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离散谱折射率法分析深刻蚀、单模GaAs/GaAlAs脊形光波导 被引量:5
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作者 马慧莲 李瑾 +1 位作者 杨建义 王明华 《光子学报》 EI CAS CSCD 2000年第2期151-156,共6页
本文采用离散谱折射率法对深蚀刻、Ga As/ Ga Al As多层脊形光波导模式特性进行了具体分析和设计 ,获得了较大截面、低损耗的单模脊形光波导 .利用这种横向具有最大折射率差的深蚀刻脊形光波导不但可以提高多模干涉 (MMI)型器件的性能 ... 本文采用离散谱折射率法对深蚀刻、Ga As/ Ga Al As多层脊形光波导模式特性进行了具体分析和设计 ,获得了较大截面、低损耗的单模脊形光波导 .利用这种横向具有最大折射率差的深蚀刻脊形光波导不但可以提高多模干涉 (MMI)型器件的性能 ,而且在设计和制作弯曲波导、分支结构时 ,具有结构紧凑。 展开更多
关键词 离散谱折射率法 深刻蚀 光波导 gaas/gaalas
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基于GaAs/GaAlAs条形光波导的定向耦合器分析 被引量:5
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作者 肖金标 孙小菡 +1 位作者 张明德 丁东 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期705-707,共3页
运用基于级数展开法 (SEM)的三维光束传播法 (3D SEM BPM)分析了由GaAs/GaAlAs条形光波导构成的定向耦合器 .获得了这种定向耦合器所承载的偶模及奇模电场分布 ,其耦合长度随波导间距的增加近似指数增长 .模拟了光波在器件中的传输演变... 运用基于级数展开法 (SEM)的三维光束传播法 (3D SEM BPM)分析了由GaAs/GaAlAs条形光波导构成的定向耦合器 .获得了这种定向耦合器所承载的偶模及奇模电场分布 ,其耦合长度随波导间距的增加近似指数增长 .模拟了光波在器件中的传输演变情况 ,用条形光波导的基模在给定定向耦合器的左通道激励 ,传输 2 6 2mm之后模场转移至右通道 ,获得了交叉态 (CrossState) .另外 ,3D SEM BPM最终将BPM基本方程归结为一阶常微分方程组 ,方法简单 ;导出矩阵小 ,计算效率高 .处理边界条件时 ,引入正切函数变换将无限平面映射成单位平面 。 展开更多
关键词 gaas/gaalas 条形光波导 定向耦合器
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多功能2×2 GaAs/GaAlAs多模干涉型光开关分析 被引量:1
3
作者 肖金标 孙小菡 +3 位作者 蔡纯 张夕飞 朱建彬 张明德 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第8期1201-1204,共4页
提出了一种基于深刻蚀脊形光波导带模斑转换器的多功能 2× 2GaAs/GaAlAs多模干涉型光开关 ,并用变量变换级数展开法及三维有限差分束传播法对其进行了模拟分析与优化设计 .结果表明 ,通过控制多模波导中央的两段Schottky电极 ,器... 提出了一种基于深刻蚀脊形光波导带模斑转换器的多功能 2× 2GaAs/GaAlAs多模干涉型光开关 ,并用变量变换级数展开法及三维有限差分束传播法对其进行了模拟分析与优化设计 .结果表明 ,通过控制多模波导中央的两段Schottky电极 ,器件可实现交叉态、直通态及 3dB耦合器功能 ,并有较大的制作容差、较宽的工作带宽 ,只须一个多模波导 ,器件结构紧凑 .采用深刻蚀脊形光波导能够满足多模干涉型器件的精确自镜像要求 ,并使输入 /输出光波导在单模工作下有较大的横截面 ,较低的弯曲损耗及较小的耦合串扰 .通道末端引入的模斑转换器可方便地与单模光纤连接耦合 . 展开更多
关键词 光开关 多模干涉 gaas/gaalas 变量变换级数展开法 三维有限差分束传播法
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GaAs/GaAlAs单量子阱电光吸收和光调制 被引量:1
4
作者 朱龙德 能飞克 +3 位作者 王启明 陈正豪 谢苑林 顾世杰 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第3期202-209,共8页
制作并研究了GaAs/GaAlAs分别限制单量子阱台面条形单模波导电致吸收光调制器。量子阱宽度为100A,长度为700μm的器件,当传输光波长为8650A时TE偏振最大调制深度(开关比)为29.7dB,插入损耗吸收分量为3dB;TM偏振最大调制深度为28.5dB。... 制作并研究了GaAs/GaAlAs分别限制单量子阱台面条形单模波导电致吸收光调制器。量子阱宽度为100A,长度为700μm的器件,当传输光波长为8650A时TE偏振最大调制深度(开关比)为29.7dB,插入损耗吸收分量为3dB;TM偏振最大调制深度为28.5dB。用2V电压幅度可以得到15dB的开关比。光电导谱的测量表明,偏压从+0.5V变到-7V时吸收边的红移为600A,即量子阱中室温激子的共振吸收峰移动了96meV。单阱高场条件下首次观察到了导带第二能级电子和价带第一能级空穴间激子的共振吸收线的出现,增强和移动。 展开更多
关键词 gaas/gaalas 量子讲 电光吸收 调制
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电解液电反射法研究GaAs/GaAlAs多层结构材料 被引量:1
5
作者 王周成 彭瑞伍 钱佑华 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 1991年第3期184-187,共4页
