波单片集成电路
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GaInP/GaAs/Ge三结太阳电池100 MeV质子位移辐照损伤效应实验研究
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作者 王祖军 尹利元 +7 位作者 王兴鸿 张琦 唐宁 郭晓强 盛江坤 缑石龙 晏石兴 李传洲 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第12期2348-2356,共9页
GaInP/GaAs/Ge三结太阳电池是当前航天器空间电源系统的核心元器件,其在空间辐射环境中遭受的辐照损伤会导致太阳电池性能参数衰降,甚至导致航天器供电系统功能失效。为获取GaInP/GaAs/Ge三结太阳电池高能质子辐照损伤退化规律,以国产Ga... GaInP/GaAs/Ge三结太阳电池是当前航天器空间电源系统的核心元器件,其在空间辐射环境中遭受的辐照损伤会导致太阳电池性能参数衰降,甚至导致航天器供电系统功能失效。为获取GaInP/GaAs/Ge三结太阳电池高能质子辐照损伤退化规律,以国产GaInP/GaAs/Ge三结太阳电池为研究对象,通过开展100 MeV质子不同注量下的辐照实验,分析质子位移损伤诱发GaInP/GaAs/Ge三结太阳电池的开路电压(V_(oc))、短路电流(I_(sc))、最大输出功率(P_(m))、光电转换效率(E_(ff))等辐射敏感参数的退化规律和损伤机理。结果表明:注量范围为1×10^(11)~2×10^(12)cm^(-2)时,V_(oc)、I_(sc)、P_(m)、E_(ff)的退化程度随辐照注量的增加而增大,当注量为2×10^(12)cm^(-2)时,P_(m)和E_(ff)归一化处理后的退化程度均为16.88%,与V_(oc)和I_(sc)相比,衰减更严重。对不同注量辐照所得V_(oc)、I_(sc)、P_(m)、E_(ff)进行拟合,获得了V_(oc)、I_(sc)、P_(m)、E_(ff)随辐照注量变化的特征曲线,根据该曲线可预估GaInP/GaAs/Ge三结太阳电池不同注量下性能的衰减幅度。 展开更多
关键词 GaInP/gaas/Ge三结太阳电池 质子辐照 位移损伤 辐射敏感参数
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基于GaAs PHEMT工艺的超宽带多通道开关滤波器组MMIC
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作者 王胜福 王洋 +3 位作者 李丽 于江涛 张仕强 李宏军 《半导体技术》 CAS 北大核心 2023年第1期48-53,共6页
基于0.25μm GaAs赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)工艺,研制了一款超宽带7路开关滤波器组单片微波集成电路(MMIC)芯片。芯片内集成了开关、驱动电路和带通滤波器,实现了开关滤波功能。开关采用反射式串-并联混合结构;译码器和驱动电路控... 基于0.25μm GaAs赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)工艺,研制了一款超宽带7路开关滤波器组单片微波集成电路(MMIC)芯片。芯片内集成了开关、驱动电路和带通滤波器,实现了开关滤波功能。开关采用反射式串-并联混合结构;译码器和驱动电路控制某一支路开关的导通或关断;带通滤波器由集总电感和电容组成。该开关滤波器组芯片通带频率覆盖0.8~18 GHz。探针测试结果表明,开关滤波器组芯片各个支路的中心插入损耗均小于8.5 dB,通带内回波损耗小于10 dB,典型带外衰减大于40 dB。为后续研发尺寸更小、性能更优的开关滤波器组提供了参考。 展开更多
关键词 gaas赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT) 超宽带 多通道滤波器 带通滤波器 开关滤波器组 单片微波集成电路(MMIC)
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GaAs及GaN微波毫米波多功能集成电路芯片综述
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作者 彭龙新 邹文静 +1 位作者 孔令峥 张占龙 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2023年第2期121-135,共15页
综合论述了GaAs和GaN微波毫米波的收发多功能芯片、幅相多功能芯片和GaAs限幅放大器集成芯片的发展状况、电路结构和性能特性,简述了收发多功能中的功率放大器和低噪声放大器的设计方法、幅相多功能中数字移相器和衰减器的设计方法,给... 综合论述了GaAs和GaN微波毫米波的收发多功能芯片、幅相多功能芯片和GaAs限幅放大器集成芯片的发展状况、电路结构和性能特性,简述了收发多功能中的功率放大器和低噪声放大器的设计方法、幅相多功能中数字移相器和衰减器的设计方法,给出了限幅低噪声放大器中限幅器的设计参考。 展开更多
关键词 砷化镓赝配高电子迁移率晶体管 氮化镓高电子迁移率晶体管 微波单片集成电路 多功能芯片 低噪声放大器 功率放大器 数控衰减器 数控移相器 开关 gaas数字电路
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