在研究GaAs和GaAlAs电解液电反射谱的基础上,把电解液电反射方法与电化学可控阳极溶解技术结合起来,对GaAs/GaAlAs多层结构材料进行深度剖面分析。根据阳极溶解过程中电反射谱的变化,研究了多层结构材料的界面性质、p-n结位置和纵向铝... 在研究GaAs和GaAlAs电解液电反射谱的基础上,把电解液电反射方法与电化学可控阳极溶解技术结合起来,对GaAs/GaAlAs多层结构材料进行深度剖面分析。根据阳极溶解过程中电反射谱的变化,研究了多层结构材料的界面性质、p-n结位置和纵向铝组分分布。 展开更多
关键词 gaas/gaalas 半导体 电解液电反射
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GaAs/GaAlAs反应离子刻蚀腔面激光器 被引量:2
6
作者 庄婉如 杨培生 +1 位作者 陈纪瑛 李建中 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1991年第8期477-481,T001,共6页
采用反应离子刻蚀GaAs/GaAlAs双异质结构激光器的一个腔面,已经获得室温下连续激射的效果,其阈电流比解理腔面高18%左右,量子效率低14%左右.
关键词 gaas/gaalas 离子刻蚀 腔面 激光器
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GaAs/GaAlAs 单量子阱双区共腔激光器双稳特性与开关效应
7
作者 李长英 张长信 +1 位作者 郭韵 赵鹏涛 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第S2期25-25,共1页
GaAs/GaAlAs单量子阱双区共腔激光器双稳特性与开关效应李长英张长信郭韵赵鹏涛(西北大学物理系激光教研室西安710069)单量子阱光双稳激光器(Singlequantumwellaserdevice)是一种兼有... GaAs/GaAlAs单量子阱双区共腔激光器双稳特性与开关效应李长英张长信郭韵赵鹏涛(西北大学物理系激光教研室西安710069)单量子阱光双稳激光器(Singlequantumwellaserdevice)是一种兼有双稳、开关、存储整形与放大的多功能... 展开更多
关键词 单量子阱 gaas/gaalas 双区共腔 双稳特性 双稳激光器 温度特性曲线 使用寿命 开关效应 光电子器件 光通信系统
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GaAs/GaAlAs透射式光电阴极的分辨力特性分析
8
作者 闫金良 赵银女 朱长纯 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期252-254,共3页
  Ga As/ Ga Al As 透射式光电阴极的分辨力是第3 代微光像增强器的重要参数之一。从简化的二维扩散方程推导了 Ga As/ Ga Al As 透射式阴极的调制传递函数( Fm ,t) ,计算了2 μm 厚 Ga As 阴...   Ga As/ Ga Al As 透射式光电阴极的分辨力是第3 代微光像增强器的重要参数之一。从简化的二维扩散方程推导了 Ga As/ Ga Al As 透射式阴极的调制传递函数( Fm ,t) ,计算了2 μm 厚 Ga As 阴极层的 Ga As/ Ga Al As 透射阴极的理论分辨力特性曲线,并讨论了它与若干参数的关系。据此得出在设计 Ga As/ Ga Al As 透射式光电阴极时应主要考虑最大量子效率,分辨力的损失并不限制系统的性能。 展开更多
关键词 成像器件 gaas/gaalas光电阴极 分辨力 量子效率 第3代像增强器
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GaAs/GaAlAs激光放大器的双稳态特性研究
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作者 江剑平 董杰 +1 位作者 黄小康 李艳和 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 1989年第4期20-22,共3页
我们实验研究了Gn_xAl_(1-x)As法珀型激光放大器在失谐状态下的双穗态特性并给出了理论分析。双稳态特性是由入射光的折射率改变所致。实验结果与理论分析结果基本一致。最小临界触发功率约为30μW。
关键词 激光放大器 双稳态 gaas/gaalas
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GaAs/GaAlAs透射式光电阴极发射电子的平均横向能量
10
作者 闫金良 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期255-257,共3页
用扫描电镜观测了 Ga As/ Ga Al As 透射式光电阴极的表面形貌,计算了阴极表面形貌对阴极发射电子的平均横向能量的贡献,测量了阴极激活过程中阴极发射电子的平均横向能量随激活时间的变化。结果表明, Ga As/ Ga ... 用扫描电镜观测了 Ga As/ Ga Al As 透射式光电阴极的表面形貌,计算了阴极表面形貌对阴极发射电子的平均横向能量的贡献,测量了阴极激活过程中阴极发射电子的平均横向能量随激活时间的变化。结果表明, Ga As/ Ga Al As 阴极表层的 Cs/ O 激活层对电子的散射是导致阴极发射电子的平均横向能量值增高的根本原因。最后提出减少阴极发射电子的平均横向能量的技术途径。 展开更多
关键词 成像器件 gaas/gaalas光电阴极 平均横向发射能量 表面形貌 Cs/O激活层
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Modulation transfer function characteristic of uniform-doping transmission-mode GaAs/GaAlAs photocathode 被引量:2
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作者 任玲 常本康 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第8期398-402,共5页
The resolution characteristic can be obtained by the modulation transfer function (MTF) of a GaAs/GaA1As photocathode. After establishing the theoretical model of GaAs(100)-oriented atomic configuration and the fo... The resolution characteristic can be obtained by the modulation transfer function (MTF) of a GaAs/GaA1As photocathode. After establishing the theoretical model of GaAs(100)-oriented atomic configuration and the formula for the ionized impurity scattering of the non-equilibrium carriers, this paper calculates the trajectories of photoelectrons in a photocathode. Thus the distribution of photoelectron spots on the emit-face is obtained, which is namely the point spread function. The MTF is obtained by Fourier transfer of the line spread function obtained from the point spread function. The MTF obtained from these calculations is shown to depend heavily on the electron diffusion length, and enhanced considerably by decreasing the electron diffusion length and increasing the doping concentration. Furthermore, the resolution is enhanced considerably by increasing the active-layer thickness, especially at high spatial frequencies. The best spatial resolution is 860 lp/mm, for the GaAs photocathode of doping concentration 1 ×10^19 cm 3 electron diffusion length 3.6 μm and the active-layer thickness 2 μm, under the 633-nm light irradiated. This research will contribute to the future improvement of the cathode's resolution for preparing a high performance GaAs photocathode, and improve the resolution of a low light level image intensifier. 展开更多
关键词 gaas/gaalas photocathode uniform-doping modulation transfer function spatial res-olution
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GaAs/GaAlAs光阴极的XPS深度剖析 被引量:1
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作者 冯刘 张连东 +5 位作者 刘晖 程宏昌 高翔 陈高善 史鹏飞 苗壮 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第8期803-807,共5页
GaAs光阴极是一种高性能光阴极,它由GaAs/GaAlAs外延片和玻璃基底粘接而成。为了了解外延片的元素深度分布和各层的均匀性,利用X射线光电子能谱和Ar离子刻蚀来进行深度剖析。结果表明,由于送样过程中曾短暂暴露大气,因而GaAs光阴极表面... GaAs光阴极是一种高性能光阴极,它由GaAs/GaAlAs外延片和玻璃基底粘接而成。为了了解外延片的元素深度分布和各层的均匀性,利用X射线光电子能谱和Ar离子刻蚀来进行深度剖析。结果表明,由于送样过程中曾短暂暴露大气,因而GaAs光阴极表面吸附有少量C、O污染,并且GaAs表层被氧化;GaAs层中的Ga、As元素含量非常均匀,约为3∶2,富Ga;而GaAlAs层中的Ga、Al和As含量比约为1∶1∶2,Ga略少于Al,但稍大于Ga0.42Al0.58As的比例。Ar离子枪采用3kV、1μA模式,刻蚀面积1 mm×1 mm,结合C-V测试得到的各层厚度数据,可以计算出该模式下各层的刻蚀速率,GaAs层的刻蚀速率约为1.091 nm/s,而GaAlAs层约为0.790 nm/s,并且推算出GaAs的溅射产额为4.00,GaAlAs的溅射产额为2.90。 展开更多
关键词 深度剖析 gaas X射线光电子能谱 刻蚀速率 溅射产额
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GaAs/GaAlAs透射式光电阴极的分辨力特性分析
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作者 闫金良 《应用光学》 CAS CSCD 1998年第5期17-20,共4页
从简化的二维扩散方程出发,推导GaAs/GaAlAs透射式阴极的调制传递函数表达式,计算2μm厚GaAs阴极层的GaAs/GaAlAs透射阴极的理论分辨力特性曲线,并讨论它与若干参数的关系。
关键词 gaas/gaalas透射式光电阴极 分辨力 量子效率 三代像增强器 二维扩散方程
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离散谱折射率法优化设计深刻蚀、单模GaAs/GaAlAs脊形光波导
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作者 马慧莲 杨建义 +1 位作者 江晓清 王明华 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期481-485,共5页
采用离散谱折射率法对深刻蚀 Ga As/ Ga Al As多层脊形光波导的特性作了详细的理论分析 ,并对所获得的较大截面、低损耗的单模脊形光波导的制作容差性作了进一步的分析 .计算表明 ,用离散谱折射率法获得的单模脊形光波导具有较大的制作... 采用离散谱折射率法对深刻蚀 Ga As/ Ga Al As多层脊形光波导的特性作了详细的理论分析 ,并对所获得的较大截面、低损耗的单模脊形光波导的制作容差性作了进一步的分析 .计算表明 ,用离散谱折射率法获得的单模脊形光波导具有较大的制作容差性 . 展开更多
关键词 离散谱折射率法 深刻蚀 gaas/gaaIAs 单模 砷化镓 脊形光波导 优化设计
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大功率GaAs/GaAlAs单量子阱激光器
15
作者 张正德 黄以明 章其林 《半导体情报》 1993年第3期48-53,共6页
采用MOCVD技术在φ40mmGaAs衬底上研制成大功率GaAs/GaAlAs单量子阱激光器。该激光器激射波长为830~870nm,室温CW阈值电流密度小于350A/cm^2,最低值为310A/cm^2,输出光功率大于200mW/(单面,未镀膜)。
关键词 汽相淀积 gaas/gaalas 激光器
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新型GaAs/GaAlAs非对称量子阱红外光电导探测器
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作者 史衍丽 邓军 +2 位作者 杜金玉 沈光地 尹洁 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期269-272,共4页
提出一种新型 Ga As/ Ga Al As子带间光吸收的红外光电导探测机理 ,利用 MOCVD系统进行器件材料的生长 ,研制了 2 0 0μm× 2 0 0μm的台面形式单管 ,测到了明显的红外光电流信号及阱间共振遂穿效应造成的负阻震荡现象 ,对器件的性... 提出一种新型 Ga As/ Ga Al As子带间光吸收的红外光电导探测机理 ,利用 MOCVD系统进行器件材料的生长 ,研制了 2 0 0μm× 2 0 0μm的台面形式单管 ,测到了明显的红外光电流信号及阱间共振遂穿效应造成的负阻震荡现象 ,对器件的性能测试结果表明 ,器件的光电流响应和信噪比随着阱数增加而增加 ,器件噪声比常规 Ga As/ Ga Al 展开更多
关键词 gaalas 非对称量子阱 红外探测器 砷化镓
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GaAs/GaAlAs阴极粘结工艺的X射线双晶衍射测量 被引量:1
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作者 闫金良 向世明 《红外技术》 EI CSCD 北大核心 1998年第2期33-37,共5页
分析了GaAs/GaAlAs阴极粘结工艺中应力产生的根源和晶体中应力对X射线双晶衍射峰的宽度和强度的影响。用X射线双晶衍射仪测量了阴极和玻璃热粘结工艺过程中阴极材料外延层和衬底的双晶回摆曲线。实验结果表明,GaAs/... 分析了GaAs/GaAlAs阴极粘结工艺中应力产生的根源和晶体中应力对X射线双晶衍射峰的宽度和强度的影响。用X射线双晶衍射仪测量了阴极和玻璃热粘结工艺过程中阴极材料外延层和衬底的双晶回摆曲线。实验结果表明,GaAs/GaAlAs阴极粘结工艺没有带来明显的附加应力,外延层衍射角度的展宽是由于GaAs阴极组件窗玻璃的非晶态性所致。 展开更多
关键词 砷化镓 阴极 玻璃 X射线双晶衍射 光电子学
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Study of GaAs/GaAlAs Multilayer Structural Materials by Electrolyte Electroreflectance
18
作者 Wang, Zhoucheng Peng, Ruiwu Qian, Youhua 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1990年第2期131-134,共4页
Electrolyte electroreflectance (EER) has been widely employed to investigate the electronic energy band structure and related physical properties of semiconductors. The electrolyte electroreflectance (EER) method comb... Electrolyte electroreflectance (EER) has been widely employed to investigate the electronic energy band structure and related physical properties of semiconductors. The electrolyte electroreflectance (EER) method combined with electrochemical anodic dissolution was used to study GaAs/GaAlAs multilayer structural materials. According to variation of the EER spectra during anodic dissolution the characteristics of GaAs/GaAlAs multilayer structural materials such as properties of the interface, p-n junction positions and Al content profiles were obtained. 展开更多
关键词 gaas AI EER Study of gaas/gaalas Multilayer Structural Materials by Electrolyte Electroreflectance
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Mach-Zehnder型GaAs/GaAlAs行波光调制器的微波特性分析 被引量:1
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作者 赵旭 杨建义 王明华 《微波学报》 CSCD 北大核心 2000年第5期522-526,共5页
提出利用 n+重掺杂层的慢波效应研制 Mach- Zehnder干涉型行波光调制器 ,并通过在相对介电常数 εr中引入与电导率有关的虚部 σ/ ωε0 ,拓展了直线法对介质损耗的计算。文中指出在这种共面微带线中奇模和偶模的不同作用 ,重点分析和... 提出利用 n+重掺杂层的慢波效应研制 Mach- Zehnder干涉型行波光调制器 ,并通过在相对介电常数 εr中引入与电导率有关的虚部 σ/ ωε0 ,拓展了直线法对介质损耗的计算。文中指出在这种共面微带线中奇模和偶模的不同作用 ,重点分析和研究了器件行波电极的微波特性 ,从而设计出理论上可达 4 6GHz带宽的高速光波导调制器。 展开更多
关键词 砷化镓 M-Z型调制器 行波调制器 微波特性分析
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Resolution Characteristics of GaAs/GaAlAs Transmission Photocathode
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作者 YAN Jin-liang,ZHAO Yin-nu,ZHU Chang-chun (School of Electron. & Inform.Eng.,Xi’an Jiaotong University,Xi’an 710049,CHN) 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 1999年第2期96-100,共5页
The resolution characteristic of GaAs/GaAlAs transmission photocathode is an important parameter in third generation intensifiers. The modulation transfer function of GaAs/GaAlAs transmission photo... The resolution characteristic of GaAs/GaAlAs transmission photocathode is an important parameter in third generation intensifiers. The modulation transfer function of GaAs/GaAlAs transmission photocathode is derived from a simple two-dimensional diffusion equation. The theoretical resolution characteristic of a 2 μm thick GaAs/GaAlAs transmission photocathode is calculated. The relationship between resolution and parameters in GaAs/GaAlAs transmission photocathode is discussed. A conclusion is shown that one can design the GaAs/GaAlAs transmission photocathode for maximum quantum efficiency, since the sacrifice in the resolution doesn't limit system performances. 展开更多
关键词 gaas/gaalas Photocathode Quantum Yield RESOLUTION Third Generation Intensifier CLC number:TN383.4 Document code:A
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